移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及装置、曝光方法及装置、组件制造方法、以及校正方法制造方法及图纸

通过控制装置，使用编码器系统的包含Ｘ编码器与Ｙ编码器的至少各一个的三个编码器（Ｅｎｃ１，Ｅｎｃ２，Ｅｎｃ３）测量载台ＷＳＴ在ＸＹ平面内的位置信息，根据该位置信息的测量结果及该位置信息的测量所使用的读头（编码器）（Ｅｎｃ１，Ｅｎｃ２及Ｅｎｃ３）的平行于ＸＹ平面的面内的位置信息（ｐ↓［１］，ｑ↓［１］）、（ｐ↓［２］，ｑ↓［２］）及（ｐ↓［３］，ｑ↓［３］），在ＸＹ平面内驱动载台ＷＳＴ。据此，能一边使用包含多个读头的编码器系统切换载台ＷＳＴ的移动中控制所使用的读头（编码器），一边高精度控制载台的移动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及装置、膝光方法 及装置、组件制造方法、以及校正方法
OOOl]本专利技术涉及一种移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及装置、曝光方法及装置、组件制造方法、以及校正方法， 更详细地+兌，涉及在移动面内驱动移动体的移动体驱动方法及移动体 驱动系统、利用该移动体驱动方法的图案形成方法及具备该移动体驱 动系统的图案形成装置、利用该移动体驱动方法的曝光方法及具备该 移动体驱动系统的曝光装置、利用该图案形成方法的组件制造方法、 以及测量移动面内的移动体的位置信息的编码器系统所使用的校正方法。
技术介绍
此外，在标尺端的附近设有用于决定后述编码器读头与标 尺间的相对位置的位置导出图案。此位置导出图案由反射率不同的栅 格线构成，编码器读头扫描于此图案上时，编码器的输出信号的强度 会改变。因此，预先设定临限值，检测输出信号的强度超过该临限值 的位置。以此检测出的位置为基准，设定编码器读头与标尺间的相对 位置。晶片台WTB的-Y端面、-X端面分别施以镜面加工而 形成为图2所示的反射面17a、反射面17b。构成干涉仪系统118(参 照图6)—部分的Y干涉仪16及X干涉仪126，127， 128(附图说明图1中X干涉 仪126~ 128并未图示，参照图2)，分别对这些反射面17a， 17b投射 干涉仪光束(测长光束)，并通过接收各自的反射光，测量各反射面从 基准位置(一般在投影单元PU侧面配置固定镜，再以该处为基准面) 的位移、即晶片载台WST在XY平面内的位置信息，并将该测量的 位置信息供应至主控制装置20。在本实施形态中，如后所述，作为上 述各干涉仪，除了 一部分以外均使用具有多个侧长轴的多轴干涉仪。主控制装置20，也可从X干涉仪127的测长光束B6的测 量值、及X干涉仪128的测长光束B7的测量值，求出晶片台WTB 在X轴方向的位移AX。不过，三个X干涉4义126，127，128的配置在 Y轴方向不同，X干涉仪126使用于进行图22所示的曝光时，X干涉 仪127使用于进行图29等所示的晶片对准时，X干涉仪128使用于 进行图26及图27所示的晶片装载时、及图25所示的卸载时。另外，从Z干涉仪43A， 43B分别投射沿Y轴的测长光束 Bl， B2向移动镜41。这些测长光束B1， B2分别以规定入射角(设为e /2)射入到移动镜41的反射面41b， 41c。另外，测长光束B1， B2分 别在反射面41b，41c反射，而呈垂直射入固定镜47A，47B的反射面。接着，在固定镜47A， 47B的反射面反射的测长光束B1， B2,再次分 别在反射面41b， 41c反射(逆向反转于射入时的光路)而被Z干涉仪 43A， 43B接收。如图5(B)所示，在测量载台MST的载台本体92的-Y侧 端面固定有框状安装构件42。另外，在载台本体92的-Y侧端面， 在安装构件42的开口内部的在X轴方向的中心位置附近，以能与前 述一对送光系统36相对向的配置固定有一对受光系统44。各受光系 统44,由中继透镜等的光学系统、受光元件(例如光电子增倍管等)、 及收纳这些的框体来构成。由图4(B)及图5(B)、及截至目前为止的说 明可知，在本实施形态中，在晶片载台WST与测量载台MST于Y 轴方向接近规定距离以内的状态(包含接触状态)下，透射过测量板30 的各空间像测量狭缝图案SL的照明光IL被前述各送光系统36导引， 而被在各受光系统44内部的受光元件接收。