可促进电子迁移率提高的缓冲层及含该层的薄膜晶体管制造技术

本发明专利技术公开了一种可促进电子迁移率提高的缓冲层与具有该层的薄膜晶体管。本发明专利技术的缓冲层包括：一设置于衬底表面的非晶硅层（ａ－Ｓｉ）；以及一设置于非晶硅层（ａ－Ｓｉ）表面的氧化层。由于非晶硅不仅具有相当高的密度，可用以阻挡上述玻璃衬底中的杂质在后续工艺中扩散进入元件的作用层，例如半导体有源层，另外，非晶硅具有高热导系数的特点，可使后续进行激光退火结晶工艺以使非晶硅转变为多晶硅时，改变散热的状态，使得结晶的均匀性得以提高，如此一来，便可提高电子迁移率。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种薄膜晶体管(thin film transistor；TFT)的缓冲层，且特别涉及一种可促进电子迁移率提高的缓冲层与具有该缓冲层的薄膜晶体管。
技术介绍
现有驱动液晶显示装置的方法中，主要用来做为图像显示的为薄膜晶体管的方式，而目前常见的薄膜晶体管主要有非晶硅薄膜晶体管(a-Si:H TFT)及多晶硅薄膜晶体管(poly-Si TFT)两种。多晶硅又可分为高温多晶硅(hightemperature poly silicon；HTPS)与低温多晶硅(low temperature poly silicon；LTPS)两种。现有的低温多晶硅薄膜晶体管利用准分子激光作为热源，激光经过投射系统后，会产生能量均匀分布的激光束，投射于非晶硅结构的玻璃衬底上，当非晶硅结构玻璃衬底吸收准分子激光的能量后，会转变成为多晶硅结构。低温多晶硅薄膜晶体管的结构于非晶硅有源层与玻璃衬底之间通常会设置一缓冲层(buffer)，缓冲层的主要功能不仅在于增加玻璃衬底与其表面的各作用层之间的附着性，还可提供阻挡玻璃衬底内部的杂质在工艺中扩散进入各作用层的功用。传统的缓冲层通常以厚度约为3000的氧化硅(SiOx)所构成，但是由于如此厚的氧化硅层制作必需耗费相当多的时间，会造成元件成本的增加，因此，一种具有SiOx/SiNx双层材料的缓冲层被提出来，该双层材料缓冲层以SiNx取代部分SiOx，减少缓冲层的厚度，以减少制造时间，降低成本，其中SiOx的厚度约为1500，而SiNx的厚度约为500。然而，公元2002年Naoya等人于期刊(Active-Matrix Liquid-CrystalDisplays-TFT)发表“Crystal Growth Mechanism of Polystricalline Siby ExcimerLaser Annealing Considering hydrogen Molecule and Thermal Conductance”指出在针对形成于缓冲层表面的非晶硅层进行激光退火结晶(excimer laserannealing；ELA)工艺时，SiNx缓冲层内部所含有的氢气会穿过SiOx缓冲层进入设置于缓冲层上方的非晶硅半导体层中，产生一应力(stress)而阻碍晶粒生长(grain growth)，使得晶粒尺寸缩小，进而降低元件的电子迁移率。
技术实现思路
因此，为了解决上述问题，本专利技术主要目的在于提供一种可促进电子迁移率提高的缓冲层，可适用于薄膜晶体管(TFT)。本专利技术的目的之一在于提供一种可促进电子迁移率提高的缓冲层与具有该缓冲层的薄膜晶体管，以阻挡薄膜晶体管(TFT)的玻璃衬底中的杂质扩散进入各作用层。本专利技术的目的之二在于提供一种可促进电子迁移率提高的缓冲层与具有该缓冲层的薄膜晶体管，该缓冲层具有高热导系数(thermal conductivitycoefficient)，可促使非晶硅半导体层转变成结晶硅时的晶粒均匀成长，进而提高元件的电子迁移率。为实现上述目的，本专利技术提出一种可促进电子迁移率提高的缓冲层，适用于一薄膜晶体管平面显示器的衬底表面，上述缓冲层包括一设置于上述衬底表面的非晶硅层(a-Si)；以及一设置于上述非晶硅层(a-Si)表面的氧化层。根据本专利技术，上述氧化层的材料可包括氧化硅(SiOx)，其厚度大体为1000～2000，其密度大体为2.0～2.2g/cm3，热导系数(Thermal Conductivity)大体为1.2～1.4Wm-1K-1，并且可利用等离子体增强型化学气相沉积法(plasma enhanced chemical vapor deposition；PECVD)形成。本专利技术的特征在于上述非晶硅层(a-Si)，由于非晶硅不仅具有相当高的密度，可用以阻挡上述玻璃衬底中的杂质在后续工艺中扩散进入元件的作用层(例如半导体有源层)，而且非晶硅尚具有高热导系数的特点，可使后续进行激光退火结晶(ELA)工艺使非晶硅转变为多晶硅时，改变散热的状态，使得结晶的均匀性得以提高，如此一来，便可提高电子迁移率。根据本专利技术，上述非晶硅层(a-Si)的厚度大体为250～1000，其密度大体为2～2.3g/cm3，再者，其氢含量大体为1～5％，并且，上述非晶硅层(a-Si)可利用等离子体增强型化学气相沉积法等其它方法(plasma enhanced chemicalvapor deposition；PECVD)形成。如前所述，本专利技术的缓冲层还可包括一层氮化物缓冲层，例如氮化硅SiNx，设置于上述衬底与上述非晶硅层(a-Si)之间。本专利技术的可促进电子迁移率提高的缓冲层可适用于现有的薄膜晶体管。附图说明为使本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合附图，作详细说明如下，其中图1是显示根据本专利技术的缓冲层的一优选实施例的结构剖面图；图2是显示根据本专利技术的缓冲层的另一优选实施例的结构剖面图；以及图3A至图3E是显示根据本专利技术的缓冲层制作薄膜晶体管的一优选实施例的工艺剖面图。