一种磁流变抛光装置、抛光方法及抛光工件制造方法及图纸

本发明专利技术涉及精密加工技术领域。本发明专利技术公开了一种磁流变抛光装置、抛光方法及抛光工件。其中，磁流变抛光装置的一种方案包括包括机架、载液头与第一驱动装置，所述第一驱动装置用于驱动所述载液头转动，所述载液头包括极性相反的第一磁极与第二磁极，所述第一磁极与所述第二磁极沿所述载液头的径向分布。本方案的磁流变抛光装置通过设置沿载液头的径向分布的第一磁极与第二磁极，使得抛光液中的磁性颗粒和磨粒能够集中在载液头侧面，以及底面与侧面的交接区域，且能够在打磨过程中对载液头侧面以及底面与侧面的交接区域的磨粒保持足够的吸附力，从而实现对工件内凹面的抛光。从而实现对工件内凹面的抛光。从而实现对工件内凹面的抛光。

【技术实现步骤摘要】
一种磁流变抛光装置、抛光方法及抛光工件


[0001]本专利技术涉及精密加工
，尤其是涉及一种磁流变抛光装置、抛光方法及抛光工件。

技术介绍

[0002]磁流变抛光工艺的基本原理是：抛光液在未加磁场时呈现出低粘度的牛顿流体特性，当受到一定强度的磁场作用时将会产生磁流变效应，呈现出高粘度、低流动性的宾汉体特性，呈现出宾汉体特性的抛光液与产品之间发生相对运动，以达到去除产品表面材料的目的。参照图1，示出了目前磁流变抛光装置载液头的示意图，如图所示，磁流变抛光装置工作时的磁场通常由磁体提供，磁体的一极朝向待加工的工件，磁体的另一极远离待加工的工件，此时磁体的磁力线如图1中的虚线所示，导致抛光液中的磁性颗粒和磨粒集中在载液头底面的中心位置，而载液头侧面，以及底面与侧面的交接区域缺少足够数量且具有足够吸附力的磁性颗粒和磨粒，不利于磁流变抛光装置对工件内凹面的抛光。

