可降低污染物的衬底传送及支撑系统技术方案

一种衬底提升组件，用于将一衬底举离一衬底支撑件及运送该衬底，该提升组件包含：　（ａ）一箍状物，其大小可配合于该衬底支撑件的一周缘；及　（ｂ）安装在该箍状物上的一对拱形鳍状物，每个拱形鳍状物具有一对相对的末端，其具有向内辐射状延伸的突出部，每个突出部具有一突起的突出物以升举一衬底，以使该衬底实质上仅接触到该突起的突出物，从而在使用该对鳍状物以从该衬底支撑件升举该衬底时，可以使与该突出部的接触最小。

【技术实现步骤摘要】
可降低污染物的衬底传送及支撑系统本申请是在2005年2月23日提交的国际申请PCT/US2005/005672的分 案申请，其国际公布号WO2005/083752进入中国国家阶段的日期为2006年 08月23日，申请号为200580005773.8，其专利技术名称为"可降低污染物的衬 底传送及支撑系统"。
技术介绍
本专利技术的具体实施例涉及在处理腔室中运送与支撑衬底中使用的组件。 CPU、显示器及内存的电子电路的制造是在一处理腔室中通过在一衬底上沉积或形成材料，然后选择性地蚀刻该材料来进行。该衬底包括半导体晶片及介电板。该衬底材料是通过例如化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、 氧化、氮化及离子植入等工艺来进行沉积或形成。然后该衬底材料即被蚀刻以 限定电子电路线、引线孔及其它衬底上的特征。 一个典型的处理腔室具有一包 覆壁，其包覆了一衬底支撑件、气体分配器及排气口，也亦可包含一气体激发 器，通过射频(RF)或微波能量向腔室内的处理气体供给能量。运送及支撑结构的接触表面在一典型的工艺循环中的运送及支撑期间会 接触到该衬底。基本上， 一衬底从一装载腔室中的卡匣中的衬底堆中运送到由 一机械手臂所操作的一运送叶片上的一处理腔室。所运送的衬底置于一组升举 柱上，其透过在一衬底支撑件中的孔洞来降低，使该衬底的背面可靠到一衬底 支撑件的接收表面上。该衬底支撑件可包括一台座、 一具有一真空口来将该衬 底吸往下方的真空吸盘、或一静电吸盘，该静电吸盘包含有覆盖一电极的介电 质，所述电极上施加有一电压以产生静电力来夹持该衬底。在一些工艺中，该 衬底初始时被运送，并安置于一排气加热器板上以将该衬底排气。该衬底亦可 传送到一冷却台座来在快速热处理或其它高温工艺之后冷却该衬底。亦可使用 遮板盘片以在该衬底并未夹持在该支撑件上时保护一衬底支撑件的接收表面。直接或间接地接触该衬底的该接触表面会由于污染物微粒而污染了该衬 底表面。举例而言， 一衬底支撑件台座、冷却板或排气加热器的不锈钢表面会说明书第2/29页在该衬底的背部表面上留下微量的铁、铬或铜。涂覆有镍的机械手臂叶片亦会 在其用来升举或运送该衬底时，由于残留的镍颗粒而污染该衬底。同样地，铝 台座会在一衬底的背部表面上留下铝的微粒。虽然微粒污染物通常会沉积在该 衬底的无活性的背部表面上，但它们会在后续的高温退火工艺中扩散到具活性 的前方侧，而造成于该衬底上所形成的电路或显示器的短路或失效。该衬底的 背部边缘由于运送组件(像是机械手臂输送叶片及提升组件)的背部边缘的磨 耗而具有相当多的污染物颗粒。这些污染物亦会从衬底剥落下来，并落到其它 衬底上造成污染。这些污染物最终会降低由该衬底所得到的电路或显示器的有 效良品率。因此，需要降低该衬底背面的污染物来增加衬底良品率及工艺效率。
技术实现思路
在一方面中， 一种衬底支撑件，具有支撑结构以及在支撑结构上的具有碳氢网络的涂覆。该涂覆的接触表面的摩擦系数小于约0.3，而其硬度至少约为 8 Gpa。该涂覆的接触表面能够降低接触到该接触表面的衬底的腐蚀及污染。 在一方面中，该衬底支撑件具有覆盖一电极的介电质及在该介电质上的多个台 面。该台面具有在一钛层上的类金刚石材料的涂覆。在另一方面中， 一衬底支撑件具有一包含一陶瓷接触表面的支撑结构。该 陶瓷接触表面具有小于约5 X 1012 atoms/cm2的金属的金属浓度水平，以降 低该衬底的污染。在又另一个方面中， 一衬底热交换台座具有包含一类金刚石材料的涂覆的 支撑结构。该热交换台座在该支撑结构中具有一热交换器，其能够加热或冷却 一衬底。在又另一方面中，该热交换台座包含一具有硅的碳化物的涂覆的支撑结 构。该涂覆具有一接触表面，其金属污染物浓度水平小于约5 X 1012 atoms/cm2的金属。该接触表面即可降低该衬底的污染。