基板校准装置，基板处理装置及基板搬运装置制造方法及图纸

一种基板校准装置，包括：　　　　为了基本上水平地支承被处理基板（Ｇ）而分散地配置的多个支承部，　　　　在各个前述支承部的附近，从下方向前述被处理基板施加气体的压力、使前述被处理基板实质上浮起的漂置机构（１１０），　　　　将浮起状态的前述被处理基板在水平面内向规定的方向推压而进行定位的定位机构（１０２）。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在液晶显示器(LCD)等的制造工艺中使用的基板校准装置，基板处理装置及基板搬运装置，特别是，涉及机械式地进行被处理基板的对位的技术。
技术介绍
历来，在LCD的制造工艺中，为了在加工处理前或搬运途中将被处理基板(玻璃基板)在工作台上沿XY方向进行对位，采用一面将基板基本上水平地支承在隔开规定的间隔设置在工作台上的多个支承销上，一面用适当的夹具向规定的方向推压基板的拐角部或各边的侧面进行定位的机械方式的校准机构(例如，参照特开2001-44118号公报的图2及基于该图的说明，以及，特开平6-143177号公报的图5、图6及基于这些图的说明)。此外，在将基板固定把持在工作台上的设定位置的情况下，在工作台上隔开规定的间隔设置多个真空吸附垫，在将基板载置于设定位置的垫上之后，立即将各垫连接到真空源上，利用真空吸附基板(例如参照特开平10-106945号公报的图4及基于该图的说明)。上述现有的机械式的校准机构在基板较小时可以没有障碍地进行对位。但是，最近，基板已经相当大型化，例如已经在制作其尺寸为850×1000mm、1000×1200mm、每个重量为2～4kg的基板。在这种大型基板的情况下，利用现有技术的校准机构，存在着即使用夹具推压基板的侧面，基板也不会在支承销上滑动而是弯曲，或者，即使滑动基板的背面也会被销的前端强行擦伤，或者产生碎粒等问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是，提供一种不会对被处理基板造成伤害及擦痕、并且不会产生碎粒、能够安全且正确，进而高效率地进行基板的对位的基板校准装置。本专利技术的另外的目的是，提供一种安全、正确、高效地进行被处理基板的对位，并提高处理质量和效率的基板处理装置。本专利技术的另外一个目的是，提供一种安全、正确、高效地进行被处理基板的对位，提高基板的搬运精度、可靠性及效率的基板搬运装置。为了达到上述目的，本专利技术的基板校准装置包括为了基本上水平地载置支承被处理基板而分散地配置的多个支承部，在各个支承部的附近从下方向被处理基板施加气体的压力、使被处理基板实质上浮起的浮置机构，将浮起状态的被处理基板在水平面内向规定的方向推压而进行对位的对位机构。在本专利技术中，由于在进行被处理基板的对位时，浮置机构使被处理基板为实质上从支承部上浮起的状态，利用对位机构将浮起状态的被处理基板在水平面向规定的方向推压而进行定位，所以，不会对被处理基板的下表面造成损伤及擦痕，并且不会发生污染，可以将被处理基板顺滑并且高精度地定位。此外，由于浮置机构在支承部附近使被处理基板局部地浮起，所以可以节约所使用的高压气体等的消耗量。本专利技术的一种优选形式是支承部具有在基本上水平的工作台上垂直向上安装的支承销，在该支承销的前端上载置被处理基板。在这种情况下，为了获得有效的浮置功能，优选地，浮置机构具有在支承销的周围以规定的压力向被处理基板的下表面喷出气体的气体喷出部，更优选地，气体喷出部具有口径随着朝向上端依次增大的喇叭型的喷出构件。另外一种优选的形式是支承部包括具有载置被处理基板的上表面和沿垂直方向延伸的通孔的支承构件。在这种情况下，为了获得有效的浮置功能，优选地，浮置机构具有以规定的压力从支承构件的通孔中向被处理基板的下表面喷出气体的气体喷出部，更优选地，支承构件具有朝向上方地固定在基本上水平的工作台上的下部筒体，以及经由气体喷出部在下部筒体上能够朝向垂直上方位移地安装的上部筒体。另外一种优选的形式是支承部包括具有载置被处理基板的上表面和接受气体的压力的下表面的垫，以及安装在基本上水平的工作台上、能够在规定的范围内在垂直方向和水平方向上位移地支承垫的垫支承机构。在这种情况下，为了获得有效的浮置功能，优选地，浮置机构具有以规定的压力向垫的下表面喷出气体的气体喷出部。在本专利技术中，也可以采用以真空吸附力将被处理基板固定在支承部上的固定机构，作为一种优选的形式，可以在固定机构和浮置机构上设置共同的气体导向部。本专利技术的第二种基板校准装置包括为了基本上水平地载置支承被处理基板而分散地配置在基本上水平的工作台上的多个可在水平方向上位移的支承部，以及将载置于支承部上的被处理基板在水平面内向规定的方向推压而进行定位的定位机构。在这种第二种基板校准装置中，在进行被处理基板的对位时，由于支承部在水平方向上效仿被处理基板的位移也进行位移，所以不会对被处理基板的下表面造成伤害及擦痕，可抑制发生污染。在本专利技术中，优选地，定位机构可以将被处理基板的相互对向的一对拐角部向沿角线方向推压，将被处理基板定位，或者，也可以将被处理基板的一部分或全部的边的侧面向与该边垂直的方向推压，将被处理基板定位。