衬底处理装置和衬底处理方法制造方法及图纸

从共用的溶剂蒸汽（水蒸汽）供应源４１和处理气体（臭氧气体）供应源４２中向多个处理容器３０Ａ、３０Ｂ供应臭氧气体和水蒸汽。通过调节分别设置在与各处理容器连接的排出管路８０Ａ、８０Ｂ中的可调节流阀５０Ａ、５０Ｂ的开启度，控制处理容器内的压力。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及采用处理气体如臭氧和溶剂蒸汽如水蒸汽等处理流体并在密封的处理容器内处理半导体晶片和LCD用玻璃衬底等衬底的。近年来，从环境保护的观点出发，希望光刻胶的去除不采用存在废液处理问题的药液。对此，最近提出一种新方法，即采用处理气体如臭氧(O3)气体和溶剂蒸汽(指能够溶入处理气体的溶剂的蒸汽，以下相同)如水蒸汽从衬底上去除光刻胶。根据这种方法，在将衬底容纳于处理容器内后，在使处理容器内升温并加压的状态下，向处理容器内提供由臭氧气体和水蒸汽组成的混合处理流体。在实施上述方法时，从提高生产率的观点来看，使处理容器内的温度和压力快速达到预定值是重要的。但是，如果处理容器的内容积大，则必须使用较多的处理气体和溶剂蒸汽并且必须提高加热器的功率。为了提高生产率，考虑设置多个处理容器。但在这种情况下，如果与处理容器数量对应地设置多个处理气体供应源和溶剂蒸汽供应源，则存在导致装置整体大型化和高成本的问题。作为解决该问题的措施，考虑由多个处理容器共用处理流体供应源。但是，当共用供应源同时或先后地向多个处理容器提供处理流体时，在处理容器内产生压力变化，恐怕会出现处理不当。本专利技术的第二个目的在于能够容易并可靠地控制处理容器的压力并且实现处理容器的小型化。为实现上述目的，本专利技术提供一种衬底处理装置，它包括在各自内部进行衬底处理的多个处理容器；从处理气体供应源向所述的多个处理容器分别提供处理气体的处理气体供给管路；从溶剂蒸汽供应源向所述的多个处理容器分别提供溶剂蒸气的溶剂蒸汽供给管路；从所述的多个处理容器中分别排出所述处理气体和所述溶剂蒸汽的多个排出管路；调整所述的多个处理容器的内压的多个机构；其中，所述多个机构中的至少一个被设置在所述的各溶剂蒸汽供给管路中或被设置在所述的各排出管路中。在本专利技术的优选实施例中，在所述各溶剂蒸汽供给管路中设置所述至少一个机构。在这种情形下，在所述各溶剂蒸汽供给管路中设置的所述至少一个机构中可以包括可调节流阀。在这种情形下，该衬底处理装置的构成进一步包括开关阀和控制器，所述开关阀是分别设置在所述多个溶剂蒸汽供给管路中的多个开关并对向所述各处理容器供应溶剂蒸汽和停止供应进行切换，所述控制器与所述多个开关阀的状态有关地调整所述各可调节流阀的开启度。在本专利技术的优选实施例中，在所述各溶剂蒸汽供给管路中设置所述的至少一个机构。在这种情形下，所述各处理气体供给管路中，设置在所述各溶剂蒸汽供给管路中的所述至少一个机构的下游侧与所述各溶剂蒸汽供给管路连接，由此通过所述各溶剂蒸汽供给管路向所述各处理容器提供所述处理气体。在本专利技术的优选实施例中，在所述各排出管路中设置所述至少一个机构。在这种情形下，在所述各排出管路设置中的所述至少一个机构可以包含可调节流阀。在这种情形下，设置在所述各排出管路中的所述至少一个机构还可包括与所述可调节流阀并联设置的减压阀。或者，设置在所述各排出管路中的所述至少一个机构还可包括与所述可调节流阀串联设置的开关阀。在所述各排出管路中设置可调节流阀的情形下，该衬底处理装置被构造成可包括多个压力传感器和控制器，每个传感器检测所述各处理容器内的压力或与所述各处理容器内的压力对应地变化的压力，控制器根据所述压力传感器的检测结果来调节所述各可调节流阀的开启度，以使所述各处理容器内维持一定压力。在所述各排出管路中串联设有可调节流阀和开关阀的情形下，该衬底处理装置被构造成可包括多个压力传感器和控制器，每个传感器检测所述各处理容器内的压力或与所述各处理容器内压力对应地变化的压力，控制器根据所述压力传感器的检测结果来控制所述开关阀的开关，以使所述各处理容器内维持一定压力。在所述各排出管路中串联设有可调节流阀和开关阀的情形下，该衬底处理装置被构造成可包括开关阀和控制器，所述开关阀是在分别设置在所述溶剂蒸汽供给管路中的多个开关阀并对向所述各处理容器提供溶剂蒸汽和停止提供进行切换，所述控制器与所述溶剂蒸汽供给管路的开关阀状态有关地控制所述排出管路的各开关阀的开关。