用于大规模生产有机场致发光器件的设备制造技术

本发明专利技术涉及一种用于制造有机场致发光器件的设备，尤其是涉及一种用于制造包括具有至少一层的薄膜的有机场致发光器件的设备。根据本发明专利技术用于制造有机场致发光器件的所述设备包括：一个衬底运送腔室（１００），其中成形有多个用于安装处理腔室的开口（１１０），并且安装有一个泵端口（１２０）；一个衬底运送装置（２００），其安装于衬底运送腔室（１００）中，用于在衬底运送腔室（１００）的内部将在多个开口（１１０）中处理后的衬底运送至下一个开口；以及多个分别固附在衬底运送腔室（１００）的开口上的腔室（３００）。因此，所述衬底可以在衬底运送腔室的内部得以运送，并且可以在所述多个腔室的内部同时执行如衬底清洁、掩模对准和清洁、以及气相沉积的相关工艺。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于大规模生产有机场致发光器件的设备，尤其是涉及一种用于制造有机场致发光器件中的多层薄膜的设备，使得衬底或者具有相互成一体的衬底与掩模的组件在一个衬底运送腔室内进行运送，并且允许在若干处理腔室中同时执行衬底装载和清洁、掩模固附和对准、气相沉积以及衬底卸载工艺。
技术介绍
在制造半导体器件或者发光器件的情况下，通常需要由许多制造步骤组成的工艺。为了执行多步骤制造工艺，通常构造用于相应工艺的多个腔室，并且衬底被运送至这些腔室内来经受各种相互不同的工艺。迄今为止，所述腔室均以圆形方式设置，并且可以通过在腔室的中部安装一根磁棒或者利用一个机械手来将衬底运送到相应腔室之内。也就是说，每个衬底均在一个腔室内经受一种特定工艺，被从该腔室中送入到另外一个腔室内，并且接着在另外一个腔室内经受另外一种工艺。通过重复这些工艺，所述器件得以制成。但是，在如前所述利用磁棒运送衬底的情况下，磁棒的长度是有限的，并且衬底仅可以在两个腔室之间进行运送。因此，存在的一个问题是难以执行穿过所述多个真空腔室的连续工艺。还有，机械手通常可以在处理小型衬底时使用。因此，如果将机械手应用于大型衬底，那么将需要一个额外的运送装置。对于利用机械手在真空条件下运送衬底的情况，机械手无法利用诸如真空提升这样的方法夹持住衬底。因此，衬底因其自身的重量应当被置于机械手上，并且当机械手运动时的加速度增加时它们的位置可能会发生改变。因此，存在的一个问题是在接下来的掩模对准和真空淀积工艺中难以使衬底处于它们的正确位置处。因此，如果利用这样一个机械手运送衬底，那么在运送所述衬底时该机械手必须在其运动的加速度降低时使用。因此，存在的另外一个问题是运送衬底所需的传送时间会增加。还有，如果衬底的尺寸增大，那么所述传送时间会增大更多，并且位于传送系统中间的运送腔室的尺寸也会增大。因此，所述衬底的传送路径会延长，并且真空泵的负担也会加重。此外，利用这样一个机械手的传送系统必须以这样一种方式构造而成，即位于一个腔室内部的衬底被传送至另外一个腔室之内，并且随后被传送和定位在再一个空的腔室之内。因此，存在的问题是所述衬底必须被两次传送来完成传送操作，并且两次传送操作必须在各个腔室内以相同方式进行。还有，如果在气相沉积工艺中气相沉积源被耗竭，那么工艺必须中断并且腔室中的真空状态必须变化至大气压力状态。接着，将放入一个新的气相沉积源。在这种情况下，存在的一个缺点在于其需要耗费大量时间来制造薄膜。相反，对于在一个腔室中执行制造多层薄膜的工艺来说，其中在所述腔室内安装有多个气相沉积单元，在薄膜中各层的制造工艺之间存在着这些层受到污染的风险。因此，需要一个用于避免所述污染风险的额外装置。尤其是，对于有机薄膜来说非常需要所述装置。
技术实现思路
