隔热壁体、发热体保持构造体、加热装置及基板处理装置制造方法及图纸

一种隔热壁体，防止发热体的卡挂，将发热体的变形防止于未然。在设有发热体（４２）的安装槽（４０）的侧壁上设有倾斜的锥面（４０ｂ、４０ｃ），该锥面（４０ｂ、４０ｃ）是朝着隔热壁体（３３）的中心方向而远离发热体（４２）。在随着热膨胀而发热体（４２）在安装槽（４０）内向半径方向外侧移动时，能够防止发热体（４２）被卡在安装槽（４０）的锥面（４０ｂ、４０ｃ）上，所以即使发热体（４２）降温而收缩，发热体（４２）也能够在安装槽（４０）内向半径方向内侧移动而返回到原位置。通过防止发热体的伴随着热膨胀及热收缩的变形，能够将伴随着发热体的热膨胀及热收缩而发生的发热体的断裂防止于未然，所以能够延长发热体的寿命。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及隔热壁体、发热体的保持构造体、加热装置及基板处理装置，例如在组装有半导体集成电路装置(以下称作IC)的半导体晶片(以下称作晶片)上沉积(deposition)了绝缘膜、金属制膜以及半导体膜的CVD装置、氧化膜形成装置、扩散装置、在用于进行离子注入后的载体活性化和平坦化的回流(reflow)和退火等热处理(thermal treatment)中使用的热处理装置(furnace)等半导体装置中有效使用的技术。
技术介绍
在IC的制造方法中，在对晶片实施成膜处理和扩散处理时，广泛使用着间歇式直立型的热壁型扩散CVD装置。一般，间歇式直立型的热壁型扩散CVD装置(以下称作CVD装置)具备反应管，由形成送入晶片的处理室的内管和包围该内管的外管构成，设置成直立型；晶舟，保持作为被处理基板的多片晶片，并送入到内管的处理室中；气体导入管，将原料气体导入到内管内；排气管，将反应管内排气；加热器单元，设在反应管外，将反应管内加热。并且，在通过晶舟将多片晶片沿垂直方向排列并保持的状态下，从下端的炉口送入(晶舟装载)到内管内之后，将原料气体从气体导入管导入到内管内，并且反应管内通过加热器单元被加热。由此，将CVD膜沉积在晶片上，而且实施扩散处理。在以往的这种CVD装置中，作为加热装置的加热器单元具有如下结构，即具备隔热壁体，使用氧化铝或二氧化硅等隔热材料(heatinsulating material)，通过真空形成(真空吸附形成)法形成整体覆盖反应管的长圆筒形状；发热体，使用铁铬铝(Fe-Cr-Al)合金或二硅化钼(MoSi2)而形成得较长大；以及壳体，覆盖隔热壁体；并且，发热体被设在隔热壁体的内周上。在这样的加热器单元中，在实施例如30℃/分以上的急速加热的情况下，为了加大发热有效面积而使用形成为板状的发热体。作为将该板状的发热体设置在隔热壁体的内周的以往的发热体的保持构造，有在设于隔热壁体的内周上的多个安装槽中分别以离开槽底面的状态设置发热体的结构。例如参照专利文献1。专利文献1日本特开2004-39967号公报在上述的隔热壁体中，由于发热体被分别设置在安装槽内，所以能够防止上下相邻的发热体彼此的接触。但是，为了应付发热体的热膨胀及热收缩的需要，发热体能够在半径方向上移动。因而，在热膨胀时，发热体在安装槽内向半径方向外侧移动，在热收缩时，发热体在安装槽内向半径方向内侧移动而返回原位置。但是，发热体在热膨胀时卡在安装槽的侧壁面上，该被卡住的部位成为固定端，通过这样的作用，发热体会变形。同样，发热体在热膨胀时卡在安装槽的侧壁面上，如果在该卡住的状态下发热体降温而收缩，则该被卡住的部位成为固定端，通过这样的作用，发热体会变形。在这种变形积累的情况下、或变形大的情况下，存在会导致发热体断裂的问题。
技术实现思路
