一种清洗及蚀刻装置，包括可承载吊篮架的旋转单元，该旋转单元具有驱动机构；该吊篮架的底部可旋转地设置至少一支转轴，并且吊篮架设有连接至该至少一支转轴的被驱动机构；吊篮架内可置入至少一个晶舟，并且使放置在晶舟内的晶圆片片下边缘接触该至少一支转轴；当吊篮架安置于旋转单元的承载座后，该被驱动机构与驱动机构产生连接，通过该驱动机构与被驱动机构带动该至少一支转轴旋转，使晶圆片片被转轴带动旋转及上下晃动，以提升清洗或蚀刻均匀度及效能，并且缩短制程时间。并且缩短制程时间。并且缩短制程时间。
【技术实现步骤摘要】
清洗及蚀刻装置
[0001]本专利技术涉及半导体晶圆片或类似
的清洗与蚀刻装置，特别是可以提升清洗与蚀刻性能的清洗及蚀刻装置。
技术介绍
[0002]晶圆片制造过程需要依照制程需求对晶圆片片反复地清洗及蚀刻，在现有技术中的清洗或蚀刻制程中，将多个晶圆片片放置在晶舟内，再将晶圆片片连同晶舟放置在制程槽的晃动装置的承载架上，当进行清洗或蚀刻制程时，将晶舟与晶圆片片一起置入清洗液或蚀刻液中，并且开启晃动装置驱动在垂直方向上晃动，使清洗液或蚀刻液得得充分接触到每一个晶圆片片的每一个位置。
[0003]所述现有技术中的清洗及蚀刻装置虽然可以达到预定的功能与效果，但达到彻底清洗或彻底蚀刻所需要的时间可能较长，或晶舟间隔板接触到晶圆片片的部分会蚀刻不到或不均匀。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于提供一种可以进一步提升晶圆片片清洗或蚀刻性能，进而缩短制程时间、提升清洗及蚀刻效率及均匀度的清洗及蚀刻装置。
[0005]本专利技术提供的清洗及蚀刻装置，具有一旋转单元，该旋转单元可以包括：一基座；一第一马达组件，设于该基座；一承载座，连接该基座，该承载座设有连接该第一马达组件的一驱动机构；以及一吊篮架，提供以安置在该承载座，该吊篮架的底部可旋转地设置至少一支转轴，该吊篮架设有连接至该至少一支转轴的一被驱动机构，并且当该吊篮架安置于该承载座后，该被驱动机构与该驱动机构产生连接，使得该第一马达组件通过该驱动机构与该被驱动机构带动该至少一支转轴旋转，其中，该至少一支转轴上方的该吊篮架内可置入至少一个晶舟，并且使放置在该晶舟内的晶圆片片边缘接触该至少一支转轴，使该晶圆片片被该至少一支转轴带动旋转。
[0006]一较佳实施例，该驱动机构可以包括：一主动齿轮，连接该第一马达组件的一输出轴；一被动齿轮，设于该承载座，该被动齿轮同心地设有一被动小齿轮；以及一惰齿轮组，啮合该主动齿轮与该被动齿轮；其中，该被驱动机构包括：至少一个齿轮，设于该至少一支转轴的一端；一动力接收齿轮，设于该吊篮架的侧壁，该动力接收齿轮同心地设有一转向齿轮，该转向齿轮啮合该至少一个齿轮，其中，当该吊篮架安置于该承载座后，该被动小齿轮与该动力接收齿轮啮合，使得旋转单元可以通过该驱动机构与被驱动机构带动转轴旋转；利用齿轮带动，可避免化学液体造成传动机构打滑而失去传动能力。
[0007]一较佳实施例，该吊篮架可以包括二支彼此平行的转轴，每一支该转轴的一端均设有齿轮，并且转向齿轮同时啮合该二个齿轮，藉以使得二支转轴被带动往彼此相反的方向旋转。
[0008]一较佳实施例，该转轴的外径圆周可以为多边形，使得晶圆片片被带动旋转的同
时亦产生上下晃动。
[0009]一较佳实施例，该承载座设有至少一个定位块，且吊篮架的底部设有对应该定位块的定位槽，当吊篮架安置于承载座后，该定位块与该定位槽彼此接合，使得吊篮架被定位在承载座。
[0010]本专利技术的清洗及蚀刻装置，一般包括有一晃动单元，该晃动单元连接该旋转单元，以驱动该旋转单元在垂直方向上往复晃动，使得晶圆片片被带动旋转的同时亦在垂直方向上晃动，利用晶圆片片的自转及上下晃动加速制程能力。
[0011]本专利技术提供的清洗及蚀刻装置，由于放置在晶舟中的晶圆片片在清洗液或蚀刻液中被带动旋转的同时产生上下向量晃动，并且晶舟亦随着承载架被驱动在垂直方向上晃动，使得清洗液或蚀刻液更能快速、完全地接触晶圆片片表面各处，以更有效率地彻底清洗或彻底蚀刻晶圆片片。
附图说明
[0012]图1为显示本专利技术的旋转单元组合于晃动单元，以及吊篮架与旋转单元的配置关的立体示意图；
[0013]图2为本专利技术的一个吊篮架可以置入一个晶舟及其配置关的立体示意图；