在所述各排出管路中设有可调节流阀的情形下，该衬底处理装置被构造成可包括开关阀和控制器，所述开关阀是分别设置在所述溶剂蒸汽供给管路中的多个开关阀并对向所述各处理容器提供溶剂蒸汽和停止供应进行切换，所述控制器与所述多个开关阀的状态相关地调整所述各可调节流阀的开启度。在所述排出管路中设有所述至少一个机构的情形下，最好在所述各溶剂蒸汽供给管路设置固定节流阀。在本专利技术的优选实施例中，所述各处理容器包括容器体和盖体，所述容器体具有衬底支承部件，所述盖体具有衬底支承部件，该衬底支承部件能够在与所述容器体密封接合地在所述处理容器内划分出处理空间的同时支承所述衬底，盖体被设计成这样的构造，即在所述盖体与所述容器体接合的场合下，在所述衬底装载在所述衬底支承部件上的同时，所述盖体的衬底支承部件与所述衬底分开。本专利技术还提供一种衬底处理装置，它包括在内部进行第一衬底处理的第一处理容器；在内部进行第二衬底处理的第二处理容器；从处理气体供应源向所述第一处理容器提供处理气体的第一处理气体供给管路；从所述处理气体供应源向所述第二处理容器提供处理气体的第二处理气体供给管路；从溶剂蒸汽供应源向所述第一处理容器提供溶剂蒸汽的第一溶剂蒸汽供给管路；从所述溶剂蒸汽供应源向所述第二处理容器提供溶剂蒸汽的第二溶剂蒸汽供给管路；从所述第一处理容器排出所述的处理气体和溶剂蒸汽的第一排出管路；从所述第二处理容器排出所述的处理气体和溶剂蒸汽的第二排出管路；在所述第一溶剂蒸汽供给管路中设置的第一供给侧开关阀；在所述第二溶剂蒸汽供给管路中设置的第二供给侧开关阀；在所述第一排出管路中设置的第一可调节流阀；在所述第二排出管路中设置的第二可调节流阀；如此调节所述第一可调节流阀的开启度的控制器，即，对在所述第一和第二供给侧开关阀都打开的场合以及在所述第一供给侧开关阀打开且所述第二供给侧开关阀关闭的场合来说，使所述第一可调节流阀的开启度不一样。在优选实施例中，该衬底处理装置还包括与所述第一可调节流阀串联设置在所述第一排出管路中的第一排出侧开关阀，与所述第二可调节流阀串联设置在所述第二排出管路中的第二排出侧开关阀；所述控制器被构造成控制所述第一排出侧开关阀的开关以使所述第一处理容器内维持一定压力并且控制所述第二排出侧开关阀的开关以使所述第二处理容器内维持一定的压力。在优选实施例中，在所述第一排气管路中，与所述第一可调节流阀并联地设置第一减压阀，而且在所述第一排气管路中，与所述第二可调节流阀并联地设置第二减压阀。本专利技术还提供一种衬底处理装置，它包括在内部进行衬底处理的处理容器；与所述处理容器连接的、向所述处理容器供应包含处理气体和溶剂蒸汽的混合处理流体的供给管路；与所述处理容器连接的、从所述处理容器中排出所述混合处理流体的排出管路；在所述排出管路中串联设置的开关阀和可调节流阀；使所述处理容器内的压力成为预定值地进行所述可调节流阀的开启度控制和所述开关阀的开关控制的控制器。根据本专利技术的第二方面，提供一种衬底处理方法。它包括在第一期间里向容纳第一衬底的第一处理容器供应处理气体和溶剂蒸汽的工序、在第二期间里向容纳第二衬底的第二处理容器供应处理气体和溶剂蒸汽的工序，其中被供给所述第一处理容器的溶剂蒸汽和被供给所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种衬底处理装置，它包括：在各自内部进行衬底处理的多个处理容器；从处理气体供应源向所述的多个处理容器分别提供处理气体的处理气体供给管路；从溶剂蒸汽供应源向所述的多个处理容器分别提供溶剂蒸汽的溶剂蒸汽供给管路；从所述的多个处理 容器中分别排出所述处理气体和所述溶剂蒸汽的多个排出管路；调整所述的多个处理容器的内压的多个机构；其特征在于，所述多个机构中的至少一个被设置在所述的各溶剂蒸汽供给管路中或被设置在所述的各排出管路中。

【技术特征摘要】