技术实现思路

[0003]本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的是提供一种磁流变抛光装置，能够使得抛光液中的磁性颗粒和磨粒集中在载液头侧面，以及底面与侧面的交接区域，且能够在打磨过程中对载液头侧面以及底面与侧面的交接区域的磨粒保持足够的吸附力。
[0004]本专利技术的第二个目的是提供一种抛光方法。
[0005]本专利技术的第三个目的是提供一种抛光工件。
[0006]本专利技术所采用的技术方案是：
[0007]第一方面，提供一种磁流变抛光装置，包括机架、载液头与第一驱动装置，所述第一驱动装置用于驱动所述载液头转动，所述载液头包括极性相反的第一磁极与第二磁极，所述第一磁极与所述第二磁极沿所述载液头的径向分布。
[0008]进一步地，还包括永磁体，所述永磁铁上设有所述第一磁极与所述第二磁极。
[0009]更进一步地，所述永磁体为矩形、圆柱形或者环形。
[0010]进一步地，还包括电磁铁，所述电磁铁上设有所述第一磁极与所述第二磁极。
[0011]进一步地，所述载液头包括从所述机架中伸出的端部，所述第一磁极与所述第二磁极连接在所述端部上。
[0012]进一步地，还包括第二驱动装置，所述第二驱动装置用于驱动所述机架转动，且所述机架的转动方向与所述载液头的转动方向相反。
[0013]更进一步地，所述第一驱动装置包括第一电机，所述第一电机的旋转轴与所述载液头连接，所述第二驱动装置包括第二电机与传动装置，所述机架以及所述第二电机的旋转轴分别与所述传动装置连接。
[0014]更进一步地，所述传动装置包括主动带轮、从动带轮与同步带，所述主动带轮与所
述第二电机的旋转轴连接，所述从动带轮与所述机架连接，所述同步带分别绕设在所述主动带轮与所述从动带轮上；
[0015]或者，所述传动装置包括主动齿轮与从动齿轮，所述主动齿轮与所述第二电机的旋转轴连接，所述从动齿轮与所述机架连接，所述主动齿轮与所述从动齿轮啮合。
[0016]第二方面，提供一种磁流变抛光方法，包括以下步骤，
[0017]设置载液头，所述载液头包括极性相反的两个磁极，且所述两个磁极沿所述载液头的径向分布；
[0018]在所述载液头与待加工工件之间添加抛光液，通过所述载液头的转动带动所述抛光液中的磨粒对所述待加工工件进行抛光。
[0019]第三方面，提供一种抛光工件，由上述磁流变抛光方法制成。
[0020]本专利技术的有益效果：
[0021]本专利技术的一个方案中通过设置沿载液头的径向分布的第一磁极与第二磁极，使得抛光液中的磁性颗粒和磨粒能够集中在载液头侧面，以及底面与侧面的交接区域，且能够在打磨过程中对载液头侧面以及底面与侧面的交接区域的磨粒保持足够的吸附力，从而实现对工件内凹面的抛光。
附图说明
[0022]图1是常见磁流变抛光装置加工时的示意图；
[0023]图2是本专利技术磁流变抛光装置第一实施例的剖视图；
[0024]图3是本专利技术磁流变抛光装置第一实施例加工时的示意图；
[0025]图4是利用本专利技术磁流变抛光装置第三实施例进行加工的测试数据图。
具体实施方式
[0026]本部分将详细描述本专利技术的具体实施例，本专利技术的较佳实施例在附图中示出，附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述，从而能够直观地、形象地理解本专利技术的每个技术特征和整体技术方案，但其不能理解为对本专利技术保护范围的限制。
[0027]在本专利技术的描述中，如果涉及到方位描述，例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。如果某一特征被称为“设置”、“固定”、“连接”在另一个特征，它可以直接设置、固定、连接在另一个特征上，也可以间接地设置、固定、连接在另一个特征上。
[0028]在本专利技术的描述中，如果涉及到“若干”，其含义是一个或者多个，如果涉及到“多个”，其含义是两个以上，如果涉及到“大于”、“小于”、“超过”，均应理解为不包括本数，如果涉及到“以上”、“以下”、“以内”，均应理解为包括本数。如果涉及到“第一”、“第二”，应当理解为用于区分技术特征，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。
[0029]此外，除非另有定义，本专利技术所使用的技术术语和科学术语均与所属
的技术人员通常理解的含义相同。本专利技术所使用的术语只是为了描述具体的实施例，而不是
为了限制本专利技术。
[0030]参照图1，示出了常见磁流变抛光装置加工时的示意图。如图所示，常见载液头中的磁体1沿载液头的轴向放置，一端的磁极11朝向待加工工件2，另一端的磁极12则远离待加工工件2，因此抛光液中的磁性颗粒和磨粒集中在载液头底面13的中心位置，而载液头侧面14，以及底面13与侧面14的交接区域缺少足够数量且具有足够吸附力的磁性颗粒和磨粒，难以对工件2上的内凹面21进行有效的磨削。
[0031]一.磁流变抛光装置第一实施例
[0032]为解决上述问题，参照图2，示出了磁流变抛光装置第一实施例的剖视图，如图所示，磁流变抛光装置包括机架100、载液头200、第一驱动装置(未示出)、第一轴承300与第二轴承400。
[0033]机架100的内部中空，载液头200的主体结构位于机架100的内部，并通过轴承与机架100转动连接，具体的，机架100的顶部与底部均设有供载液头200伸出的孔，载液头200的上部通过第一轴承300与机架100的内壁转动连接，中部通过第二轴承400与机架100的内壁转动连接，实现载液头200的稳定转动。
[0034]载液头200包括壳体210、芯轴220、永磁体230与保护罩240。壳体210包括第一段211，以及与第一段同轴且直径大于第一段211的第二段212本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁流变抛光装置，其特征在于，包括机架、载液头与第一驱动装置，所述第一驱动装置用于驱动所述载液头转动，所述载液头包括极性相反的第一磁极与第二磁极，所述第一磁极与所述第二磁极沿所述载液头的径向分布。2.根据权利要求1所述的磁流变抛光装置，其特征在于，还包括永磁体，所述永磁铁上设有所述第一磁极与所述第二磁极。3.根据权利要求2所述的磁流变抛光装置，其特征在于，所述永磁体为矩形、圆柱形或者环形。4.根据权利要求1所述的磁流变抛光装置，其特征在于，还包括电磁铁，所述电磁铁上设有所述第一磁极与所述第二磁极。5.根据权利要求1所述的磁流变抛光装置，其特征在于，所述载液头包括从所述机架中伸出的端部，所述第一磁极与所述第二磁极连接在所述端部上。6.根据权利要求1所述的磁流变抛光装置，其特征在于，还包括第二驱动装置，所述第二驱动装置用于驱动所述机架转动，且所述机架的转动方向与所述载液头的转动方向相反。7.根据权利要求6所述的磁流变抛光装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴勇波，乔先鹏，陈威，王富全，
申请(专利权)人：南方科技大学，
类型：发明
国别省市：