处理装置及机械手装置制造方法及图纸

技术编号:3219823 阅读:215 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
处理装置,设有多个处理部,是将被处理物依次输送到这些处理部而进行处理的,其特征在于:它将上述多个处理部配置成上下二段。(*该技术在2017年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用多个处理部依次处理液晶用玻璃基板和半导体晶片等被处理物的处理装置及处理方法、以及用来输送上述被处理物的机械手装置。
技术介绍
以前,在液晶用的玻璃基板或半导体晶片等被处理物上形成回路的制造工序中,要对这些被处理物进行种种处理,其中的一个处理是要求用高洁净度洗净上述被处理物的工序。在被处理物的洗净方面,已知的有各种洗净机构(处理部),譬如有将紫外线照射在被处理物上、使有机物分解而加以除去的紫外线照射机构;一边将药液等喷涂在输送中的被处理物上、一边用刷子加以洗净的刷子洗净机构;将被处理物保持在工作台上、一边使其旋转、一边喷涂药液等洗净液的旋转洗净机构等,在用多个洗净机构洗净处理被处理物时,还相对于这些洗净机构设置输送机构(处理部),将被处理物输入、输出。为了提高被处理物的洁净度,要在上述多个洗净机构中尽可能多地采用洗净机构对被处理物进行清洗。这时把组件化的多个洗净机构平面地并排设置在清洗室里,用输送机构把要洗净的被处理物相对多个洗净机构依次进行输入、输出。但是,在把上述多个洗净机构和输送机构平面地配置时,多个洗净机构和输送机构会占去清洗室中较大的空间。要尽可能有效地利用清洗室中的空间。因此在洗净被处理物时,最好将多个洗净机构和输送机构所占的空间缩小。为了把上述被处理物在并排设置的洗净机构间进行输送,在上述洗净机构上的洗净处理是连续进行的场合下,只要用传送带进行连续输送就可以。但在洗净机构上的洗净处理是如旋转洗净那样不是连续进行的场合下,则用机械手装置输送上述被处理物,这机械手装置构成上述的输送机构,其作为一个处理部。在把机械手装置用作输送机构时,有时是使这机械手装置沿着并排的多个洗净机构行进的。这时在上述机械手装置的行进范围内要设置轨道。但是,在用上述机械手装置输入、输出那些要被洗净的被处理物时,从被处理物上滴下的洗净液有时会滴到上述轨道上。作为洗净液除了纯水以外,有时会用酸度很高的药液等用作洗净液。因此在把这种药液用作洗净液时,从被处理物上滴下的药液会腐蚀轨道,会损伤用来控制上述机械手装置的电缆。而且,在用机械手装置把被处理物输入到规定的洗净机构时,在这洗净机构上对被处理物的洗净结束之前,必须把由前一道工序洗净的被处理物停留并处于待机状态。在这种场合下一旦待机时间加长,就有使前一道工序附着在上述被处理物上的洗净液干燥,并沾染等附着在这被处理物上的问题。上述的空间问题不仅在洗净处理被处理物时会发生,在各种工序也存在这问题。譬如在涂敷保护膜的场合下,由于设置涂敷装置、加热装置、预热装置等多个处理部,因而就产生同样的问题。专利技术的公开本专利技术的目的是提供一种处理装置及处理方法,它能把多个处理部设置在较小的空间里。本专利技术的另一个目的是提供一种这样的处理装置,即为了用机械手装置在处理部之间交接被处理物、使这机械手装置沿着处理部行进时,洗净液不会从上述被处理物滴到下边的机械手装置的轨道等上面。本专利技术的再一个目的是提供一种这样的处理装置,即,即使机械手装置在处理部之间进行交接的被处理物停留时,甚至在待机状态下,也不会使这被处理物干燥。为了达到上述目的而作出的本专利技术的一个最佳实施的处理装置,它设有多个处理部、是将被处理物依次输送到这些处理部进行处理的,其特征在于它是将上述多个处理部配置成上下二段的。这样,与平面地配置的场合相比,能把设置多个处理部所需要的专有面积缩小。为了达到上述目的而作出的本专利技术的一个最佳实施例的处理装置,它是用来处理被处理物的,其特征在于设有下列构件,即被配置成上段和下段等上下二段的多个处理部;与位于上段或下段中的任意一方的一端上的处理部相对配置的、保持尚未处理的被处理物的装料部;与位于上段或下段的另一方的一端上的处理部相对配置的、收容被处理过的被处理物的卸料部;从上述装料部将未处理的被处理物供给位于上段或下段的任意一方的一端上的第一交接机构;从位于上段或下段的任意一方的另一端上的处理部接受被处理物、并将这被处理物供给位于上段或下段的另一方的另一端上的第二交接机构。这样,与平面地配置的场合相比,能把设置多个处理部所需要的专用面积缩小。为了达到上述目的而作出的本专利技术一个最佳实施例的处理方法是输送被处理物并用多个处理部依次处理的,其特征在于设有下列多个工序,即将没处理过的被处理物按规定的高度供给的供给工序;用配置在高度大致与这输送高度相同位置上的处理部处理从上述供给工序供给输送的被处理物的第一处理工序;改变由这第一处理工序处理的被处理物的输送高度的高度变更工序;用配设在由上述高度变更工序变更过高度的位置上的处理部对上述被处理物进行处理的第二处理工序;存储由上述第二处理工序处理过的被处理物的存储工序;提供具备的处理方法。