本发明专利技术公开了一种薄型节能电控真空发生与破坏阀，其包含：一阀座，内设有供给、破坏电磁阀及压力检测器，且皆电性连接控制回路，该阀座还设有供给气压源通过的输入口、排出口、吸入口及真空破坏调整钮，该阀座内还设置有第一至第五流径供真空保持与破坏，通过真空破坏调整钮配合气压调节回路调整气压源，让输出流量预先蓄储真空破坏所需流量后，使破坏电磁阀输出最适当流量破坏被吸工件的真空压力，并减少真空破坏管的逆流量，维持真空破坏流量的稳定输出，并辅以MCU微处理器配合压力检测器，判断真空压力数值大小及控制供给电磁阀的开关。断真空压力数值大小及控制供给电磁阀的开关。断真空压力数值大小及控制供给电磁阀的开关。
【技术实现步骤摘要】
薄型节能电控真空发生与破坏阀
[0001]本专利技术涉及电控真空发生器的领域，特别是一种应用于薄型节能电控真空发生与破坏阀。
技术介绍
[0002]一般业界使用的真空发生器，其中的薄型电控阀内部结构通常设计让真空破坏的气体流量，采先行通过真空破坏电磁阀后，再依所需流量进行调整，于实际应用时，通常需经数次调整才能至较佳的使用状态。
[0003]前述真空发生器于真空状态下进行破坏时，通常都在吸入口内侧原有的真空通路下直接导入破坏用的气体流量，此举常让气体流量产生回流于部份相通连的通路，此结构导致气体流量产生些许不稳定状态以及气体流量平白耗损的情况。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的是提供一种薄型节能电控真空发生与破坏阀，其主要技术性目的，利用压力检测器针对阀座内的真空压力作量测，并通过信息反馈至控制回路后，通过气压调节回路，再进一步驱动供给电磁阀与破坏电磁阀来调节真空压力，至此本创作结构包括有：一阀座，内部设有供给电磁阀、破坏电磁阀、压力检测器，且皆电性连结控制回路，该阀座具有能供气压源通过的输入口、排出口、吸入口及真空破坏调整钮，该控制回路电性连接数字显示器设于阀座外侧表面，用以显示该阀座内部真空压力的数值；一第一流径由输入口各自通连至该供给电磁阀及一真空发生二口二位阀，且该第一流径更设有一气压调节回路通连至该破坏电磁阀；一第二流径由该供给电磁阀通连至真空发生二口二位阀；一第三流径由真空发生二口二位阀通连至真空产生器；一第四流径由真空产生器经真空保持逆止阀通连至真空保持管至吸入口；一第五流径由破坏电磁阀通连至吸入口内侧的真空破坏管，且通过该真空破坏调整钮配合该气压调节回路调整该气压源，让输入流量预先储蓄真空破坏所需流量后，使该破坏电磁阀能直接导通最适当流量来破坏被吸住工件的真空压力，并进而减少至真空破坏管产生的逆流量，维持真空破坏流量的稳定输出。
[0005]其次要技术性目的在于，该真空保持逆止阀通过开闭，将该真空保持管至该吸入口形成的真空状态得以维持较长时间。
[0006]再次要技术性目的在于，该控制回路更包含有：一MCU微处理器，能用以判断压力检测器所传压力数值大小，通过控制该供给电磁阀和该破坏电磁阀的开启与关闭，借以进行真空保持或真空破坏的控制目的。
[0007]经由上述目的，本专利技术通过阀座内的各流径来供真空保持与破坏，再通过控制回路、MCU微处理器、压力检测器加以检测与判别内部真空压力大小，进而驱动供给电磁阀与破坏电磁阀的开与关，使真空保持的控制技术更为灵敏。
附图说明
[0008]图1为本专利技术于准备状态的示意图。
[0009]图2为本专利技术于真空发生状态的示意图。
[0010]图3为本专利技术于真空保持状态的示意图。
[0011]图4为本专利技术于真空破坏状态的示意图。
[0012]图5为本专利技术于控制回路配合动作的方块结构图。
[0013]附图标记说明：
[0014](10)...阀座
[0015](101)...输入口
[0016](102)...排出口
[0017](1021)...消音器
[0018](103)...吸入口
[0019](1031)...真空破坏管
[0020](11)...真空破坏调整钮
[0021](12)...真空发生二口二位阀
[0022](13)...真空产生器
[0023](14)...真空保持逆止阀
[0024](15)...真空保持管
[0025](16)...气压调节回路
[0026](20)...供给电磁阀
[0027](30)...破坏电磁阀
[0028](40)...压力检测器
[0029](50)...控制回路
[0030](51)...MCU微处理器
[0031](60)...数字显示器