该热交换台座还在该 支撑结构中具有一热交换器，其能够加热或冷却该衬底。在又另一方面中，该热交换台座包含一具有硅的氮化物的涂覆的支撑结 构。该涂覆具有一接触表面，其金属污染物浓度水平小于约5 X 1012 atoms/cm2的金属。该接触表面即可降低该衬底的污染。该热交换台座还在该支撑结构中具有-"热交换器，该热交换器能够加热或冷却该衬底。在另一方面中， 一个遮板可抑制材料沉积在 一衬底支撑件的表面上并降低 摩擦污染，其具有覆盖至少该支撑件表面一部份的一金属盘片。该盘片具有一 下表面，其具有一类金刚石材料的涂覆，其摩擦系数小于约0.3，而其硬度至少约为8Gpa。该涂覆在当该下表面接触该支撑件表面时，能够降低由于金属微粒造成的支撑件表面的污染。在另一方面中，一个遮板可抑制材料沉积在一衬底支撑件的表面上并降低 摩擦污染，其具有覆盖至少该支撑件表面一部份的一金属盘片。该盘片具有一下表面，其陶瓷涂覆的金属污染物浓度水平小于约5 X 1012atomS/cm2。该下 表面在当该下表面接触该支撑件表面时，能够降低由于金属微粒造成的支撑件 表面的污染。在又另一个方面中，用于通过一支撑件升举一衬底的一升举柱组件具有多 个升举柱。每个升举柱具有一可移动的加长构件，其尖端具有一接触表面以接 触该衬底。该接触表面具有一类金刚石材料。在另一方面中，用于通过一支撑件升举一衬底的一升举柱组件具有多个升 举柱，其中每个升举柱具有一可移动的加长构件，其尖端具有一陶瓷接触表面 以接触该衬底。该陶瓷接触表面的金属污染物浓度水平小于约5 X 1012 atoms/cm2的金属。在又另一方面中，能够与一衬底交换热量的一热交换台座具有一包含一上 表面的金属本体。一具有一用于接触一衬底的接触表面的涂覆覆盖该金属本体 的上表面。 一热交换器位在该接触表面下，并能够加热或冷却该衬底。在另一方面中， 一种涂覆在一等离子区域中的支撑组件的方法包括在该等 离子区域中放置具有一表面的支撑结构。溅射一金属以在该支撑结构的表面上 沉积该喷溅的金属。在溅射以在该支撑结构的表面上共沉积该溅射的金属与一 化学气相沉积材料时即引入一处理气体。在又另一方面中，能够降低一衬底的微粒污染的一衬底支撑结构具有一本 体及在该本体上的一类金刚石涂覆。该类金刚石涂覆具有一互连的网络，包含 (i)碳及氢，及(ii)硅及氧。该类金刚石涂覆还具有一接触表面，其中(i)摩擦系数 小于约0.3， (ii)硬度至少约8 Gpa，及(iii)金属浓度水平小于约5 X 1012 atoms/cm2的金属。该接触表面在直接或间接接触一衬底时可降低一衬底的污染。在又另一方面中， 一能够降低衬底的微粒污染的排气台座具有一本体，其 包含一凹入的周缘突出物的盘片。在该本体上提供一类金刚石涂覆，该类金刚 石涂覆的互连网络有(i)碳及氢，及(ii)硅及氧。该类金刚石涂覆具有一接触表面，其中(i)摩擦系数小于约0.3， (ii)硬度至少约8 Gpa，及(iii)金属浓度水平小 于约5 X 1012 atoms/cm2的金属。该接触表面在直接或间接接触一衬底时可 降低一衬底的污染。在另一方面中， 一用于通过一衬底支撑件升举一衬底并运送该衬底的衬底 提升组件具有一箍状物，其大小可配合该衬底支撑件的一周缘，及安装在该箍 状物上的一对拱形鳍状物。每个拱形鳍状物具有一对相对的末端，其具有向内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种衬底提升组件，用于将一衬底举离一衬底支撑件及运送该衬底，该提升组件包含：　（ａ）一箍状物，其大小可配合于该衬底支撑件的一周缘；及　（ｂ）安装在该箍状物上的一对拱形鳍状物，每个拱形鳍状物具有一对相对的末端，其具有向内辐射状延伸的突出部，每个突出部具有一突起的突出物以升举一衬底，以使该衬底实质上仅接触到该突起的突出物，从而在使用该对鳍状物以从该衬底支撑件升举该衬底时，可以使与该突出部的接触最小。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：维克·D·帕克海，马修·利奥波德，蒂莫西·罗南，托德·W·马丁，爱德华·黄，尼汀·库拉纳，徐松文，理查德·费伊，克里斯托弗·哈格蒂，迈克尔·赖斯，达里尔·安杰洛，库尔特·J·阿曼，马修·C·蔡，史蒂夫·森索尼，
申请(专利权)人：应用材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US