OLED显示面板、及其像素电路基板和加工方法技术

本公开实施例提供了一种OLED显示面板、及其像素电路基板和加工方法，像素电路基板至少包括：多个像素结构，相邻像素结构的阳极区域通过预定分割区域分割，预定分割区域内的预定位置设置有凸起结构，预定位置的宽度小于或等于阳极层的刻蚀区域的宽度，预定位置的长度大于或等于阳极层的刻蚀区域的长度。本公开实施例的将原有预定分割区域内设置了一个凸起结构，在设置阳极层和PR胶层时，原有处于平面的阳极层和PR胶层被凸起结构支撑起，原有PR胶层的厚度被凸起结构占据一部分，导致预定分割区域内的PR胶层变薄，因此在进行曝光显影时，能够将PR胶完全洗掉，进而在刻蚀阳极层时，阳极层能够被完全刻蚀掉，不会再出现阳极残留问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
OLED显示面板、及其像素电路基板和加工方法


[0001]本公开涉及显示领域，特别涉及一种OLED显示面板、及其像素电路基板和加工方法。

技术介绍

[0002]在目前OLED产品生产过程中，在制作Anode Mask(阳极模板)时，由于PLN孔(平坦层孔，在平坦层上设置的)周围处会出现PR胶堆叠的情况，此处PR胶较厚，不容易曝开，导致后续刻蚀过程中PLN过孔位置的阳极无法完全刻蚀掉，发生Anode Remain(残留)，进而引起片状发亮不良。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本公开实施例提出了一种OLED显示面板、及其像素电路基板和加工方法，用以解决现有技术的如下问题：在制作Anode Mask时，由于PLN孔周围处PR胶堆叠导致后续刻蚀过程中PLN过孔位置的阳极无法完全刻蚀掉，发生Anode Remain(残留)，进而引起片状发亮不良。
[0004]一方面，本公开实施例提出了一种OLED显示面板的像素电路基板，至少包括：多个像素结构，相邻像素结构的阳极区域通过预定分割区域分割，所述预定分割区域分割内的预定位置设置有凸起结构，所述预定位置的宽度小于或等于阳极层的刻蚀区域的宽度，所述预定位置的长度大于或等于阳极层的刻蚀区域的长度。
[0005]在一些实施例中，所述凸起结构设置宽度等于所述预定位置的宽度。
[0006]在一些实施例中，所述凸起结构的材料为非金属材料。
[0007]在一些实施例中，所述凸起结构的材料包括以下之一：氮化硅，氧化硅。
[0008]在一些实施例中，所述凸起结构的剖面形状至少包括以下之一：半圆形、梯形、方形、三角形。
[0009]另一方面，本公开实施例提出了一种OLED显示面板，至少包括：本公开任一实施例所述的OLED显示面板的像素电路基板。
[0010]另一方面，本公开实施例提出了一种OLED显示面板的像素电路基板的加工方法，用于加工本公开任一实施例所述的OLED显示面板的像素电路基板，包括：在第一平坦层的预定位置上设置凸起结构，其中，所述预定位置设置在相邻像素结构的阳极区域的预定分割区域中，所述预定位置的宽度小于或等于阳极层的刻蚀区域的宽度，所述预定位置的长度大于或等于阳极层的刻蚀区域的长度；在所述第一平坦层和所述凸起结构上设置阳极层；在所述阳极层上涂覆PR胶层；对PR胶层进行曝光显影处理，以去掉所述预定分割区域内的PR胶层；对显影处理后所述预定分割区域内露出的阳极层进行刻蚀处理，以得到具有凸起结构的所述预定分割区域；对具有所述凸起结构的所述预定分割区域的基板进行PR胶剥离处理，以得到具有裸露的阳极层的像素电路基板。
[0011]在一些实施例中，所述得到具有裸露的阳极层的像素电路基板之后，还包括：在所
述像素电路基板上涂布第二平坦层。
[0012]在一些实施例中，所述对PR胶层进行曝光显影处理，包括：按照预定图案模板对所述PR胶层进行曝光处理；对曝光处理后的所述PR胶层进行显影处理。
[0013]在一些实施例中，所述在第一平坦层的预定位置上设置凸起结构，包括：设置所述凸起结构的宽度等于所述预定位置的宽度。
