一种光阻供应管路装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种光阻供应管路装置，包括依次顺序连接的光阻瓶，过滤器和喷嘴，其中，在过滤器与喷嘴之间的管路中安装缓冲罐，其位置高于喷嘴的位置，缓冲罐上方装有排气装置，过滤器中的光阻经管路流入缓冲罐，如果管路中含有气泡，由于重力作用气泡会自动浮出光阻，停留在缓冲罐中光阻液面的上方，并最终通过排气装置排出，不含气泡的光阻会经管路流到喷嘴。本实用新型专利技术的优点在于可以去除光阻中的气泡，保证光阻的注入情况和涂布情况，改变光阻喷出的速度，装置简单，易于实现，特别是不需在过滤器更换过程中进行排气泡处理，节省了因排气泡的过程而消耗的光阻和工作人员的时间，增加了产品的优良率与减少制造成本。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光阻供应设备的
，特别涉及--种光阻供应管 路装置。
技术介绍
在晶片生产过程中，光阻是很重要的原料之一。 一般来说，光阻的价 格都是比较昂贵的，因此在生产中应当避免光阻的浪费。在当前光阻管路设计情况下，每次换光阻过滤器(filter)时，光阻在充满过滤器的过程中， 过滤器里面的空气就会混合在光阻中，所以就要进行排气泡，在这个过程 中往往要消耗掉大量的光阻和工程师的时间，给半导体厂造成很多不必要 的成本损失。目前公知的光阻供应管路装置请参见图1，其包括顺序连接 的光阻瓶(resist bottle)101，泵102，过滤器103和喷嘴104，光阻瓶101 中通有氮气(N2)，以形成正压，泵102从光阻瓶101中抽吸光阻，送入过 滤器103过滤，然后将光阻送到喷嘴104，此时如果光阻中有气泡的话， 气泡就会直接经由喷嘴104喷到晶片上，而如果过滤器103中有气泡，则 光阻经过滤波器103时便会携带这些气泡，再经过后面的管路直接到达喷 嘴104，这些气泡对于注入情况和涂布情况有很不利的影响。因此，目前急需一种可排气泡的光阻供应管路装置，特别是一种不需 在过滤器更换过程中进行排气泡处理的光阻供应管路装置，以增加产品的 优良率与减少制造成本。
技术实现思路
本技术的目的在于提出一种改进的光阻供应管路装置，其通过增 加少量的设备和很低的成本解决了光阻供应管路中的气泡问题。为达上述目的，本技术提供了一种光阻供应管路装置，包括依次 顺序连接的光阻瓶，过滤器和喷嘴，其中，在过滤器与喷嘴之间的管路中安装一缓冲罐(buffertank)，其位置高于喷嘴的位置，缓冲罐上方装有排气 装置，如果管路中含有气泡，由于重力作用气泡会自动浮出光阻，停留在 缓冲罐中光阻液面的上方，并最终通过排气装置排出，不含气泡的光阻会 经管路流到喷嘴。缓冲罐安装或放置于其外部的移动装置，缓冲罐随移动装置移动，通 过改变缓冲罐与喷嘴的高度差改变光阻喷出的速度。缓冲罐内安装有液位传感器，如果光阻超出预定容量的可变化范围， 则光阻液面的高度会过高或过低，液位传感器会发信号给机台，机台便会本技术的一个优点在于在过滤器后加入缓冲罐，可以去除光阻中 的气泡，保证光阻的注入情况和涂布情况。其另一优点在于可通过改变缓 冲罐的位置而改变光阻注入的分配率。同时，本技术装置简单，易于 实现，特别是不需在过滤器更换过程中进行排气泡处理，节省了因排气泡 的过程而消耗的光阻和工作人员的时间，增加了产品的优良率与减少制造 成本。为让本技术之上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文 特举较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下。附图说明图1为公知的光阻供应管路装置的示意图。图2为本技术的光阻供应管路装置的原理图。图3为本技术一较佳实施例的光阻供应管路装置的示意图。