附图中的附图标记说明如下200、300～衬底；202、30～非晶硅层；204、306～氧化硅缓冲层；206、308～非晶硅有源层；206a～多晶硅有源层；208～氧化层；210～栅极； S～源极；D～漏极； 212～介电层；214～导电插塞。具体实施例方式以下请配合参考图1与图2的结构剖面图，以说明根据本专利技术的一优选实施例。首先，请参阅图1，本专利技术的缓冲层202、204，可适用于一薄膜晶体管平面显示器的衬底200表面，通常以玻璃作为衬底200。本专利技术的缓冲层202、204可包括一非晶硅层(a-Si)202与一氧化层204。非晶硅层(a-Si)202设置于衬底200表面，且氧化层204设置于非晶硅层(a-Si)202表面。本专利技术的缓冲层202、204表面可设置一非晶硅有源层206。非晶硅层202可利用等离子体增强型化学气相沉积法(plasma enhancedchemical vapor deposition；PECVD)形成。并且，非晶硅层202的厚度大体为250～1000，其密度大体为2～2.3g/cm3。再者，非晶硅层202的氢含量大体为1～5％，热导系数(Thermal Conductivity)大体为80～150 Wm-1K-1，较少于现有SiNx缓冲层的氢含量，可避免现有来自于SiNx缓冲层的氢气于后续进行激光退火结晶(excimer laser annealing；ELA)工艺时进入多晶细有源层而阻碍其晶粒成长的问题。氧化层204可利用等离子体增强型化学气相沉积法(plasma enhancedchemical vapor deposition；PECVD)形成，其前驱物包括四乙烷基氧硅酸盐(tetraethyl orthosilicate Si(OC2H5)4；TEOS)。并且，氧化层204的材料可包括氧化硅(SiOx)，其厚度大体为1000～2000，其密度大体为2.0～2.2g/cm3。该非晶硅缓冲层202是本专利技术的主要特征，由于非晶硅不仅具有相当高的密度，提供阻挡玻璃衬底中的杂质于后续工艺中扩散进入元件作用层(例如半导体有源层)的功效，再本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可促进电子迁移率提高的缓冲层，适用于一薄膜晶体管平面显示器的衬底表面，上述缓冲层包括：一非晶硅层（ａ－Ｓｉ），设置于上述衬底表面；以及一氧化层，设置于上述非晶硅层表面。

【技术特征摘要】
1.一种可促进电子迁移率提高的缓冲层，适用于一薄膜晶体管平面显示器的衬底表面，上述缓冲层包括一非晶硅层(a-Si)，设置于上述衬底表面；以及一氧化层，设置于上述非晶硅层表面。2.如权利要求1所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述氧化层包括氧化硅SiOx。3.如权利要求1所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述氧化层的厚度大体为1000～2000。4.如权利要求1所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述氧化层利用等离子体增强型化学气相沉积法形成。5.如权利要求1所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述氧化层的密度大体为2.0～2.2g/cm3。6.如权利要求1所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述非晶硅层(a-Si)的厚度大体为250～1000。7.如权利要求1所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述非晶硅层(a-Si)的密度大体为2～2.3g/cm3。8.如权利要求1所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述非晶硅层(a-Si)的氢含量大体为5～10％。9.如权利要求1所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述非晶硅层(a-Si)利用等离子体增强型化学气相沉积法形成。10.如权利要求1所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述缓冲层还包括一氮化物缓冲层，设置于上述衬底与上述非晶硅层(a-Si)之间。11.如权利要求1所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述氮化物缓冲层包括氮化硅SiNx。12.一种可促进电子迁移率提高的缓冲层，适用于一薄膜晶体管的衬底表面，上述缓冲层包括一非晶层，设置于上述衬底表面；以及一结晶层，设置于上述非晶层表面。13.如权利要求12所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述结晶层包括氧化物。14.如权利要求12所述的可促进电子迁移率提高的缓冲层，其中上述结晶层的厚度大体为1000～2000。...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖龙盛，林昆志，彭佳添，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]