[0014]本公开实施例的将原有预定分割区域内设置了一个凸起结构，在设置阳极层和PR胶层时，原有处于平面的阳极层和PR胶层被凸起结构支撑起，原有PR胶层的厚度被凸起结构占据一部分，导致预定分割区域内的PR胶层变薄，因此在进行曝光显影时，能够将PR胶完全洗掉，不会有残留，进而在刻蚀阳极层时，阳极层能够被完全刻蚀掉，两个像素结构的阳极层彼此完全独立，不会再出现阳极残留而导致发亮不良的问题，提升了产品性能。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1为本公开实施例提供的OLED显示面板的像素电路基板的剖面结构示意图；
[0017]图2为相关技术中存在阳极残留的像素电路基板的剖面结构示意图；
[0018]图3为相关技术中在刻蚀预定分割区域的阳极层后应有的标准剖面结构示意图；
[0019]图4为相关技术中实际像素结构中存在阳极残留的示意图；
[0020]图5为本公开实施例提供的OLED显示面板的像素电路基板的加工方法的流程图；
[0021]图6为本公开实施例提供的加工方法对应的剖面加工示意图。
具体实施方式
[0022]为了使得本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
[0023]除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
[0024]为了保持本公开实施例的以下说明清楚且简明，本公开省略了已知功能和已知部件的详细说明。
[0025]本公开实施例提供了一种OLED显示面板的像素电路基板，其剖面结构示意如图1所示，至少包括：
[0026]多个像素结构，相邻像素结构的阳极区域通过预定分割区域分割，预定分割区域内的预定位置设置有凸起结构，预定位置的宽度小于或等于阳极层的刻蚀区域的宽度，预定位置的长度大于或等于阳极层的刻蚀区域的长度。
[0027]本公开实施例的将原有预定分割区域内设置了一个凸起结构，在设置阳极层和PR胶层时，原有处于平面的阳极层和PR胶层被凸起结构支撑起，原有PR胶层的厚度被凸起结构占据一部分，导致预定分割区域内的PR胶层变薄，因此在进行曝光显影时，能够将PR胶完全洗掉，不会有残留，进而在刻蚀阳极层时，阳极层能够被完全刻蚀掉，两个像素结构的阳极层彼此完全独立，不会再出现阳极残留而导致发亮不良的问题，提升了产品性能。
[0028]上述凸起结构设置在预定分割区域中的预定位置，其预定分割区域是PLN孔的周边区域，凸起结构可以与预定位置完全具有相同大小，当然，为了完全杜绝阳极残留的问题，优选设置凸起结构的宽度等于预定位置的宽度。
[0029]由于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示面板的像素电路基板，其特征在于，至少包括：多个像素结构，相邻像素结构的阳极区域通过预定分割区域分割，所述预定分割区域内的预定位置设置有凸起结构，所述预定位置的宽度小于或等于阳极层的刻蚀区域的宽度，所述预定位置的长度大于或等于阳极层的刻蚀区域的长度。2.如权利要求1所述的像素电路基板，其特征在于，所述凸起结构设置宽度等于所述预定位置的宽度。3.如权利要求1所述的像素电路基板，其特征在于，所述凸起结构的材料为非金属材料。4.如权利要求1所述的像素电路基板，其特征在于，所述凸起结构的材料包括以下之一：氮化硅，氧化硅。5.如权利要求1至4中任一项所述的像素电路基板，其特征在于，所述凸起结构的剖面形状至少包括以下之一：半圆形、梯形、方形、三角形。6.一种OLED显示面板，其特征在于，至少包括：权利要求1至5中任一项所述的OLED显示面板的像素电路基板。7.一种OLED显示面板的像素电路基板的加工方法，其特征在于，用于加工权利要求1至5中任一项所述的OLED显示面板的像素电路基板，包括：在第一平坦层的预定位置上设置凸起结构，其中，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王旭，李子华，张瑞卿，王强，王旭东，金文强，徐国芳，景国栋，郭强，蔡璐，徐东，李春波，刘乐，
申请(专利权)人：鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：