具有对开式遮蔽构件的沉积设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，包括一腔室主体、一承载盘及一对开式遮蔽构件，其中承载盘及部分的对开式遮蔽构件位于腔室主体内。腔室主体包括一反应腔体及两个感测区，其中两个感测区连接反应腔体，且感测区的厚度小于反应腔体。对开式遮蔽构件包括一第一遮蔽板、一第二遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置驱动第一及第二遮蔽板朝相反方向摆动。在进行沉积制程时第一及第二遮蔽板会相互远离，其中部分的第一及第二遮蔽板位于感测区内。在进行清洁制程时第一及第二遮蔽板会相互靠近，并切换为遮蔽状态以遮蔽承载盘。并切换为遮蔽状态以遮蔽承载盘。并切换为遮蔽状态以遮蔽承载盘。

【技术实现步骤摘要】
具有对开式遮蔽构件的沉积设备


[0001]本技术有关于一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，主要通过对开式遮蔽构件遮挡承载盘，以避免在清洁处理腔室的过程中污染承载盘。

技术介绍

[0002]化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)及原子层沉积(ALD)皆是常用的沉积设备，并普遍被使用在集成电路、发光二极管及显示器等制程中。
[0003]沉积设备主要包括一腔体及一晶圆承载盘，其中晶圆承载盘位于腔体内，并用以承载至少一晶圆。以物理气相沉积为例，腔体内需要设置一靶材，其中靶材面对晶圆承载盘上的晶圆。在进行物理气相沉积时，可将惰性气体及/或反应气体输送至腔体内，分别对靶材及晶圆承载盘施加偏压，并通过晶圆承载盘加热承载的晶圆。
[0004]腔体内的惰性气体因为高压电场的作用，形成离子化的惰性气体，离子化的惰性气体会受到靶材上的偏压吸引而轰击靶材。从靶材溅出的靶材原子或分子受到晶圆承载盘上的偏压吸引，并沉积在加热的晶圆的表面，以在晶圆的表面形成薄膜。
[0005]在经过一段时间的使用后，腔体的内表面会形成沉积薄膜，因此需要周期性的清洁腔体，以避免沉积薄膜在制程中掉落，进而污染晶圆。此外靶材的表面亦可能形成氧化物或其他污染物，因此同样需要周期性的清洁靶材。一般而言，通常会通过预烧(burn
‑
in)制程，以电浆离子撞击腔体内的靶材，以去除靶材表面的氧化物或其他污染物。
[0006]在进行上述清洁腔体及靶材时，需要将腔体内的晶圆承载盘及晶圆取出，或者隔离晶圆承载盘，以避免清洁过程中污染晶圆承载盘及晶圆。

