【技术实现步骤摘要】
本专利技术一般涉及控制电子电路芯片和盖、热沉或其它冷却机构之间间隙厚度的结构和方法。具体地,本专利技术涉及控制电路芯片和盖或热沉之间间隙尺寸的系统,更具体地控制使所述间隙尽可能地小,不会有害地影响组装工艺或芯片集成度。本专利技术特别涉及控制设置在单个芯片或多芯片组件与它的盖或盖板之间的热膏材料的厚度。随着器件集成水平的不断提高,更有效地冷却大功率电子电路芯片的解决方案变为获取需要的系统性能越来越重要的因素。由于热膏或凝胶的简便性和高度的热性能,因此使用热膏或凝胶冷却单芯片或多芯片组件非常理想。热膏也不受小颗粒杂质影响;因此,组件的组装可以在非净化室环境中完成,这是有助于减小组件组装成本的一个因素。此外,热膏的柔顺性使它们吸收与芯片高度以及硬件变化相关的机械容差。有效地冷却电子电路芯片的另一方法是在芯片和它的相应组件盖之间使用焊料。此时,芯片背面金属化,焊料润温盖和芯片表面,由此当回流芯片时,在芯片和盖之间获得接合,焊料的热导率约10倍于可得到的最好热膏的热导率;因此和热膏相比它显著地提高了热性能。然而,通过控制芯片和盖之间间隙中的膏厚度可以获得热膏的柔顺性优点,同时提高热传导性。现已公知需要电子器件在低温下工作以增强性能和可靠性。这对CMOS器件特别适用,当温度减小10℃,系统速度增加约2%。对于一级近似,通过以下一维方程得到芯片的温度T芯片=T空气+P芯片xR内+P组件xR外当为单芯片组件时,组件的功率等于芯片功率,以上的方程简化为T芯片=T空气+P芯片x(R内+R外)在以上方程中,R内表示组件的内部热阻,即从芯片向上穿过热膏到达组件盖的阻值,而R ...
【技术保护点】
一种电子芯片组件,可以控制热膏的厚度,所述组件包括: 其中具有导电体的基板; 电子电路芯片,面朝下粘贴到所述基板,以与所述导体电连接; 设置在所述芯片的非朝下面上的热膏; 基本平坦的导热盖,设置在所述芯片上,与所述膏热接触,所述盖的水平范围比所述芯片大,因此具有伸出部分从所述盖周围的凸起的盖密封环上伸出; 具有侧壁的凹槽,所述槽设置在所述基板上或基板内,用于接收所述凸起密封环;以及 密封剂材料,设置在所述凹槽的所述侧壁和所述凸起的盖密封构件之间的所述凹槽内。
【技术特征摘要】
US 1999-1-6 09/226,4581.一种电子芯片组件,可以控制热膏的厚度,所述组件包括其中具有导电体的基板;电子电路芯片,面朝下粘贴到所述基板,以与所述导体电连接;设置在所述芯片的非朝下面上的热膏;基本平坦的导热盖,设置在所述芯片上,与所述膏热接触,所述盖的水平范围比所述芯片大,因此具有伸出部分从所述盖周围的凸起的盖密封环上伸出;具有侧壁的凹槽,所述槽设置在所述基板上或基板内,用于接收所述凸起密封环;以及密封剂材料,设置在所述凹槽的所述侧壁和所述凸起的盖密封构件之间的所述凹槽内。2.根据权利要求1的芯片组件,还包括设置在所述盖和所述芯片的非面朝下面之间的至少一个间隔结构。3.根据权利要求2的芯片组件,其中所述间隔结构为所述盖的一体部分。4.根据权利要求2的芯片组件,其中用做所述间隔结构的材料选自塑料、金属和陶瓷构成的组。5.根据权利要求2的芯片组件,其中所述间隔结构包括多个分立的间隔元件。6.根据权利要求2的芯片组件,其中所述间隔结构为所述芯片定制。7.根据权利要求1的芯片组件,其中所述槽在所述芯片周围的路径中延伸。8.根据权利要求7的芯片组件,其中所述路径封闭。9.根据权利要求1的芯片组件,其中所述槽为可密封地粘贴到所述基板的分离结构。10.一种电子芯片组件,可以控制热膏的厚度,所述组件包括其上具有导电体的基板;电子电路芯片,面朝下粘贴到所述基板,以与所述导体电连接;设置在所述芯片的非朝下面上的热膏;基本平坦的导热盖,设置在所述芯片上,与所述膏热接触,所述盖的水平范围比所述芯片大,因此所述盖具有伸出部分,所述盖还具有设置在所述伸出部分中的凹槽,所述凹槽具有侧壁;凸起密封环,设置在所述基板上,由此位于所述槽上与之面对,至少部分设置在所述槽内;以及密封剂材料,设置在所述侧壁和所述凸起的密封环之间的所述凹槽内。11.根据权利要求10的芯片组件,还包括设置在所述盖和所述芯片的非面朝下面之间的至少一个间隔结构。12.根据权利要求11的芯片组件,其中所述间隔结构为所述盖的一体部分。13.根据权利要求11的芯片组件,其中用做所述间隔结构的材料选自塑料、金属和陶瓷构成的组。14.根据权利要求11的芯片组件,其中所述间隔结构包括多个分立的间隔元件。15.根据权利要求11的芯片组件,其中所述间隔结构为所述芯片定制。16.根据权利要求11的芯片组件,其中所述槽在所述芯片周围的路径中延伸。17.根据权利要求11的芯片组件,其中所述路径是封闭的。18.根据权利要求10的芯片组件,其中凸起密封环设置在所述基板周边附近。19.根据权利要求18的芯片组件,其中所述凸起密封环具有T形剖面。20.根据权利要求10的芯片组件,还包括...
【专利技术属性】
技术研发人员:希尔顿T特罗伊,里德A谢里夫,
申请(专利权)人:国际商业机器公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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