JP 2002-3-8 64107/021.一种衬底处理装置，它包括在各自内部进行衬底处理的多个处理容器；从处理气体供应源向所述的多个处理容器分别提供处理气体的处理气体供给管路；从溶剂蒸汽供应源向所述的多个处理容器分别提供溶剂蒸汽的溶剂蒸汽供给管路；从所述的多个处理容器中分别排出所述处理气体和所述溶剂蒸汽的多个排出管路；调整所述的多个处理容器的内压的多个机构；其特征在于，所述多个机构中的至少一个被设置在所述的各溶剂蒸汽供给管路中或被设置在所述的各排出管路中。2.根据权利要求1的衬底处理装置，其特征在于，在所述的各溶剂蒸汽供给管路中设置所述的至少一个机构。3.根据权利要求2的衬底处理装置，其特征在于，在所述各溶剂蒸汽供给管路中设置的所述至少一个机构包括可调节流阀。4.根据权利要求3的衬底处理装置，其特征在于，它还包括开关阀和控制器，所述开关阀是分别设置在所述的多个溶剂蒸汽供给管路中的多个开关阀并且进行给所述的各处理容器提供溶剂蒸汽和停止供应溶剂蒸汽的切换，所述控制器与所述的多个开关阀的状态有关地调整所述各可调节流阀的开启度。5.根据权利要求2的衬底处理装置，其特征在于，所述各处理气体供给管路，在所述各溶剂蒸汽供给管路中设置的所述至少一个机构的下游侧，与所述各溶剂蒸汽供给管路连接，通过所述各溶剂蒸汽供给管路向所述各处理容器提供所述处理气体。6.根据权利要求1的衬底处理装置，其特征在于，在所述各排出管路设置所述至少一个机构。7.根据权利要求6的衬底处理装置，其特征在于，在所述各排出管路设置的所述至少一个机构，包含可调节流阀。8.根据权利要求7的衬底处理装置，其特征在于，所述的设置在所述各排出管路中的至少一个机构包括与所述可调节流阀并联设置的减压阀。9.根据权利要求7的衬底处理装置，其特征在于，所述的设置在所述各排出管路中的至少一个机构还包含与所述可调节流阀串联设置的开关阀。10.根据权利要求7的衬底处理装置，其特征在于，它进一步包括多个压力传感器和控制器，每个传感器检测所述各处理容器内的压力或者与所述各处理容器内的压力对应地变化的压力，该控制器根据所述压力传感器的检测结果并使所述各处理容器内维持一定压力地调节所述各可调节流阀的开启度。11.根据权利要求9的衬底处理装置，其特征在于，它进一步包括多个传感器和控制器，每个传感器检测所述各处理容器内的压力或者与所述各处理容器内的压力对应地变化的压力，该控制器根据所述压力传感器的检测结果并使所述各处理容器内维持一定压力地控制所述开关阀的开关。12.根据权利要求9的衬底处理装置，其特征在于，它进一步包括开关阀和控制器，所述开关阀是分别设置在所述溶剂蒸汽供给管路中的多个开关阀并且对向所述各处理容器供应溶剂蒸汽和停止供应进行切换，所述控制器与所述溶剂蒸汽供给管路的开关阀状态有关地控制所述排出管路的各开关阀的开关。13.根据权利要求7的衬底处理装置，其特征在于，它进一步包括开关阀和控制器，所述开关阀是分别设置在所述溶剂蒸汽供给管路中的多个开关阀并对向所述各处理容器供应溶剂蒸汽和停止供应进行切换，所述控制器与所述多个开关阀的状态有关地调整所述各可调节流阀的开启度。14.根据权利要求6的衬底处理装置，其特征在于，在所述各溶剂蒸汽供给管路中设置固定节流阀。15.根据权利要求1的衬底处理装置，其特征在于，所述各处理容器包括容器体和盖体，所述容器体具有衬底支承部件，所述盖体具有衬底支承部件，该衬底支承部件能够在与所述容器体密封接合地在所述处理容器内划分出处理空间的同时支承所述衬底，所述盖体被设计成这样的构造，即在所述盖体与所述容器体接合的场合下，在所述衬底装载在所述衬底支承部件上的同时，所述盖体的衬底支承部件与所述衬底分开。16.一种衬底处理装置，其特征在于，它包括在内部进行第一衬底处理的第一处理容器；在内部进行第二衬底处理的第二处理容器；从处理气体供应源向所述第一处理容器提供处理气体的第一处理气体供给管路；从所述处理气体供应源向所述第二处理容器提供处理气体的第二处理气体供给管路；从溶剂蒸汽供应源向所述第一处理容器提供溶剂蒸汽的第一溶剂蒸汽供给管路；从所述溶剂蒸汽供应源向所述第二处理容器提供溶剂蒸汽的第二溶剂蒸汽供给管路；从所述第一处理容器排出所述的处理气体和溶剂蒸汽的第一排出管路；从所述第二处理容器排出所述的处理气体和溶剂蒸汽的第二排出管路；在所述第一溶剂蒸汽供给管路中设置的第一供给侧开关阀；在所述第二溶剂蒸汽供给管路中设置的第二供给侧开关阀；在所述第一排出管路中设置的第一可调节流阀；在所述第二排出管路中设置的第二可调节流阀；如此调节所述第一可调节流阀的开启度的控制器，即，对在所述第一和第二供给侧开关阀都打开的场合以及在所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：长野泰博，伊藤规宏，佐竹圭吾，饭野正，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]