【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及制造大规模集成电路(LSI)系统的掩模的方法、系统、以及程序。
技术介绍
通常,需要根据每一半导体制造工艺制造掩模和光刻掩模版。因此,首先,基于大规模集成电路的设计通过使用计算机辅助设计(CAD)系统生成对应于多个掩模中的每个的掩模数据。接着,通过使用诸如电子束写入器的图案生成器生成能够被置于彼此之上的掩模,从而,完成了掩模组。进而,检查每一掩模。最后,检查之后的掩模将被用于半导体制造工艺。通常,诸如半导体制造者、半导体代工厂的客户指定掩模规格、特殊编号、以及交货时间,从而向掩模室订购掩模,掩模室在交货时间之前交货。然而,在这样的传统掩模制造方法和系统中,所有的时间安排及机器(例如图案生成器)都取决于掩模制造室方的决定,客户不能在掩模制造室方选择任何时间安排或机器。从而,当改变掩模设计或有其它事情发生时,制造者很难加急准备掩模。另外,取得掩模的传统方法和系统被提供给大客户,即订购和委托大量掩模制造的客户。因而,订购少量掩模制造的小客户很难订购,他们可能失去商业机会。而且,还存在涉及掩模生产的安全问题。因此,在研究和开发中绝对保密地制造掩模,在传统的掩模制造方法和系统中是不可能的。另外,在掩模室中,提高半导体制造的成本价格的一个因素是在多个地点(或站点)操作制造工具的人力费用。
技术实现思路
一种大规模集成电路掩模制造系统,包括网络;门户站点服务器,被配置以被连接至该网络;用户终端,被配置以被连接至该门户站点服务器;主终端,被配置以被连接至该网络;以及光刻单元,被配置以被连接至该主终端。一种大规模集成电路掩模制造系统,包括网络;门户站点服务器, ...
【技术保护点】
一种大规模集成电路掩模制造系统,包括:网络;门户站点服务器,被配置以被连接至所述网络;用户终端,被配置以被连接至所述门户站点服务器;主终端,被配置以被连接至所述网络;以及光刻单元,被配置以被连接至所述主终端。
【技术特征摘要】
JP 2002-3-27 2002-0900291.一种大规模集成电路掩模制造系统,包括网络;门户站点服务器,被配置以被连接至所述网络;用户终端,被配置以被连接至所述门户站点服务器;主终端,被配置以被连接至所述网络;以及光刻单元,被配置以被连接至所述主终端。2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述门户站点服务器包括光刻数据接收单元,被配置以从所述用户终端接收用于光刻程序的光刻数据和光刻预订条件;光刻数据数据库,被配置以储存所述光刻数据;光刻单元数据库,被配置以储存所述光刻单元的性能信息;光刻单元搜索单元,被配置以搜索符合所述光刻预订条件的光刻单元,生成光刻单元列表,并将所述列表发送给所述用户终端;以及光刻单元预订单元,被配置以接收被所述用户终端指定的光刻单元的信息,并将光刻请求发送给被所述用户终端指定的所述光刻单元。3.根据权利要求2所述的系统,还包括光刻收费单元,被配置以基于在所述光刻单元的实际使用时间计算收费额并发送帐单给所述用户终端。4.根据权利要求2所述的系统,还包括光刻数据删除单元,被配置以从所述光刻数据数据库中删除所述光刻数据。5.根据权利要求2所述的系统,还包括光刻时间预报单元,被配置以基于所述光刻预订条件估算光刻时间;光刻配置单元,被配置以在所述光刻单元设置用于大规模集成电路掩模制造的光刻条件的详细情况;以及光刻监控单元,被配置以从所述光刻单元接收光刻状态,并将所述光刻状态发送给所述用户终端。6.一种大规模集成电路掩模制造系统,包括网络;门户站点服务器,被配置以被连接至所述网络;用户终端,被配置以被连接至所述门户站点服务器;主终端,被配置以被连接至所述网络;以及掩模制造单元,被配置以被连接至所述主终端。7.根据权利要求6所述的系统,其中,所述门户站点服务器包括数据接收单元,被配置以从所述用户终端接收用于大规模集成电路掩模制造的数据和预订条件;掩模制造数据数据库,被配置以储存所述数据和所述预订条件;掩模制造单元数据库,被配置以储存所述掩模制造单元的性能信息;订购范围确定单元,被配置以基于所述预订条件确定订购范围;掩模制造机器搜索单元,被配置以搜索符合所述预订条件的掩模制造单元,生成掩模制造单元列表,并将所述列表发送给所述用户终端;以及掩模制造机器预订单元,被配置以接收被所述用户终端指定的掩模制造单元的信息的信息并将请求发送给被所述用户终端指定的所述掩模制造单元。8.根据权利要求7所述的系统,还包括收费单元,被配置以基于在所述掩模制造单元的实际使用时间计算收费额并将帐单发送给所述用户终端。9.根据权利要求7所述的系统,还包括数据删除单元,被配置以从所述掩模制造单元删除数据。10.根据权利要求7所述的系统,还包括时间预报单元,被配置以基于所述预订条件估算在被所述用户终端指定的所述掩模制造单元的掩模制造时间;配置单元,被配置以在被所述用户终端指定的所述掩模制造单元设置用于掩模制造的条件的详细情况;以及监控单元,被配置以从被所述用户终端指定的所述掩模制造单元接收掩模制造状态,并将所述掩模制造状态发送给所述用户终端。11.根据权利要求6所述的系统,其中,所述掩模制造单元包括CAD单元,被配置以基于设计数据设计掩模图案,并生成用于掩模的光刻数据;光刻单元,被配置以使所述掩模图案在所述掩模的抗蚀膜上曝光;显影单元,被配置以使在所述光刻单元曝光的所述抗蚀膜显影;蚀刻单元,被配置以基于被所述显影单元显影的所述抗蚀膜蚀刻所述掩模的保护层;灰化单元,被配置以从所述掩模去除所述抗蚀膜;掩模检查单元,被配置以检查所述掩模图案的误差;以及调整单元,被配置以调整所述掩模图案的所述误差。12.根据权利要求7所...
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