这样,由于能用不同的输送高度分别处理被处理物,因而能立体地有效利用处理被处理物用的空间。为了达到上述目的而作出的本专利技术一个最佳实施例的机械手装置,它设有第一臂和第二臂,它们都是将多个连杆能自由转动地连接,而且设有把被处理物保持在前端的定位调节件并进行伸缩运动,其特征在于上述第一臂的定位调节件位于第二臂的定位调节件的上方,而且在这第二臂的定位调节件上设置着喷嘴,它向被保持在该处的被处理物喷射液体。这样,能防止被保持在位于下侧的第二臂的定位调节件上的被处理物表面干燥;能防止用来防止上述被处理物表面干燥的液体附着到被保持在位于上侧的第一臂的定位调节件上的被处理物上。附图简述图1是表示本专利技术一个实施例的整体结构图;图2是表示上述实施例的第二交接机构的侧视图;图3是表示上述实施例的机械手配置状态的侧视图;图4是表示上述机械手的斜视图;图5是说明将净化空气导入机械手的结构图;图6是表示上述实施例的可动滚筒组件和固定滚筒组件的断面图。本专利技术的最佳实施例下面,参照附图说明本专利技术的一个实施例。图1所示的本专利技术的处理装置是洗净处理装置1,它是用于洗净处理作为被洗净物的液晶用玻璃基板的。这个洗净处理装置1设有如图中用双点划线表示的多个处理组件,在本实施例中设有第一~第五处理组件1a~1e,第一~第三处理组件1a~1c和第四、第五处理组件1d、1e并排设置成二列。图中的2是电装组件。在上述第一处理组件1a内有设置在座3上的装料部4。在这装料部4上、多片液晶用玻璃基板5层叠地保持着,由设置在上述座3上的图中没表示的输出机构、从下方将液晶用玻璃基板5依次一片片地输出。由第一交接机构6把从上述装料部4输出的液晶用玻璃基板5送入到第二处理组件16里。上述第一交接机构6设有垂直地直立设置的支柱7。在这支柱7上设有滚筒组件8,它能由图中没表示的驱动源上下自由地驱动。这个滚筒组件8设有构架9,在这构架9上架设着多个滚筒11,能使它们的轴线相互并行而且能自由地旋转。在构架9的一侧设置着使上述滚筒11旋转的驱动源12。使上述滚筒组件8的上表面下降到与上述装料部4输出的液晶用玻璃基板5相同的高度而处于待机状态下,把从上述装料部4输出的液晶用玻璃基板5供到上述滚筒组件8上。使接受液晶用玻璃基板5的滚筒组件8上升,将液晶用玻璃基板5供到按规定高度设置在第二处理组件16内的紫外线照射装置15上。上述紫外线照射装置15在其一侧形成了供给口16,使上述滚筒组件8上升、直到放置在其上表面上的液晶用玻璃基板5与上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.处理装置,设有多个处理部,是将被处理物依次输送到这些处理部而进行处理的,其特征在于它将上述多个处理部配置成上下二段。2.处理装置,它是用于处理被处理物的,其特征在于设有下列构件,即配置成上段和下段等上下二段的多个处理部;与位于上段或下段中的任意一方的一端上的处理部相对配置的、保持尚未处理的被处理物的装料部;与位于上段或下段中的另一方的一端上的处理部相对配置的、收容被处理过的被处理物的卸料部;从上述装料部将未处理的被处理物供给位于上段或下段中的任意一方的一端上的第一交接机构;从位于上段或下段中的任意一方的另一端上的处理部接受被处理物、并将这被处理物供给位于上段或下段的另一方的另一端上的第二交接机构。3.如权利要求1或2所述的处理装置,其特征在于在上段或下段的任意一方上设置多个处理部,它们对上述被处理物进行处理;在这些处理部的附近设置输入、输出机构,将被处理物输入、输出到各个处理部。4.如权利要求3所述的处理装置,其特征在于把上述输入、输出机构配置在下段,在这输入、输出机构的附近配置着别的处理部,在上述输入、输出机构和别的处理部之间设置着分流机构,将供给上述别的处理部的一部分净化空气分流给上述输入、输出机构。5.如权利要求2所述的处理装置,其特征在于上述第二交接机构由下列构件组成,即,输送被处理物的输送机构;将防止干燥用的液体供向被处理物的液体供给机构,这被处理物由上述输送机构输送;设置在上述输送机构的下侧、集积由上述液体供给机构供给的液体、而且与上述输送机构成一体地被上下驱动的排放盘,与这排放盘相连接、将集积在排放盘里的液体排出的可动管;能自由滑动地插入在这可动管里的固定管。6.如权利要求2所述的处理装置,其特征在于在规定的处理部的输出侧设置固定式滚筒组件,它是按规定的高度配置的,而且接受从上述处理部输出的被处理物;上述第二交接机构由可动式滚筒组...

【专利技术属性】
技术研发人员:宫迫久显
申请(专利权)人:芝浦机械电子装置股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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