【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
用于清洁微电子设备的剥离和清洁组合物，所述组合物包含： ａ）至少一种有机含硫极性化合物作为剥离溶剂， ｂ）至少一种无水的强氢氧化物碱源，和 ｃ）至少一种羟基吡啶稳定剂。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖恩M凯恩，
申请(专利权)人：安万托特性材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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