本专利技术旨在解决前述问题。本专利技术的一个目的在于提供一种用于大规模生产有机场致发光器件的设备，其中当成形一个有机或者无机多层薄膜在一个衬底上以制造有机场致发光器件时，通过高效运送所述衬底可以缩短制造时间，并且可以在相互不会污染的状态下在所述衬底上高效生长出薄膜。本专利技术的另外一个目的在于，提供一种旋转式气相沉积单元更换设备，其能够在不破坏用于大规模生产有机场致发光器件的设备中的气相沉积腔室内真空状态的条件下，更换气相沉积单元。为了实现本专利技术的前述目的，在此提供了一种用于大规模生产有机场致发光器件的设备，包括一个直线式衬底运送腔室，其中成形有多个开口并且安装有一个泵端口，从而使得用于执行衬底装载、衬底清洁、掩模对准、衬底卸载以及多个气相沉积工艺的腔室可以安装于其中；一个衬底运送装置，其安装于所述衬底运送腔室中，用于在所述衬底运送腔室内部将在所述多个开口中处理后的衬底运送至下一个开口；以及分别固附在所述衬底运送腔室的开口上的多个腔室。附图说明图1是一个根据本专利技术一优选实施例用于大规模生产有机场致发光器件的设备的分解透视图；图2是根据本专利技术所述优选实施例用于大规模生产有机场致发光器件的设备的正向剖视图；图3是根据本专利技术所述优选实施例用于大规模生产有机场致发光器件的设备的侧向剖视图；图4是一个单元构架的透视图，该单元构架用于构造根据本专利技术用于大规模生产有机场致发光器件的所述设备；图5是一个剖视图，示出了多个单元构架被相互连接起来时的状态；图6是根据本专利技术用于大规模生产有机场致发光器件的所述设备中衬底运送装置的示意图；图7是沿着图6中箭头a方向看到的所述衬底运送装置的示意图；图8是一个根据本专利技术另一优选实施例用于大规模生产有机场致发光器件的设备的平面视图；图9是根据本专利技术所述另一优选实施例用于大规模生产有机场致发光器件的设备的侧向剖视图；图10是一个根据本专利技术再一优选实施例用于大规模生产有机场致发光器件的设备的分解透视图；图11是根据本专利技术所述再一优选实施例用于大规模生产有机场致发光器件的设备的仰视图；图12是根据本专利技术所述再一优选实施例用于大规模生产有机场致发光器件的设备的剖视图；图13是一个旋转式气相沉积单元更换装置的剖视图，该更换装置用在根据本专利技术用于大规模生产有机场致发光器件的所述设备中；以及图14是一个透视图，示出了用在根据本专利技术用于大规模生产有机场致发光器件的所述设备中的旋转式气相沉积单元更换装置的内部。具体实施例方式下面，将参照附图详细地对本专利技术的优选实施例进行阐述。图1是一个根据本专利技术一优选实施例用于大规模生产有机场致发光器件的设备的分解透视图，图2是根据本专利技术所述优选实施例用于大规模生产有机场致发光器件的设备的正向剖视图，而图3是根据本专利技术所述优选实施例用于大规模生产有机场致发光器件的设备的侧向剖视图。如这些附图中所示，本专利技术包括一个衬底运送腔室100，其上成形有用于安装处理腔室的多个开口110，并且安装有一个泵端口120；一个衬底运送装置200，其安装于衬底运送腔室100中，用于在衬底运送腔室100的内部将在多个开口110中之一内经受相关工艺处理后的衬底运送至下一个开口110；以及分别固附在衬底运送腔室100的开口上的多个腔室300。衬底运送腔室100被制造成呈一个细长盒子形状，并且被制成带有多个开口110，可以安装用于执行衬底清洁、掩模固附和校准、气相沉积、衬底装载、衬底卸载以及类似工艺的腔室至所述多个开口110。还有，可以在衬底运送腔室100上安装一个盖子130，从而使得衬底运送装置200可以被轻易地安装于其上。多个腔室300通常包括一个装载腔室310、用于气相沉积和其它工艺的处理腔室330以及一个卸载腔室320。