本技术的第一目的是，提供一种能够防止发热体的卡挂、防止发热体的变形于未然的隔热壁体。本技术的第二目的是，提供一种能够防止发热体的卡挂、防止发热体的变形于未然的发热体的保持构造体。本技术的第三目的是，提供一种能够防止发热体的卡挂、防止发热体的变形于未然的加热装置。本技术的第四目的是，提供一种能够防止发热体的卡挂、防止发热体的变形于未然的基板处理装置。用来解决上述课题的机构中的具有代表性的技术方案如下。(1)一种隔热壁体，是用于基板处理装置中的加热装置的圆筒形状的隔热壁体，其形成如下结构具有用于将发热体收纳在该圆筒形状的内周面上的安装槽；形成上述安装槽的一对侧壁的间隔，随着接近槽底而变小。(2)一种隔热壁体，是用于基板处理装置中的加热装置的圆筒形状的隔热壁体，其形成如下结构具有用于将发热体收纳在该圆筒形状的内周面上的安装槽；形成上述安装槽的一对侧壁的间隔，从上述安装槽的底部朝着该侧壁的顶部逐渐变大。(3)一种隔热壁体，是用于基板处理装置中的加热装置的圆筒形状的隔热壁体，其形成如下结构具有用于将发热体收纳在该圆筒形状的内周面上的安装槽形成上述安装槽的一对侧壁的间隔，从上述安装槽的底部朝着上述圆筒形状的半径方向中心侧逐渐变大。(4)一种隔热壁体，是用于基板处理装置中的加热装置的圆筒形状的隔热壁体，其形成如下结构具有用于将发热体收纳在该圆筒形状的内周面上的安装槽形成上述安装槽的一对侧壁中的、比上述发热体位于垂直方向上侧的侧壁，朝着上述圆筒形状的半径方向中心侧逐渐向垂直方向上侧变大；形成上述安装槽的一对侧壁中的、比上述发热体位于垂直方向下侧的侧壁，朝着上述圆筒形状的半径方向中心侧逐渐向垂直方向下侧变大。(5)一种隔热壁体，是用于基板处理装置中的加热装置的圆筒形状的隔热壁体，其形成如下结构具有用于将发热体收纳在该圆筒形状的内周面上的安装槽上述安装槽的垂直方向的宽度形成为至少比上述发热体的垂直方向的上下端大，该宽度朝着上述圆筒形状的半径方向中心侧逐渐变大。(6)一种隔热壁体，是用于基板处理装置中的加热装置的圆筒形状的隔热壁体，其形成如下结构层叠有多个圆筒形状的隔热块，该隔热块具有用于将发热体收纳在内周面上的安装槽；在上述隔热块中的一个上形成有第一侧壁，该第一侧壁成为形成上述安装槽的一对侧壁中的一个；在与形成有上述第一侧壁的隔热块相邻地层叠的隔热块上，形成有与上述第一侧壁对置、并成为形成上述安装槽的一对侧壁中的另一个的第二侧壁；上述第一侧壁与上述第二侧壁的间隔，从上述安装槽的底部朝着该安装槽的顶部逐渐变大。(7)一种隔热壁体，是用于基板处理装置中的加热装置的圆筒形状的隔热壁体，其形成如下结构层叠有多个圆筒形状的隔热块，该隔热块具有用于将发热体收纳在内周面上的安装槽；在上述隔热块的下端部，以将上述隔热块的内周的一部分切开成圆环形状的状态形成有结合凸部； 在上述隔热块的上端部，以将上述隔热块的外周的一部分切开成圆环形状的状态形成有结合凹部；在上述隔热块的内周面的上端和与该隔热块邻接的隔热块的内周面的上端之间，形成有上述安装槽；形成上述安装槽的一对侧壁的间隔，从上述安装槽的底部朝着该侧壁的顶部逐渐变大。(8)一种加热装置，具有上述(1)～(7)中任一种隔热壁体。(9)一种基板处理装置，具有上述(8)的加热装置。(10)一种发热体的保持构造体，用于基板处理装置，其形成如下结构在形成为圆筒形状的隔热壁体的内周面上形成有安装槽，在该安装槽内设置着上述发热体，形成上述安装槽的一对侧壁的间隔随着接近槽底而变小。附图说明图1是表示作为本技术的一实施方式的CVD装置的正面剖视图。图2是表示作为本技术的一实施方式的加热器单元的主要部分的平面剖视图。图3表示作为本技术的一实施方式的发热体的保持构造体主要部分，图3(a)是从内侧观察的展开图，图3(b)是沿图3(a)的b-b线的剖视图，图3(c)是沿图3(a)的c-c线的剖视图。图4(a)是表示外侧绝缘子的立体图，图4(b)是表示相同机构中的内侧绝缘子的立体图。图5是加热器单元的立体图。图6是表示防止变形的作用的各外部概略平面剖视图，图6(a)表示比较例的情况，图6(b)表示本实施方式的情况。具体实施方式以下，参照附图说明本技术的一实施方式。在本实施方式中，本技术涉及的隔热壁体在设置于作为本技术涉及的基板处理装置的一实施方式的CVD装置(间歇本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种隔热壁体，是用于基板处理装置中的加热装置的圆筒形状的隔热壁体，其特征在于，其形成如下结构：　　　　具有用于将发热体收纳在该圆筒形状的内周面上的安装槽；　　　　形成上述安装槽的一对侧壁的间隔，随着接近槽底而变小。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：杉浦忍，立野秀人，村田等，
申请(专利权)人：株式会社日立国际电气，
类型：实用新型
国别省市：JP[日本]