一种石英玻璃直管清洗装置制造方法及图纸

技术编号:32021630 阅读:16 留言:0更新日期:2022-01-22 18:41
本发明专利技术提供了石英玻璃直管清洗装置,包括清洗罩,与清洗罩活动插接装配的上端盖与下端盖,设置于上端盖内的上承载台,设置于下端盖内的下承载台,独立驱动上承载台与下承载台作同步转动的第一驱动装置与第二驱动装置,驱动上端盖作升降运动的升降机构,竖直向下并延伸过上承载台的上内喷管,及竖直向上并延伸过下承载台的下内喷管;上承载台与下承载台沿竖直方向对向活动夹持石英玻璃直管两端的敞口,上内喷管与下内喷管对向喷射形成与石英玻璃直管内部腔体适配的圆柱状喷射束流。通过本发明专利技术,有效地确保了长径比较大的石英玻璃直管在呈竖直姿态执行清洗及干燥过程中旋转的稳定性,有效地去除了粘附在内壁面上的杂质或者晶粒。粒。粒。

【技术实现步骤摘要】
一种石英玻璃直管清洗装置


[0001]本专利技术涉及半导体设备
,尤其涉及一种石英玻璃直管清洗装置。

技术介绍

[0002]石英管是半导体器件制造设备(例如化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、扩散设备(Diff)或者成膜设备(T/F)等)中普遍使用的半导体设备耗材。石英管在前述半导体设备中使用一段时间后其内壁面会残留大量脏污、金属杂质或者固体颗粒,然而石英管造价昂贵,因此需要在被彻底清洗后予以重复使用,以降低半导体器件的制造成本。两端具敞口的石英玻璃直管常用于半导体器件的晶体生长与外延等应用场景中。晶体生长与外延过程中存在部分杂质或者晶粒附着在石英玻璃直管的内壁面的现象,因此就需要对石英玻璃直管进行清洗,以实现反复使用。
[0003]公告号为CN206868760U的中国技术专利公开了一种石英玻璃直管清洗装置。石英玻璃直管由工件支架支撑在转盘上,石英玻璃直管卧式平躺于底台上方,并通过螺旋状设置的刷条对石英玻璃直管的内壁面予以清洗。申请人指出该现有技术适用于太阳能电池硅片用石英玻璃扩散管的清洗,无法实现大直径石英玻璃直管的清洗作业,尤其是无法对于8英寸及12英寸晶圆制成所使用的石英玻璃直管清洗需求。同时,采用螺旋状设置的刷条清洗的技术手段极易对石英玻璃直管的内壁面造成划伤;此外,该现有技术由于石英玻璃直管水平放置,因此还存在水不易排出石英玻璃直管的缺陷;此外,该现有技术只能对一种特定直径的石英玻璃直管进行清洗,且石英玻璃直管在旋转过程中其外壁面会与管件固定架发生摩擦,从而导致石英玻璃直管的外壁面及内壁面在清洗过程中造成划伤,且无法满足不同直径石英玻璃直管清洗与干燥较为苛刻的工艺需求。最后,申请人指出长径比较大的石英玻璃直管无论以水平姿态还是以竖直姿态旋转,均存在晃动并导致石英玻璃直管在清洗及干燥过程中的旋转稳定性较差,并可能对石英玻璃直管造成结构性损坏。
[0004]有鉴于此,有必要对现有技术中的对石英玻璃直管执行清洗作业与干燥作用的装置予以改进,以解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于揭示一种石英玻璃直管清洗装置,用以解决现有技术中对两端具敞口并应用于半导体器件的晶体生长与外延等应用场景中的石英玻璃直管实现高效清洗与干燥处理,防止石英玻璃直管在清洗及干燥过程中造成表面划伤,并能够适应不同尺寸的石英玻璃直管的清洗与干燥需求,有效去除在晶体生长与外延的半导体制程中粘附在石英玻璃直管的内壁面上的杂质或者晶粒,确保长径比较大的石英玻璃直管在呈竖直姿态执行清洗及干燥过程中旋转的稳定性。
[0006]为实现上述专利技术目的,本专利技术提供了一种石英玻璃直管清洗装置,
[0007]用于清洗及干燥两端具敞口的石英玻璃直管,包括:
[0008]两端具敞口的清洗罩,与清洗罩沿竖直方向活动插接装配以遮蔽所述清洗罩两端
敞口并对称设置的上端盖与下端盖,设置于所述上端盖内的上承载台,设置于所述下端盖内的下承载台,独立驱动所述上承载台与下承载台作同步转动的第一驱动装置与第二驱动装置,驱动上端盖作升降运动的升降机构,竖直向下并延伸过上承载台的上内喷管,以及竖直向上并延伸过下承载台的下内喷管;