装载腔室310被安装在形成于衬底运送腔室100的一个长度方向上的端部处的开口111上，并且包括一个泵端口311和一个门312。卸载腔室320被安装在衬底运送腔室100的另一长度方向端部处的开口112上，并且包括一个泵端口321和一个门322。所述多个处理腔室330被安装在装载腔室与卸载腔室之间的衬底运送腔室100的开口110上，并且各个处理腔室均包括一个泵端口331和一个气相沉积单元端口332。处理腔室330被安装在衬底运送腔室100上的开口110上，以便执行衬底清洁、掩模固附和校准、气相沉积以及类似工艺。这些处理腔室根据它们各自的功能被分成一个衬底清洁腔室，其包括所述泵端口和一个门；一个掩模对准腔室，其本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于大规模生产有机场致发光器件的设备，包括：一直线状衬底运送腔室，其中成形有多个开口并且安装有一泵端口，从而使得用于执行衬底装载、衬底清洁、掩模对准、衬底卸载以及多个气相沉积工艺的腔室可以安装于其中；一衬底运送装置，其安 装于所述衬底运送腔室中，用于在所述衬底运送腔室内部将在所述多个开口中处理后的衬底或者带有相互成一体的衬底和掩模的组件运送至下一个开口；以及分别固附在所述衬底运送腔室的开口上的多个腔室。

【技术特征摘要】
KR 2001-11-16 2001-714521.一种用于大规模生产有机场致发光器件的设备，包括一直线状衬底运送腔室，其中成形有多个开口并且安装有一泵端口，从而使得用于执行衬底装载、衬底清洁、掩模对准、衬底卸载以及多个气相沉积工艺的腔室可以安装于其中；一衬底运送装置，其安装于所述衬底运送腔室中，用于在所述衬底运送腔室内部将在所述多个开口中处理后的衬底或者带有相互成一体的衬底和掩模的组件运送至下一个开口；以及分别固附在所述衬底运送腔室的开口上的多个腔室。2.如权利要求1中所述的设备，其中，通过重复性地将单元构架相互组配起来而构造出所述衬底运送腔室与所述多个腔室，其中在所述单元构架中一个腔室与衬底运送腔室彼此成为一体，使得一个所述单元构架的所述衬底运送腔室经由一敞开的连通部分与相邻单元构架中的衬底运送腔室连接起来，并且一个单元构架中的所述腔室经由壁部与相邻单元构架中的腔室连接起来。3.如权利要求1中所述的设备，其中，所述衬底运送腔室被制造成一个细长盒子，该细长盒子总体上呈直线状、多边形状、环状或者曲线状。4.如权利要求1中所述的设备，其中，所述多个腔室包括一装载腔室，其被安装在所述衬底运送腔室的一个纵向端部处，并且包括一泵端口和一门；一卸载腔室，其被安装在所述衬底运送腔室的另一纵向端部处，并且包括一泵端口和一门；以及处理腔室，包括一衬底清洁腔室，其被安装在所述开口处并且具有一泵端口和一门，一掩模对准腔室，其被安装在所述开口处并且具有一泵端口和一门，以及多个气相沉积腔室，它们分别被安装在所述开口处并且均具有一泵端口和一气相沉积单元端口。5.如权利要求4中所述的设备，其中，各个所述气相沉积腔室还包括一旋转式气相沉积单元更换装置，其包括一上部腔室，该上部腔室具有一连接于所述气相沉积腔室的气相沉积单元端口上的连接端口和一泵端口，一下部腔室，该下部腔室被可旋转地连接在所述上部腔室上，并且在其上设置有多个气相沉积单元，以及一旋转装置，用于使得所述下部腔室发生旋转。6.如权利要求4中所述的设备，其中，所述处理腔室包括固附在所述衬底运送腔室的开口上的多个腔室，并且需要交替地施加真空...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑光镐，李三铉，黄昌勋，
申请(专利权)人：郑光镐，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]