[0014]图3为本专利技术的一个吊篮架可以置入二个晶舟及其配置关的立体示意图；
[0015]图4为显示图2所示的一个晶舟置入吊篮架，并且由二支转轴带动晶圆片旋转的平面示意图；以及
[0016]图5为显示图3所示的二个晶舟置入吊篮架，并且由二支转轴带动晶圆片旋转的平面示意图。
[0017]附图标记说明
[0018]1:旋转单元
[0019]10:基座
[0020]101:竖轴
[0021]11:第一马达组件
[0022]111:输出轴
[0023]112:主动齿轮
[0024]12:惰齿轮组
[0025]13:被动齿轮
[0026]131:被动小齿轮
[0027]14:承载座
[0028]140:座体
[0029]141:承板
[0030]142:定位块
[0031]143:竖板
[0032]2:吊篮架
[0033]21A:第一转轴
[0034]21B:第二转轴
[0035]22A:第一齿轮
[0036]22B:第二齿轮
[0037]23:动力接收齿轮
[0038]231:转向齿轮
[0039]24:滑槽
[0040]3:晶舟
[0041]31:插槽
[0042]32:凸轨
[0043]4:晶圆片片
[0044]5:晃动单元
[0045]51:第二马达组件
[0046]52:减速机
[0047]53:偏心轮
[0048]54:固定座
[0049]541:滑轨
[0050]55:滑动座
[0051]551:夹持座
具体实施方式
[0052]以下配合图标及组件符号对本专利技术的实施方式做更详细的说明，熟悉本领域的技术人员在研读本说明书后能据以实施。
[0053]如图1及图2所示，本专利技术提供的清洗及蚀刻装置，较佳实施方式包括有旋转单元1、吊篮架2与晃动单元5。
[0054]其中，旋转单元1用以使放置在吊篮架2内的晶舟3中的晶圆片4旋转的组件，该旋转单元1包括有：基座10、设于基座10上的第一马达组件11、以及连接至基座10的承载座14，第一马达组件11与承载座14之间设置有驱动机构。具体而言，基座10大致上为一板状体，第一马达组件11设于基板10的上面，第一马达组件11包含设置在外壳内部的第一马达(图中未显示)，延伸自第一马达的输出轴111设置一主动齿轮112。
[0055]承载座14基本上具有水平的座体140以及连接在该水平座体的竖板143，使得承载座14大致上构成L形状；承载座14利用竖板143的上端固定至基座10；竖板143上配置由多个惰齿轮构成的惰齿轮组12以及一个被动齿轮13，该多个惰齿轮系列地串联配置且啮合，并且使惰齿轮组12一端(上端)的惰齿轮和主动齿轮112啮合，惰齿轮组12另一端(下端)的惰齿轮和被动齿轮13啮合；所述被动齿轮13还同心地设有被动小齿轮131；因此，第一马达组件11运转时，主动齿轮112带动惰齿轮组12旋转，惰齿轮组12则驱动被动齿轮13与被动小齿轮131旋转。
[0056]承载座本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种清洗及蚀刻装置，具有一旋转单元，其特征在于，该旋转单元包括：一基座一第一马达组件，设于该基座；一承载座，连接该基座，该承载座设有连接该第一马达组件的一驱动机构；以及一吊篮架，提供以安置在该承载座，该吊篮架的底部可旋转地设置至少一支转轴，该吊篮架设有连接至该至少一支转轴的一被驱动机构，并且当该吊篮架安置于该承载座后，该被驱动机构与该驱动机构产生连接，使得该第一马达组件通过该驱动机构与该被驱动机构带动该至少一支转轴旋转，其中，该至少一支转轴上方的该吊篮架内可置入至少一个晶舟，并且使放置在该晶舟内的晶圆片片边缘接触该至少一支转轴，使该晶圆片片被该至少一支转轴带动旋转。2.如权利要求1所述的清洗及蚀刻装置，其特征在于，该驱动机构包括：一主动齿轮，连接该第一马达组件的一输出轴；一被动齿轮，设于该承载座，该被动齿轮同心地设有一被动小齿轮；以及一惰齿轮组，啮合该主动齿轮与该被动齿轮；其中，该被驱动机...
【专利技术属性】
技术研发人员：林振衡，
申请(专利权)人：禾邑实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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