本发明专利技术提供了一种提高清洗力的基板清洗装置和提高清洗装置的清洗能力为目的的修正方法。基板清洗装置包含基板，由基板向下突出设置的多个磁盘刷，设置在基板上多个磁盘刷两侧的、支承基板的第１框架和第２框架，分别设置在第１框架和第２框架上部的第１凸缘和第２凸缘，从第１凸缘和第２凸缘贯通第１框架和第２框架的、分别调节第１凸缘和第２凸缘到基板的距离的第１修正部件和第２修正部件。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种，更详细地说,是涉及一种 提高了清洗力的基板清洗装置以及提高清洗力的基板清洗装置的修正方 法。
技术介绍
一般而言，半导体基板上反复进行蒸镀、光刻(lithography)、蚀亥lj、 化学的/机械的研磨，清洗和干燥等单位工序。在上述单位工序之中，清洗 工序是在进行各个单位工序时、除去附着在半导体基板表面上的异质物和 不必要的膜的工序。随着半导体基板上形成的图形被细微化、以及图形的 纵横比(aspectratio)增大，清洗工序的重要性也依次变大。在这样的清洗工序中，包含磁盘刷的基板清洗装置包含基板和由基板 向下突出设置的多个磁盘刷。磁盘刷在与半导体基板的面接触状态下，边 旋转，边清洗半导体基板。包含历来的磁盘刷的基板清洗装置，由于由基板向下突出设置的多个 磁盘刷的负载,在基板上会发生下沉现象。特别是会造成基板清洗装置的中 央部分相对较多的下沉。像这样当基板清洗装置的中央部分发生下沉时， 降低设置在基板中央部位的磁盘刷的清洗力，可降低基板清洗装置的清洗 力。专利文献1:大韩民国技术公开第1999-007164号公报(第3-7页、第7图)
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术要解决的课题是，提供一种能提高清洗力的基板清洗装置。本专利技术要解决的另一个课题是，提供一种提高清洗力的基板清洗装置 的修正方法。本专利技术要解决的课题不仅限于以上提及的课题，上述未提及的或其它 的课题通过下述记载可使所属
的技术人员明确的理解。课题解决的手段解决上述课题的本专利技术的一个实施方式的基板清洗装置包含基板；设 由基板向下突出设置的多个磁盘刷；在基板上设置在多个磁盘刷两侧、支 承基板的第1和第2框架；分别设置在第1和第2框架的上部的第1和第 2凸缘；及从第1和第2凸缘开始贯通第1和第2框架设置的、分别调节 第1和第2凸缘到基板的距离的的第1和第2修正部件。为解决上述课题的本专利技术的其它实施方式的基板清洗装置包含基板； 由基板向下突出设置的多个磁盘刷；设置在基板上面、支承基板的框架； 设置在框架上的凸缘以及设置在凸缘上在框架的底部对凸缘施加拉伸力 的修正部件。为解决上述课题的本专利技术的一个实施方式的基板清洗装置的修正方 法包含提供包含基板，由基板向下突出设置的多个磁盘刷，设置在基板上、 支承基板的框架以及设置在框架上部的凸缘的基板清洗装置的步骤；在框 架的内部下面设置一个以上的修正块的步骤；贯通凸缘的上部和框架的上 部、连接一个以上的修正螺丝钉和修正块的步骤。本专利技术的其它具体事项包含在详细的说明及附图中。 专利技术的效果根据本专利技术的，能减少基板的下沉现象， 特别是能够减少基板清洗装置中央部位的下沉状况。因此，能提高基板清洗装置的尤其是设置在中央部位的磁盘刷的清洗力，能提高基板清洗装置 的清洗力。附图说明图1是本专利技术的一个实施方式的基板清洗装置的立体图。图2是从A方向看图1的基板清洗装置的断面图。 图3是从B方向看图1的基板清洗装置的断面图。 图4是从C方向看图1的基板清洗装置的断面图。 图5是说明图4的磁盘刷驱动部的附图。图6是从图1的C方向看本专利技术其它实施方式的基板清洗装置的截 面图。图7是从图1的A方向看本专利技术其它实施方式的基板清洗装置的附图。图8是从图1的C方向看本专利技术其它实施方式的基板清洗装置的截面图。图9是表示本专利技术一个实施方式的基板清洗装置的修正方法的步骤图。符号说明110基板支承台 120基板 130a第1框架 130b第2框架 140升降部 150刷盘 155磁盘刷160刷轴 170电刷的驱动部 210a第1修正螺丝钉 210b第2修正螺丝钉 212螺母220a第1修正块 220b第2修正块 230a第1凸缘 230b第2凸缘 260支承部件具体实施例方式本专利技术的优点和特征以及实现这些的方法，通过参照附图和其详细后 述的实施方式，可明白。但是，本专利技术并不限于以下所公开的实施方式， 而是能够通过多种互不相同的实施方式具体实现，本实施方式仅仅是本发 明内容的完全公开，是为了使本专利技术所属
的具有通常知识的技术 人员能够完全理解本专利技术的范围而提供的，本专利技术只根据权利要求书定 义。在本说明书全文中，同一参照符号表示同一个构成要素。另外，和 /或包含言及的项目中的单个项目和一个以上条款的所有的组合。例如第1和第2等是为了对多样的元件、构成要素及/或部分进行叙述 而使用的，当然这些元件、构成要素及/或部分不受这些用语的限制。这些 用语只是为了将一个元件、构成要素及/或部分与其它单元、构成要素或部 分进行区别而使用的。因此，在本专利技术的技术思想中，下文提及的第l元 件、第1构成要素或第1部分当然也可以是第2元件、第2构成要素或第 2部分。本说明书中使用的用语只是用于说明本专利技术的实施方式，并不限制本 专利技术。在本说明书中，只要没有在文字上特别提及单数型的，也包含复数 型。本说明书中使用的包含(comprises)和/或包含(comprising)是指提及的构成要素、步骤、动作和/或元件不排除一个以上其它的构成要 素、步骤、动作和/或元件的存在或追加。如果没有其他的定义，本说明书中使用的所有用语(包含技术和科学 的用语)是本专利技术所属
