电子装置制造方法和电子装置制造方法及图纸

一种电子装置制造方法，其特征在于，具有下述工序：形成第１导电部所有体的工序，上述第１导电部所有体具有第１导电部和第２导电部，上述第１导电部含有第１金属或金属化合物，上述第１金属或金属化合物具有第１平衡电极电位，上述第２导电部含有第２ 金属或金属化合物，上述第２金属或金属化合物具有第２平衡电极电位，上述第２导电部电连接到上述第１导电部上，上述第１和第２导电部在上述第１导电部所有体的表面上露出；在上述第１导电部所有体的上述表面上形成覆盖膜的工序；在形成了上述 覆盖膜的第１导电部所有体上形成感光性膜的工序；对上述感光性膜进行曝光使之成为既定的曝光图形的工序；以及对上述已被曝光的感光性膜进行显影的工序。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有被电连接了的多个导电部的电子装置的制造方法和应用了该方法的电子装置。
技术介绍
在反射型液晶显示装置或半透射型液晶显示装置等的形成反射体的液晶显示装置中，为了使反射体具有凹部或凸部，在形成反射体之前，形成具有多个凹部或凸部的基底层。使用了感光性材料作为基底层的材料。在形成基底层的情况下，在支撑体上涂敷感光性材料，通过烘烤形成感光性膜，通过对该感光性膜进行曝光、显影，对感光性膜进行构图。在涂敷感光性膜的支撑体的表面上通常露出了构成栅总线或栅端子等的各种各样的导电膜。因而，如果对该感光性膜进行曝光、显影，则在感光性膜的显影时，利用显影液除去感光性膜的不需要的部分，其结果，被感光性膜覆盖的各种各样的导电膜露出，显影液与该露出了的各种各样的导电膜接触。这样，如果显影液与各种各样的导电膜接触，则有时或是以超过必要的程度除去感光性膜，或是产生与显影液接触的导电膜受到损伤这样的现象。在上述的例子中，说明了显影液与各种各样的导电膜接触时的状况，但例如在对金属膜进行湿法刻蚀时，在刻蚀液与各种各样的导电膜接触时，有时也产生以超过必要的程度除去金属膜这样的现象。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供防止或缓和以超过必要的程度除去感光性膜的现象的电子装置制造方法和应用了该方法的电子装置。本专利技术的另一目的在于提供防止或缓和与显影液接触的导电膜受到损伤的现象的电子装置制造方法和应用了该方法的电子装置。本专利技术的又一目的在于提供防止或缓和以超过必要的程度除去金属膜的现象的电子装置制造方法和应用了该方法的电子装置。达到上述目的的本专利技术的第1电子装置制造方法具有下述工序形成第1导电部所有体的工序，上述第1导电部所有体具有第1导电部和第2导电部，上述第1导电部含有第1金属或金属化合物，上述第1金属或金属化合物具有第1平衡电极电位，上述第2导电部含有第2金属或金属化合物，上述第2金属或金属化合物具有第2平衡电极电位，上述第2导电部电连接到上述第1导电部上，上述第1和第2导电部在上述第1导电部所有体的表面上露出；在上述第1导电部所有体的上述表面上形成覆盖膜的工序；在形成了上述覆盖膜的第1导电部所有体上形成感光性膜的工序；对上述感光性膜进行曝光使之成为既定的曝光图形的工序；以及对上述已被曝光的感光性膜进行显影的工序。在本专利技术的第1电子装置制造方法中，在形成感光性膜之前，在基板的表面上形成覆盖膜。因而，即使通过对感光性膜进行显影除去感光性膜的不需要的部分，被覆盖膜覆盖了的导电部也不与显影液接触。其结果被该覆盖膜覆盖了的导电部不作为阳极或阴极起作用，可不产生电池反应。这样，通过不产生电池反应，可防止以超过必要的程度除去感光性膜或导电部受到损伤的情况。在此，形成上述第1导电部所有体的工序可具有在支撑体上形成上述第1和第2导电部使得上述第2导电部重叠在上述第1导电部上的工序。在该情况下，形成上述第1导电部所有体的工序在形成上述第1和第2导电部的工序之前可具有在上述支撑体上形成绝缘膜的工序。此外，形成上述第1导电部所有体的工序也可具有形成上述第1和第2导电部使得上述第1导电部通过绝缘膜的孔电连接到上述第2导电部上的工序。