本实用新型专利技术涉及的是集成电路光学检测技术领域，尤其涉及一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置。包括固定限位块、活动限位块、X轴调整滑台、托料平台底板、Y轴调整滑台和支撑柱销；所述的托料平台底板二侧装有固定限位块，所述的固定限位块通过支撑柱销固定在底板上，托料平台底板上部装有X轴调整滑台，X轴调整滑台上部装有Y轴调整滑台，所述的Y轴调整滑台二侧装有活动限位块。所述的活动限位块与固定限位块相对应，构成集成电路成膜基片围护栏，用于限位固定和保护检测集成电路成膜陶瓷基片。基片。基片。
【技术实现步骤摘要】
一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置
[0001]本技术涉及的是集成电路光学检测
，尤其涉及一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置。
技术介绍
[0002]一种集成电路成膜光学检测系统通过光学检测系统，对集成电路成膜进行高精度检测。首先根据所检测集成电路成膜基片大小，调节托料平台上的定位块，然后将其集成电路成膜基片放入托料平台。薄膜集成电路型号多，尺寸不一致，并且电路是在陶瓷基片上阵列制备而成。所以要求托料平台尺寸可变，并能够保护集成电路成膜陶瓷基片。
技术实现思路
[0003]本技术目的是针对上述要求提供一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置，与集成电路成膜光学检测系统配套使用，集成电路成膜光学检测可变托料平台装置，能根据所检测集成电路成膜陶瓷基片大小，方便调节底板上的活动限位块与固定限位块位置，将其所检测集成电路成膜陶瓷基片放入托料平台底板上的Y轴调整滑台上，限位固定，便于集成电路成膜光学检测系统通过光学检测系统，对集成电路成膜进行高精度检测。
[0004]一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置是采取以下技术方案实现：
[0005]一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置包括固定限位块、活动限位块、X轴调整滑台、托料平台底板、Y轴调整滑台、支撑柱销、放取料口一、放取料口二。
[0006]所述的托料平台底板二侧装有固定限位块，所述的固定限位块通过支撑柱销固定在底板上。托料平台底板上部装有X轴调整滑台，X轴调整滑台上部装有Y轴调整滑台。所述的Y轴调整滑台二侧装有活动限位块。所述的活动限位块与固定限位块相对应，构成集成电路成膜基片围护栏，用于限位固定和保护检测集成电路成膜陶瓷基片。
[0007]所述的X轴调整滑台设置有X轴向调整滑台、X轴向调节螺杆、X轴向调节螺母、X轴滑轨。
[0008]所述的Y轴调整滑台设置有Y轴向调整滑台、Y轴向调节螺杆、Y轴向调节螺母、Y轴滑轨。
[0009]所述的固定限位块与活动限位块之间设置有放取料口一、放取料口二，便于人工放取检测集成电路成膜基片。
[0010]所述的固定限位块、活动限位块采用高分子材料制成，用于保护集成电路成膜陶瓷基片。
[0011]一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置与集成电路成膜光学检测系统配套使用，通过集成电路成膜光学检测系统通过光学检测系统，对集成电路成膜进行高精度检测时，首先根据所检测集成电路成膜陶瓷基片大小，通过X轴调整滑台和Y轴调整滑台调节托料平台底板上的活动限位块与固定限位块位置，然后将其集成电路成膜陶瓷基片放入托料平台底板上的Y轴调整滑台上，再进一步通过X轴调整滑台和Y轴调整滑台调节托料平
台底板上的活动限位块与固定限位块位置，将所检测集成电路成膜陶瓷基片限位固定。集成电路成膜光学检测可变托料平台装置在X轴模组和Y轴模组的带动下，送到高像素光学彩色工业相机的镜头正下方；Z轴模组带动整个光学系统上下移动，进行对焦；随后，再通过X
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Y轴模组，移动集成电路成膜光学检测可变托料平台装置，对集成电路成膜陶瓷基片上阵列的每个线路单元进行检测。通过集成电路光学检测软件系统，判断产品是否存在缺陷，如果存在缺陷，再通过软件算法，算出产品缺陷所在区域的中心值，然后运动控制系统将产品上缺陷所在中心点对准标记笔，标记笔在滑轨气缸作用下，向下做标记。从而在产品上直接准确地标记出缺陷所在位置，方便操作人员对集成电路成膜陶瓷基片上的缺陷单元进行后续处理。检测过的集成电路成膜陶瓷基片，从放取料口一或放取料口二取出。