的具有通常知识的技术人员能够共通理解 的，可被使用。此外， 一般使用的已经被事先定义的用语，只要没有被清 楚的特别的定义，就不能对其进行理想的或过度的解释。以下，参照附图，说明本专利技术的实施方式的基板清洗装置及基板清洗 装置的修正方法。参照图1至图5，说明本专利技术的一个实施方式的基板清洗装置。图1 是本专利技术的一个实施方式的基板清洗装置的立体图。图2是图1中的基板 清洗装置从A方向看的截面图。图3是图1的基板清洗装置从B方向看 的附图。图4是图1的基板清洗装置从C方向看的截面图。图5是说明图 4中的磁盘刷的驱动部的附图。参照图1至图5，基板清洗装置包含基板120、设置在基板120上的 多个磁盘刷155、支承基板的第1框架130a和第2框架130b、设置在第1 框架130a上部的第1凸缘230a、设置在第2框架130b上部的第2凸缘 230b、设置在第1凸缘上的第1修正部件210a、 220a、和设置在第2凸缘 上的第2修正部件210b、 220b。基板120上设置有多个磁盘刷155，半导体基板(W)装载在基板支 承台110上。附图中没有图示，但基板支承台110在装载半导体基板(W) 的状态下转动，可移送半导体基板(W)。多个磁盘刷155由基板120向下突出设置。多个磁盘刷155可在一列 以上的队列中排列。例如，可按图1和图4所示的两列排列，如图3所示，8多个磁盘刷155可交替配置。通过数个磁盘刷155被交替配置，能够提高 磁盘刷155在半导体基板(W)上接触面积的密度。图1和图2中显示的是磁盘刷155的数量为8个的情形，然而这个数 量只是表示方便。例如，最近的基板清洗装置中设置了39个磁盘刷155。 这样地，随着磁盘刷155的数量的增加，由于磁盘刷155的负载所造成的 基板120的下沉更为严重。然而在本专利技术中的第1实施例中，通过利用第 1凸缘230a、第2凸缘230b、第1修正部件210a、 220a以及第2修正部 件210b、 220b，能够减少框架120的这种下沉现象。磁盘本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种基板清洗装置，其特征在于：包含基板，由上述基板向下突出设置的多个磁盘刷，在基板上、设置在上述多个磁盘刷两侧的支承上述基板的第１和第２框架，分别设置在第１和第２框架上部的第１和第２凸缘，及从上述第１和第２凸缘开始贯通上述第１和第２框架设置的、分别调节上述第１和第２凸缘到上述基板的距离的第１修正和第２修正部件。
【技术特征摘要】
KR 2007-12-5 10-2007-01255591. 一种基板清洗装置，其特征在于包含基板，由上述基板向下突出设置的多个磁盘刷，在基板上、设置在上述多个磁盘刷两侧的支承上述基板的第1和第2框架，分别设置在第1和第2框架上部的第1和第2凸缘，及从上述第1和第2凸缘开始贯通上述第1和第2框架设置的、分别调节上述第1和第2凸缘到上述基板的距离的第1修正和第2修正部件。2. 根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于上述第1和 第2修正部件包含分别设置在上述第1和第2框架内部下面的第1和第2 修正块，从上述第1和第2凸缘开始贯通上述第1和第2框架、分别与上 述第1和第2修正块连接的第1和第2修正螺丝钉。3. 根据权利要求2所述的基板清洗装置，其特征在于还包含将上述 第1和第2修正螺丝钉分别固定在上述第1和第2凸缘上部的螺母。4. 根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于上述的框架为 中空的四角柱形状、上述第1和第2凸缘包含与上述框架的上壁垂直竖立 的两个侧壁以及连接上述两个侧壁的上段的上壁。5. 根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于上述多个磁盘 刷在一列以上的队列中排列，上述框架沿上述排列方向设置。6. 根据权利要求5所述的基板清洗装置，其特征在于上述第1和第2 凸缘分别设置在第1和第2框架的中央部位。7. 根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于还包含在垂与 上述第1和第2框架的长度方向的垂直方向上连接上述第1和...
【专利技术属性】
技术研发人员：尹泰烈，李晟熙，
申请(专利权)人：株式会社细美事，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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