此外，在本专利技术的第1电子装置制造方法中，较为理想的是，形成上述绝缘膜的工序是形成具有氮化硅或二氧化硅的绝缘膜的工序，形成上述覆盖膜的工序是形成包含氧化钼铬的覆盖膜的工序。在覆盖膜覆盖了绝缘膜的情况下，通过刻蚀覆盖膜，绝缘膜的一部分露出。此时，如果不仅是覆盖膜、绝缘膜也一并地被刻蚀，则绝缘膜受到损伤，存在对绝缘膜的功能产生不良影响的危险。因而，要求覆盖膜的材料的刻蚀速度与绝缘膜的材料的刻蚀速度之比(刻蚀选择比)足够大。为了达到该目的，在例如使用了氮化硅或二氧化硅作为绝缘膜的材料的情况下，可适当地使用氧化钼铬作为覆盖膜的材料。由于刻蚀选择比的差别的缘故，即使通过除去氧化钼铬而氮化硅或二氧化硅露出，氮化硅或二氧化硅也几乎不被刻蚀。因此，能将绝缘膜的功能保持良好。本专利技术的第2电子装置制造方法具有下述工序形成第2导电部所有体的工序，上述第2导电部所有体具有第1导电部和第2导电部，上述第1导电部含有第1金属或金属化合物，上述第1金属或金属化合物具有第1平衡电极电位，上述第2导电部含有第2金属或金属化合物，上述第2金属或金属化合物具有第2平衡电极电位，上述第2导电部电连接到上述第1导电部上，上述第1和第2导电部在上述第2导电部所有体的表面上露出；在上述第2导电部所有体的上述表面上形成感光性膜的工序；对上述感光性膜进行曝光使之成为既定的曝光图形的工序；以及对上述已被曝光的感光性膜进行显影的工序，形成上述第2导电部所有体的工序是形成具有电连接到上述第1和第2导电部上的牺牲电极(sacrificial electrode)且上述牺牲电极在上述表面上露出的上述第2导电部所有体的工序。在本专利技术的第2电子装置制造方法中，在第2导电部所有体的表面上露出的第1和第2导电部分别含有具有第1和第2平衡电极电位的第1和第2金属或金属化合物。再者，在这样的第1和第2导电部在表面上露出的导电部所有体上形成感光性膜。因而，如果通过对该感光性膜进行显影而除去感光性膜的一部分，其结果第1和第2导电部与显影液接触，则该第1和第2导电部作为阳极或阴极起作用而产生电池反应。如果在导电部中促进该电池反应，则存在导电部本身受到损伤或以超过必要的程度除去感光性膜的危险。因而，希望在导电部中尽可能不促进电池反应。因此，在本专利技术的第2电子装置制造方法中，第2导电部所有体具备电连接到第1和第2导电部上的牺牲电极，牺牲电极在该第2导电部所有体上露出。由于牺牲电极在该第2导电部所有体的表面上露出，故在该第2导电部所有体上形成感光性膜，如果对该感光性膜进行显影，则不仅第1和第2导电部露出，而且牺牲电极也露出，牺牲电极暂时地与显影液接触。因而，即使通过对感光性膜进行显影第1和第2导电部与显影液接触，由于牺牲电极也与显影液接触，故不仅该第1和第2导电部、而且牺牲电极也作为阳极或阴极起作用，其结果，不仅第1和第2导电部、而且牺牲电极也引起电池反应。在本专利技术的第2电子装置制造方法中，如果不形成牺牲电极，则引起电池反应的场所仅集中于第1和第2导电部，但由于实际上具备牺牲电极，故可使引起电池反应的场所不仅分散在第1和第2导电部上，而且也分散在牺牲电极上。其结果，难以促进在第1和第2导电部中的电池反应，可防止或抑制以超过必要的程度除去感光性膜或导电部受到损伤。牺牲电极可直接连接到第1和第2导电部中的一个上，也可与上述第1和第2导电部中的一个一体成形。在此，形成第2导电部所有体的工序例如可具有形成上述第1和第2导电部使得上述第2导电部重叠在第1导电部上的工序，或可具有形成上述第1和第2导电部使得上述第1导电部通过绝缘膜的孔电连接到上述第2导电部上的工序。本专利技术的第3电子装置制造方法具有下述工序形成第3导电部所有体的工序，上述第3导电部所有体具有第1导电部和导电膜，上述第1导电部含有第1金属或金属化合物，上述第1金属或金属化合物具有第1平衡电极电位，上述导电膜含有第2金属或金属化合物，上述第2金属或金属化合物具有第2平衡电极电位，上述导电膜电连接到上述第1导电部上，上述导电膜在上述第3导电部所有体的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：住尚树，
申请(专利权)人：统宝香港控股有限公司，
类型：发明
国别省市：