[0032](P)...气压源
[0033](A1)...第一流径
[0034](A2)...第二流径
[0035](A3)...第三流径
[0036](A4)...第四流径
[0037](A5)...第五流径。
具体实施方式
[0038]下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能解释为对本专利技术的限制。
[0039]本专利技术为一种薄型节能电控真空发生与破坏阀，其结构包括有：一阀座(10)，内部设有一供给电磁阀(20)、一破坏电磁阀(30)及一压力检测器(40)，且均皆电性连接一控制回路(50)，该阀座(10)更具有供给一气压源(P)通过的一输入口(101)、一排出口(102)、一吸入口(103)以及一真空破坏调节钮(11)，该控制回路(50)电性连接一数字显示器(60)设
于该阀座(10)的外侧表面，能用以显示该阀座(10)内部真空压力的数值；
[0040]请参阅图1中虚线所标记之处，分别为第一流径(A1)，由该输入口(101)各自通连至该供给电磁阀(20)以及一真空发生二口二位阀(12)，且该第一流径(A1)更设有一气压调节回路(16)通连至该破坏电磁阀(30)；第二流径(A2)，则由该供给电磁阀(20)通连至一真空发生二口二位阀(12)内；第三流径(A3)，则由该真空发生二口二位阀(12)通连至一真空产生器(12)；一第四流径(A4)，则由该真空产生器(13)，经一真空保持逆止阀(14)通连该真空保持管(15)至吸入口(103)；一第五流径(A5)，由该破坏电磁阀(31)通连至该吸入口(103)内侧的一真空破坏管(1031)，且通过该真空破坏调整钮(11)配合该气压调节回路(16)调整该气压源(P)，让输入流量预先进行蓄储真空破坏所需流量后，使该破坏电磁阀(31)能直接导通最适当流量来破坏被吸住工件的真空压力，并进而减少真空破坏管(1031)产生的逆流量，维持真空破坏流量的稳定输出。
[0041]请参阅如图1所示，其为真空发生的准备状态，其中能见该气压源(P)由输入口(101)输入至第一流径(A1)后呈为关闭状态，而吸入口(103)一样为关闭；
[0042]请参阅如图2所示，为真空发生状态下，能见该第一流径(A1)的气压源(P)配合供给电磁阀(20)开启后，经由第二流径(A2)使该真空发生二口二位阀(12)开启，而第三流径(A3)开启后，该气压源(P)则通过该真空产生器(13)经消音器(1021)进行排出至阀座(10)外部，而真空保持逆止阀(14)则利用第四流径(A4)配合吸入口(103)进行吸附工件的目的。
[0043]请参阅如图3所示，为真空保持状态，承前述真空发生状态下，通过关闭真空保持逆止阀(22)后，能让真空压力停留于该真空保持管(15)内，进而维持该吸入口(103)吸附工件的状态。
[0044]请参阅如图4所示，为真空破坏状态，承前述真空发生保持状态下，通过第一流径(A1)配合真空破坏调整键(11)经一气压调节回路(1本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种薄型节能电控真空发生与破坏阀，其特征在于，包含：一阀座(10)，内部设有一供给电磁阀(20)、一破坏电磁阀(30)及一压力检测器(40)，且皆电性连接一控制回路(50)，该阀座(10)具有供给一气压源(P)通过的一输入口(101)、一排出口(102)、一吸入口(103)及一真空破坏调整钮(11)，该控制回路(50)电性连接一数字显示器(60)设于该阀座(10)的外侧表面，用以显示该阀座(10)内部真空压力的数值；一第一流径(A1)，由该输入口(101)各自通连至该供给电磁阀(20)以及一真空发生二口二位阀(12)，且该第一流径(A1)更设有一气压调节回路(16)通连至该破坏电磁阀(30)；一第二流径(A2)，由该供给电磁阀(20)通连至一真空发生二口二位阀(12)；一第三流径(A3)，由该真空发生二口二位阀(12)通连至一真空产生器(13)；一第四流径(A4)，由该真空产生器(13)，经一真空保持逆...
【专利技术属性】
技术研发人员：游平政，郑志圣，
申请(专利权)人：上海气立可气动设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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