即，通过测量板30、送 光系统36、及受光系统44，来构成与前述日本特开2002- 14005号 公报(对应美国专利申请公开第2002/0041377号说明书)等所公开的 相同的空间像测量装置45(参照图6)。各第二对准系统AL2n(n = l~4)，如代表性地表示的第二 对准系统AL24那样，固定于能以旋转中心O为中心向图3中的顺时 针及逆时针方向旋动规定角度范围的臂56n(n = 1 ~ 4)的前端(旋动端)。 在本实施形态中，各第二对准系统AL2n的一部分(例如至少包含将对 准光照射于检测区域、且将检测区域内的对象标记所产生的光导引至 受光元件的光学系统)固定于臂56n,剩余的一部分则设于用于保持投 影单元PU的主框架。第二对准系统AL2!， AL22， AL23， AL24能通过 分别以旋转中心O旋动来调整X位置。即，第二对准系统AL2" AL22， AL23， AL24的检测区域(或检测中心)能独立移动于X轴方向。因此， 第 一对准系统AL1及第二对准系统AL2b AL22， AL23， AL24能调整其 检测区域在X轴方向的相对位置。此外，在本实施形态中，虽通过臂 的旋动来调整第二对准系统AL2l5 AL22， AL23，AL24的X位置，但并 不限于此，也可设置将第二对准系统AL2l5 AL22， AL23， AL24往返驱 动于X轴方向的驱动机构。另外，第二对准系统AL2i， AL22， AL23， AL24的至少一个也可不仅可移动于X轴方向而也可移动于Y轴方向。 此外，由于各第二对准系统AL2n的一部分通过臂56 来移动，因此 可通过未图示传感器例如干涉仪或编码器等来测量固定于臂56 的一 部分的位置信息。此传感器可仅测量第二对准系统AL2n在X轴方向 的位置信息，也能l吏其可测量其它方向例如Y轴方向及/或旋转方向 (包含0x及0y方向的至少一方)的位置信息。此外，在图7(A)及图7(B)中，与相对应的X标尺或Y标 尺相对向的读头用圓圏框住表示。此时，由于式(7)的右边第三项的括号内为零，同时满足nb--na( = n)，因此可得到次式(9)。 以下，为了简化^说明，对各Y编码器的Y读头，求出以下 式(10)所示表示测量误差Ay的晶片载台WST的纵摇量0x、偏摇量 ez、 Z位置z的函数，并储存于内存34内。并对各X编码器的X读 头，求出以下式(ll)所示表示测量误差Ax的晶片栽台WST的横摇量 ey、偏摇量0z、 Z位置z的函数，并储存于内存34内。其后，主控制装置20通过反复进行与上述(b)及(c)相同的 动作，求出于标尺39Yi上的Y轴方向以规定间隔设定的多个(例如n 一 1个)测量点中的Z位置信息Zp(此处，P = 2, 3......， i,......k，......n)。 (d)接着，主控制装置20根据就上述多个测量点分别求出的特异点的Z位置信息z^Z2，......zn,求出标尺39Yi的面的凹凸。如图17(D)所示，只要使表示标尺39Y!上各测量点中特异点的Z位置信 息zP的两箭头一端一致于规定基准线，连结各两箭头的另一端的曲 线，即表示标尺39Yi的面形状(凹凸)。因此，主控制装置20，将各两 箭头的另一端点进行曲线拟合(curve fit，最小平方近似)来求出表示 此凹凸的函数z-^(y)，并储存于内存34。此外，y是用Y干涉仪16 测量的晶片载台WST的Y坐标。其次，以主控制装置20的动作为中心，说明本实施形态 的晶片载台WST在XY平面内的位置控制中所使用的编码器读头在 切换时的接续处理、即测量值的初始设定。因此，在为了测量晶片载台WST在3自由度(X，Y，0z)方 向的位置而必须使用三个读本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种实质上沿着规定平面驱动移动体的移动体驱动方法，其特征在于包含下述步骤：　使用包含将测量光束照射于把与上述平面平行的第１方向作为周期方向的光栅、接收来自上述光栅的光束、排列于与上述第１方向的交叉方向的多个第１读头的编码器系统的至少一 个第１读头测量上述移动体在上述第１方向的位置信息，基于上述位置信息的测量结果以及与从在测量上述位置信息中所使用的至少一个第１读头射出的测量光束的上述平面平行的面内的位置信息，沿着上述平面驱动上述移动体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：柴崎祐一，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]