【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种制作微元件的方法，包括：利用一具第一波长的光源对一适用于第二波长的光致抗蚀剂层进行曝光；对该适用于第二波长的光致抗蚀剂层进行显影，得到多个感光区块；以及对该些感光区块进行一加热工艺以形成该些微元件。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：余政宏，
申请(专利权)人：联华电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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