具体实施方式由于本技术的技术特征着重于对光阻供应管路装置中过滤器与 喷嘴之间的管路的改进，因此以下所说明的仅以光阻供应管路装置中的过滤器、缓冲罐、喷嘴及其周边相关的器件为主，其余与缓冲罐无关的器件 兹不赘述。本技术的光阻供应管路装置的原理如图2所示，在过滤器103和 喷嘴104之间加装一个缓冲罐20，光阻从过滤器103中出来之后先经过缓 冲罐20，如果管路中含有气泡，由于重力作用气泡会自动浮出光阻，停留 在缓冲罐20中光阻液面的上方，并最终通过排气装置排出，由于缓冲罐 20与喷嘴104之间有一个高度差H，最终不含气泡的光阻会经管路流到喷 嘴104。此时流入喷嘴104的光阻中没有气泡或气泡低至可忽略的数量， 对注入情况和涂布情况都不会产生影响。本专利技术一较佳实施例的光阻供应管路装置如图3所示，在光阻瓶101 中通有氮气，当然，光阻瓶101可以是任何形式的容纳光阻的容器，不局 限于附图中的瓶状容器，而其中通入的气体可以是氮气或任一种合适的气 体。光阻从光阻瓶101中被抽吸出来，经过其他设备和泵102后流入过滤 器103。光阻在经过滤器103过滤后流入缓冲罐20，如果管路中含有气泡， 由于重力作用气泡会自动浮出光阻，停留在缓冲罐20中光阻液面的上方， 并最终通过排气装置排出，气泡在更换过滤器103等过程中产生，气泡内 的气体便是进行更换过滤器103等操作时引入的气体。最终缓冲罐20内 不含气泡的光阻通过其下方的管路流入喷嘴104，进行光阻注入和涂布。 这样，光阻内的气泡便不会到达后面的管路，在此实施例中，排气装置为 通气阀302，当然，排气装置可以是任何可排出气体的装置，例如排气管， 排气口等。在缓冲罐20中还可以装有液位传感器202，当缓冲罐20内光 阻容量超过预定容量或少于预定容量的容许变化范围，也就是光阻液面的 高度过高或过低时，液位传感器会发信号给机台，机台便会告警，这样便 可以保证缓冲罐20内的光阻液面高度在一个很小的范围内波动，保证注 入光阻时喷出速度(dispense mte)的稳定性。在缓冲罐20的外部有一移动 装置201，缓冲罐20安装或放置于其上，随移动装置201移动，通过改变 缓冲罐20与喷嘴104的高度差H改变光阻注入的分配率。在此实施例中， 移动装置201下方为一个近似L形的支架，缓冲罐20置于支架的凹陷 处，当然，只要可以带动缓冲罐20进行各个方向的移动，移动装置201可以是任何合适的装置，其可以是自动控制装置或手动控制装置。以上所述仅为本技术的较佳实施例，并非因此限定本技术的 专利保护范围，故凡运用本技术的说明书及图示内容所谓的等效结构 变化，或直接或间接运用于其他相关
均同理皆包含于本技术 所涵盖之范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光阻供应管路装置，包括依次顺序连接的光阻瓶，过滤器和喷嘴，其特征在于，在过滤器与喷嘴之间的管路中安装缓冲罐，其位置高于喷嘴的位置，缓冲罐上方装有排气装置，过滤器中的光阻经管路流入缓冲罐，如果管路中含有气泡，由于重力作用气泡会自动浮出光阻，停留在缓冲罐中光阻液面的上方，并最终通过排气装置排出，不含气泡的光阻会经管路流到喷嘴。

【技术特征摘要】
1.一种光阻供应管路装置，包括依次顺序连接的光阻瓶，过滤器和喷嘴，其特征在于，在过滤器与喷嘴之间的管路中安装缓冲罐，其位置高于喷嘴的位置，缓冲罐上方装有排气装置，过滤器中的光阻经管路流入缓冲罐，如果管路中含有气泡，由于重力作用气泡会自动浮出光阻，停留在缓冲罐中光阻液面的上方，并最终通过排气装置排出，不含气泡的光阻会经管路流到喷嘴。2. 根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡清强，陈晓琪，鲁旭光，
申请(专利权)人：和舰科技苏州有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]