本专利技术的基板处理装置包括本专利技术的基板校准装置，以及对由该基板校准装置对位后的被处理基板实行规定的处理的处理机构。由于利用本专利技术的基板校准装置可以将基板安全、正确、迅速地对位，所以，可以安全、高精度并且高效率地对被处理基板实行所需的处理。本专利技术的基板搬运装置包括本专利技术的基板校准装置，以及将由该基板校准装置对位后的被处理基板搬运到规定的场所的搬运机构。由于利用本专利技术的基板校准装置可以安全、正确、迅速地进行被处理基板的对位，所以可以提高基板搬运的精度、可靠性及效率。本专利技术的上述及其它的目的、特征、形式及优点，通过与附图相关的为了理解本专利技术所进行的下表面的详细说明，可以变得更加清楚。附图说明图1是表示能够采用本专利技术的基板校准装置、基板处理装置及基板搬运装置的涂布显影处理系统的结构的平面图。图2是表示图1的涂布显影处理系统中的处理步骤的流程图。图3是表示图1中的涂布显影处理系统中涂布处理单元组的主要部分结构的平面图。图4是表示图1中的涂布显影处理系统中涂布处理单元组的主要部分结构的侧视图。图5是表示根据本专利技术的第一个实施例的校准机构的主要部分结构的透视图。图6是表示根据本专利技术的第一个实施例的校准机构的主要部分结构及一种状态的图示。图7是表示根据本专利技术的第一个实施例的校准机构的主要部分结构及一种状态的部分剖面侧视图。图8是表示根据本专利技术的第二个实施例的校准机构的主要部分结构的透视图。图9是表示根据本专利技术的第二个实施例的校准机构的主要部分结构的放大透视图。图10是表示根据本专利技术的第二个实施例的校准机构的主要部分结构的框体。图11是表示根据本专利技术的第二个实施例的校准机构的主要部分结构及一种状态的纵剖面图。图12是表示根据本专利技术的第二个实施例的校准机构的主要部分结构的框图。图13是表示根据本专利技术的第二个实施例的校准机构的主要部分结构及一种状态的纵剖面图。图14是表示根据本专利技术的第三个实施例的校准机构的主要部分结构及一种状态的纵剖面图。图15是表示根据本专利技术的第三个实施例的校准机构的主要部分结构及一种状态的纵剖面图。图16是表示根据本专利技术的第三个实施例的一个变形例的结构及一种状态的纵剖面图。图17是表示根据本专利技术的第四个实施例的校准机构的主要部分结构及一种状态的纵剖面图。图18是表示本专利技术的搬运机构的一种实施形式的结构的平面图。图19是表示图17所示的第四个实施例的一个变形例的纵剖面图。图20是放大地表示图19所示的变形例的主要部分的纵剖面图。图21是放大地表示图17所示的第四个实施例的另外一个变形例的主要部分的纵剖面图。具体实施例方式以下参照附图说明本专利技术的优选本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板校准装置，包括为了基本上水平地支承被处理基板(G)而分散地配置的多个支承部，在各个前述支承部的附近，从下方向前述被处理基板施加气体的压力、使前述被处理基板实质上浮起的漂置机构(110)，将浮起状态的前述被处理基板在水平面内向规定的方向推压而进行定位的定位机构(102)。2.如权利要求1所述的基板校准装置，前述支承部具有在基本上水平的工作台(100)上垂直向上安装的支承销(108)，在该支承销的前端上载置前述被处理基板(G)。3.如权利要求2所述的基板校准装置，前述浮置机构(110)具有在前述支承销(108)的周围以规定的压力向前述被处理基板的下表面喷出前述气体的气体喷出部(116)。4.如权利要求3所述的基板校准装置，前述气体喷出部(116)具有口径随着朝向上端依次增大的喇叭型的喷出构件。5.如权利要求1所述的基板校准装置，前述支承部包括具有载置前述被处理基板(G)的上表面和沿垂直方向延伸的通孔。6.如权利要求5所述的基板校准装置，前述浮置机构(110)具有以规定的压力从前述支承构件的通孔中向前述被处理基板(G)的下表面喷出前述气体的气体喷出部(116)。7.如权利要求6所述的基板校准装置，前述支承构件具有朝向垂直上方地固定到基本上水平的工作台(100)上的下部筒体(122)，以及经由前述气体喷出部在前述下部筒体上能够朝向垂直上方位移地安装的上部筒体(126)。8.如权利要求1所述的基板校准装置，前述支承部包括具有载置前述被处理基板(G)的上表面和接受前述气体的压力的下表面的垫(140)，以及安装在基本上水平的工作台(100)上、能够在规定的范围内在垂直方向和水平方向上位移地支承前述垫的垫支承机构。9.如权利要求8所述的基板校准装置，前述浮置机构(110)具有以规定的压力向前述垫(140)的下表面喷出前述气体的气体喷出部(144a)。10.如权利要求1至9中任一项所述的基板校准装置，具有用真空吸附力将前述被处理基板(G)固定在前述支承部上的固定机构(112)。11.如权利要求10所述的基板校准装置，前述固定机构(112)具有与前述浮置机构(110)共同的气体导向部(124)。12.一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：立山清久，元田公男，岩崎达也，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：