[0012]一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置与集成电路成膜光学检测系统配套使用，集成电路成膜光学检测可变托料平台装置，能根据所检测集成电路成膜陶瓷基片大小，方便调节底板上的活动限位块与固定限位块位置，将其所检测集成电路成膜陶瓷基片放入托料平台底板上的Y轴调整滑台上，限位固定，便于集成电路成膜光学检测系统通过光学检测系统，对集成电路成膜进行高精度检测。
[0013]集成电路成膜光学检测可变托料平台装置能足薄膜集成电路型号多，尺寸不一致，并且电路是在陶瓷基片上阵列制备而成不同产品需要。所述的固定限位块、活动限位块采用高分子材料制成，用于保护集成电路成膜陶瓷基片，检测时不会损伤，提高了集成电路成品率，能满足工业自动化生产需要。
附图说明
[0014]以下将结合附图对本技术作进一步说明：
[0015]图1是一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置结构立体图。
[0016]图2是一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置俯视图。
[0017]图3是一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置与集成电路成膜光学检测系统配套使用立体示意图。
[0018]图中：1、固定限位块、2、集成电路成膜陶瓷基片，3、活动限位块，4、X轴调整滑台，5、托料平台底板，6、Y轴调整滑台，7、支撑柱销，8、放取料口一，9、放取料口二，10、X轴模组，11、Y轴模组，12、Z轴模组，13、工业相机，14、镜头，15、滑轨气缸，16、标记笔。
具体实施方式
[0019]参照附图1
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3，一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置包括固定限位块1、活动限位块3、X轴调整滑台4、托料平台底板5、Y轴调整滑台6、支撑柱销7、放取料口一8、放取料口二9。
[0020]所述的托料平台底板5二侧装有固定限位块1，所述的固定限位块1通过支撑柱销7固定在底板5上。托料平台底板5上部装有X轴调整滑台4，X轴调整滑台4上部装有Y轴调整滑台6。所述的Y轴调整滑台6二侧装有活动限位块3。所述的活动限位块3与固定限位块1相对应，构成集成电路成膜基片2围护栏，用于限位固定和保护检测集成电路成膜陶瓷基片2。
[0021]所述的X轴调整滑台4设置有X轴向调整滑台、X轴向调节螺杆、X轴向调节螺母、X轴滑轨。
[0022]所述的Y轴调整滑台6设置有Y轴向调整滑台、Y轴向调节螺杆、Y轴向调节螺母、Y轴滑轨。
[0023]所述的固定限位块1与活动限位块3之间设置有放取料口一8、放取料口二9，便于人工放取检测集成电路成膜基片2。
[0024]所述的固定限位块1、活动限位块3采用高分子材料制成，用于保护集成电路成膜陶瓷基片。
[0025]一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置与集成电路成膜光学检测系统配套使用，通过集成电路成膜光学检测系统通过光学检测系统，对集成电路成膜进行高精度检测时，首先根据所检测集成电路成膜陶瓷基片2大小，通过X轴调整滑台4和Y轴调整滑台6调节托料平台底板5上的活动限位块3与固定限位块1位置，然后将其集成电路成膜陶瓷基片2放入托料平台底板5上的Y轴调整滑台上，再进一步通过X轴调整滑台4和Y轴调整滑台6调节托料平台底板5上的活动限位块3与固定限位块1位置，将所检测集成电路成膜陶瓷基片2限位固定。集成电路成膜光学检测可变托料平台装置在X轴模组10和Y轴模组11的带动下，送到高像素光本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置，其特征在于，包括固定限位块、活动限位块、X轴调整滑台、托料平台底板、Y轴调整滑台和支撑柱销；所述的托料平台底板二侧装有固定限位块，所述的固定限位块通过支撑柱销固定在底板上，托料平台底板上部装有X轴调整滑台，X轴调整滑台上部装有Y轴调整滑台，所述的Y轴调整滑台二侧装有活动限位块。2.根据权利要求1所述的一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置，其特征在于，所述的活动限位块与固定限位块相对应，构成集成电路成膜基片围护栏，用于限位固定和保护检测集成电路成膜陶瓷基片。3.根据权利要求1所述的一种集成电路成膜光学检测可变托料平台装置，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：范圣耀，徐林森，
申请(专利权)人：无锡博功科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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