技术实现思路

[0007]一般而言，沉积设备在经过一段时间的使用后，通常需要进行清洁，以去除腔室内沉积的薄膜及靶材上的氧化物或氮化物。在清洁的过程中产生的微粒会污染承载盘，因此需要隔离承载盘及污染物。本技术提出一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，主要通过驱动装置带动两个遮蔽板朝相反方向摆动，使得两个遮蔽板操作在一开启状态及一遮蔽状态。操作在遮蔽状态的遮蔽板可用以遮蔽承载盘，以避免清洁腔体或靶材时产生的微粒污染承载盘。
[0008]本技术的一目的，在于提供一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，主要包括一腔室主体、一承载盘及一对开式遮蔽构件，其中承载盘及部分的对开式遮蔽构件位于腔室主体内。腔室主体包括一反应腔体及两个感测区，两个感测区连接反应腔体，其中两个感测区的感测空间流体连接反应腔体的容置空间。
[0009]对开式遮蔽构件包括一驱动装置及两个遮蔽板，其中驱动装置连接并驱动两个遮蔽板分别朝相反方向摆动，使得两个遮蔽板操作在一开启状态及一遮蔽状态。在清洁反应腔体时，驱动装置带动两个遮蔽板以摆动的方式相互靠近，使得两个遮蔽板相连接并遮挡容置空间内的承载盘，以避免清洁过程中使用的电浆或产生的污染接触承载盘及/或其承
载的基板。在进行沉积制程时，驱动装置带动两个遮蔽板以摆动的方式相互远离，并可对反应腔体内的基板进行薄膜沉积。
[0010]操作在开启状态的两个遮蔽板会相互远离，其中部分遮蔽板会进入腔室主体的两个感测区。两个感测区内分别设置至少一位置感测单元，分别用以感测进入感测区的遮蔽板，以确定两个遮蔽板操作在开启状态。
[0011]本技术的一目的，在于提供一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，主要通过两个遮蔽板构成一个完整的遮蔽件，可缩小收纳遮蔽板需要的空间。在本技术一实施例中，两个遮蔽板可以在腔室主体内进行相反方向的摆动或转动，其中腔室主体包括一反应腔体及两个感测区。操作在遮蔽状态的两个遮蔽板会位在反应腔体的容置空间内，并用以遮挡容置空间内的承载座。操作在开启状态的两个遮蔽板则会部份进入感测区，并可通过设置在感测区内的位置感测单元感测遮蔽板，以确认两个遮蔽板操作在开启状态。
[0012]在确定两个遮蔽板皆操作在开启状态后，才会驱动承载盘朝靶材的方向位移，并对承载盘上的基板进行薄膜沉积。通过上述的动作可确保承载盘朝靶材位移时不会碰撞遮蔽板，以避免造成承载盘及遮蔽板的损坏。
[0013]本技术的一目的，在于提供一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，主要通过两个遮蔽板构成一个完整的遮蔽件，可缩小收纳遮蔽板需要的空间，并可简化腔室主体的构造及缩小腔室主体的体积。
[0014]本技术的一目的，在于提供一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其中驱动装置通过两个连接臂分别连接及承载两个遮蔽板，以降低连接臂的负重。此外亦可进一步使用厚度较大的遮蔽板，以防止遮蔽板在清洁沉积设备时发生高温变形，并有利于提高遮蔽板遮挡承载盘的效果。
[0015]为了达到上述的目的，本技术提出一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，包括：一腔室主体，包括：一反应腔体，包括一容置空间；两个感测区，连接反应腔体，并分别包括一感测空间流体连接容置空间，其中两个感测区的厚度小于反应腔体；一承载盘，位于容置空间内，并用以承载至少一基板；一挡件，位于容置空间内，挡件的一端连接反应腔体，而挡件的另一端则形成一开口；及一对开式遮蔽构件，包括：一第一遮蔽板；一第二遮蔽板；及一驱动装置，连接第一遮蔽板及第二遮蔽板，并分别驱动第一遮蔽板及第二遮蔽板朝相反的方向摆动，使得第一遮蔽板及第二遮蔽板在一开启状态及一遮蔽状态之间切换，其中操作在开启状态的部分第一遮蔽板及部分第二遮蔽板分别位于两个感测区的感测空间，而操作在遮蔽状态的第一遮蔽板及第二遮蔽板则位于容置空间内，并位于开口及承载盘之间以遮挡承载盘。
[0016]所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其中驱动装置包括一轴封装置及至少一驱动马达，驱动马达通过轴封装置连接第一遮蔽板及第二遮蔽板。
[0017]所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其中轴封装置包括一外管体及一轴体，外管体包括一空间用以容置轴体，驱动马达通过外管体连接第一遮蔽板，通过轴体连接第二遮蔽板，并同步驱动轴体及外管体朝相反的方向转动。
[0018]所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，包括一第一连接臂及一第二连接臂，外管体通过第一连接臂连接第一遮蔽板，而轴体则通过第二连接臂连接第二遮蔽板。
[0019]所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，包括两个位置感测单元分别设置于两个
感测区，并分别用以感测进入两个感测空间的第一遮蔽板及第二遮蔽板。
[0020]所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其中位置感测单元包括一发射器及一接收器，分别设置在感测区相面对的两个表面，并用以感测进入感测空间的第一遮蔽板及第二遮蔽板。
[0021]所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其中第一遮蔽板及第二遮蔽板操作在开启状态，且位于感测空间内的第一遮蔽板及第二遮蔽板的面积小于位于容置空间内的第一遮蔽板及第二遮蔽板的面积。
[0022]所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其中第一遮蔽板及第二遮蔽板操作在遮蔽状态，部分第一遮蔽板与部分第二遮蔽板重叠。
[0023]所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，包括一靶材设置在容置空间内并面对承载盘，处在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，包括：一腔室主体，包括：一反应腔体，包括一容置空间；两个感测区，连接该反应腔体，并分别包括一感测空间流体连接该容置空间，其中该两个感测区的厚度小于该反应腔体；一承载盘，位于该容置空间内，并用以承载至少一基板；一挡件，位于该容置空间内，该挡件的一端连接该反应腔体，而该挡件的另一端则形成一开口；及一对开式遮蔽构件，包括：一第一遮蔽板；一第二遮蔽板；及一驱动装置，连接该第一遮蔽板及该第二遮蔽板，并分别驱动该第一遮蔽板及该第二遮蔽板朝相反的方向摆动，使得该第一遮蔽板及该第二遮蔽板在一开启状态及一遮蔽状态之间切换，其中操作在该开启状态的部分该第一遮蔽板及部分该第二遮蔽板分别位于该两个感测区的该感测空间，而操作在该遮蔽状态的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板则位于该容置空间内，并位于该开口及该承载盘之间以遮挡该承载盘。2.根据权利要求1所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，其中该驱动装置包括一轴封装置及至少一驱动马达，该驱动马达通过该轴封装置连接该第一遮蔽板及该第二遮蔽板。3.根据权利要求2所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，其中该轴封装置包括一外管体及一轴体，该外管体包括一空间用以容置该轴体，该驱动马达通过该外管体连接该第一遮蔽板，通过该轴体连接该第二遮蔽板，并同步驱动该轴体及该外管体朝相反的方向转动。4.根据权利要求3所述的具有对开式遮蔽构件的...

【专利技术属性】
技术研发人员：林俊成，沈祐德，
申请(专利权)人：鑫天虹厦门科技有限公司，
类型：新型
国别省市：