【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于定向能量沉积增材制造系统的喷距监测和控制
[0001]背景
[0002]总体上,本公开涉及定向能量沉积增材制造系统。更具体地,本公开涉及喷距监测和控制。
技术介绍
[0003]快速等离子体沉积(RPD
TM
)增材制造系统可容纳包含线材(例如,金属)和等离子体熔炬(plasma torch)的惰性气体环境(例如,稀有气体)。RPD
TM
增材制造系统基于等离子体熔炬可控地将等离子体电弧引向线材并且等离子体电弧熔化线材以逐层地形成工件来增材制造该工件(例如,飞机结构),因为工件在惰性气体环境内可控地移动经过等离子体熔炬或反之亦然。
[0004]在这种操作期间,在等离子体熔炬和工件之间保持喷距(例如,沿着竖直轴线)。该喷距确定等离子体电弧电阻,从而确定等离子体电弧功率和特性(例如,由恒流电源提供的恒定等离子体电弧电流)。尽管更大的喷距产生更高的电弧电压,但是由于沿着等离子体电弧的辐射和对流热传递,将至少一些传递到工件的能量减少。喷距静态地在由设备设置(例如,物理设备约束)给出的下限和由输入到工件的减小的功率(例如,不适当的线材熔化)给出的上限之间变化。
[0005]存在可能使得喷距偏差的各种因素。这种因素中的一些包括基底扭曲、不均匀的沉积表面(例如,由于线材运动)、不均匀的工件高度台阶、工件特征(例如,接头、端部、交叉部)以及其他复杂的工艺变化。尽管可通过保持恒定电压而基于电压测量来间接地控制喷距,但是由于各种因素,此技术在技术上是不利的。这种因素中的一些包括噪 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种定向能量沉积增材制造系统,包括:逻辑、喷距测量单元、基底、熔炬、供给单元、材料以及移动器,其中,所述逻辑使得所述供给单元输出所述材料并且所述熔炬输出等离子体,使得所述等离子体将所述材料熔化到所述基底上,并且由此在所述基底上增材制造工件,其中,所述工件具有几何轮廓,其中,所述熔炬与所述工件竖直地间隔开,从而限定喷距,其中,所述逻辑使得所述喷距测量单元在增材制造所述工件时监测所述几何轮廓,使得所述逻辑使所述移动器相对于所述基底移动所述熔炬或者相对于所述熔炬移动所述基底中的至少一者,以便保持所述喷距。2.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述喷距测量单元包括激光源和相机,其中,所述逻辑使得所述激光源将激光图案输出到所述几何轮廓上,从而产生多个反射,其中,所述逻辑使得所述相机读取所述反射,其中,所述喷距测量单元基于所述反射来监测所述几何轮廓。3.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述移动器基于所述喷距测量单元监测所述几何轮廓而相对于所述基底移动所述熔炬,以便保持所述喷距。4.根据权利要求3所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述基底相对于所述熔炬以纵向方式和侧向方式中的至少一个方式移动。5.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述移动器基于所述喷距测量单元监测所述几何轮廓而相对于所述熔炬移动所述基底,以便保持所述喷距。6.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述工件是第一工件,其中,所述基底是第二工件,所述第一工件在所述第二工件上增材制造。7.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述基底不是工件。8.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述几何轮廓具有最大高度和最小高度,其中,所述喷距测量单元基于所述最大高度和所述最小高度来监测所述几何轮廓。9.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,基于经由所述逻辑访问的喷距设置点来保持所述喷距。10.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,还包括用户界面,所述用户界面使得能够改写关于对所述喷距测量单元、所述基底、所述熔炬、所述供给单元和所述移动器中的至少一个的控制的所述逻辑。11.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,基于用于温度测量的喷距来保持所述喷距。12.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述逻辑在控制器上运行,其中,所述逻辑读取来自沉积规范的控制输入和来自用户界面的输入,其中,所述沉积规范和所述输入与所述工件相关联。13.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述逻辑在控制器上运行,其中,所述逻辑控制所述移动器以使得能够沉积和测量扫描,其中,所述沉积和所述测量扫描与所述工件相关联。14.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述逻辑在控制器上运行,其中,所述逻辑从所述喷距测量单元获取一组测量,其中,该组测量与所述工件相关联。15.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述喷距测量单元扫描
所述工件和所述基底中的至少一个,以确定所述喷距,并且根据需要将所述喷距输入到所述逻辑。16.根据权利要求15所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述喷距测量单元基于时间间隔、位置、分辨率和滤波器中的至少一个来扫描所述工件和所述基底中的至少一个。17.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述喷距测量单元确定所述工件的特征,其中,所述喷距基于所述特征来确定。18.根据权利要求17所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述特征是所述工件的形状、所述工件中的间隙和所述工件的角度中的至少一个。19.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述喷距测量单元是校正和编程中的至少一个,以消除光学像差和杂散光干扰中的至少一个。20.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述逻辑在控制器上运行,其中,所述逻辑执行一组测量的验证,基于所述验证对该组测量进行采样以获得预设空间分辨率,基于网格间距将该组测量提供给工件坐标系统。21.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述逻辑在控制器上运行,其中,所述控制器运行反馈控制逻辑以保持所述喷距。22.根据权利要求1所述的定向能量沉积增材制造系统,其中,所述逻辑编程为避免定位单元的振动和急动运动中的至少...
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