[0009]所述上承载台与下承载台沿竖直方向对向活动夹持石英玻璃直管两端的敞口,所述上内喷管与下内喷管末端和侧部分别设置若干第一喷嘴与第二喷嘴,以通过所述第一喷嘴与第二喷嘴对向喷射形成与石英玻璃直管内部腔体适配的圆柱状喷射束流。
[0010]作为本专利技术的进一步改进,所述升降机构包括:升降支架及驱动升降支架沿竖直方向作升降运动的第三驱动装置,所述升降支架连接上端盖;
[0011]所述石英玻璃直管清洗装置还包括:自上而下平行布置的顶板、上安装板与下安装板,所述第二驱动装置设置于下安装板上,所述下端盖嵌入设置于所述上安装板;
[0012]所述升降支架包括呈一体式结构的横向安装板、第一竖直安装板及第二竖直安装板,所述第三驱动装置吊装于所述顶板的下方,所述第一驱动装置与第三驱动装置设置于所述升降支架的两侧。
[0013]作为本专利技术的进一步改进,所述上端盖与下端盖均嵌设回旋密封装置,所述上内喷管沿竖直方向连续贯穿上承载台与回旋密封装置并竖直向下延伸设置,所述下内喷管沿竖直方向连续贯穿下承载台与回旋密封装置并竖直向上延伸设置。
[0014]作为本专利技术的进一步改进,所述第一驱动装置驱动上承载台旋转,所述第二驱动装置驱动下承载台相对于所述上承载台保持同步且同向旋转,所述上内喷管在上承载台旋转过程中保持静止,所述下内喷管在下承载台旋转过程中保持静止。
[0015]作为本专利技术的进一步改进,所述清洗罩的内侧壁竖直设置若干第三喷嘴。
[0016]作为本专利技术的进一步改进,所述上承载台与下承载台沿竖直方向向上对向形成至少两层直径渐缩且逐级升高布置的定位凸台,所述定位凸台的边缘处形成若干缺口。
[0017]作为本专利技术的进一步改进,所述石英玻璃直管清洗装置还包括:
[0018]连接第一喷嘴、第二喷嘴及第三喷嘴的切换装置,所述切换装置连接清洗液储存装置及气源,以通过所述切换装置控制所述第一喷嘴、第二喷嘴及第三喷嘴喷射清洗液和/或气体。
[0019]作为本专利技术的进一步改进,所述上端盖与下端盖的边缘形成收容清洗罩敞口边缘的收容槽,清洗罩被活动夹持于所述收容槽中;所述清洗罩的环形侧壁形成侧向开口,所述清洗罩设置活动打开或者闭合所述侧向开口的滑动盖板。
[0020]作为本专利技术的进一步改进,所述上端盖与下端盖包括:底板,自底板环形布置并向上设置的内环壁,所述内环壁径向向外且水平延伸形成底壁,所述底壁的外侧形成垂直环形围合所述底壁的外环壁,所述收容槽由内环壁、底壁及外环壁围合形成。
[0021]作为本专利技术的进一步改进,所述外环壁沿竖直方向延伸以形成上外环壁与下外环壁,所述上安装板横向抵靠于所述内环壁的外壁并向上凸伸形成与所述下外环壁卡持的环形肋板;所述上外环壁沿竖直方向上的高度高于所述内环壁的顶部边缘,所述内环壁靠近底板的底部设置若干排水孔。
[0022]作为本专利技术的进一步改进,所述内环壁的顶部开设若干第一缺口,所述清洗罩的底部开设若干第二缺口,以通过所述第一缺口与所述第二缺口建立空气流通通道;所述底
板向上凸设一圆台,所述下承载台设置于所述圆台上方,所述下承载台的直径大于所述圆台的直径。
[0023]与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:
[0024]首先,本专利技术通过沿竖直方向活动插接装配以遮蔽清洗罩两端敞口并对称设置的上承载台与下承载台,有效地确保了长径比较大的石英玻璃直管在呈竖直姿态执行清洗及干燥过程中旋转的稳定性;
[0025]其次,本专利技术通过对向设置的第一喷嘴与第二喷嘴对向喷射形成与石英玻璃直管内部腔体适配的圆柱状喷射束流,有效的去除了在晶体生长与外延的半导体制程中粘附在石英玻璃直管的内壁面上的杂质或者晶粒;
[0026]最后,本专利技术所揭示的石英玻璃直管清洗装置还实现了对石英玻璃直管实现本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种石英玻璃直管清洗装置,用于清洗及干燥两端具敞口的石英玻璃直管,其特征在于,包括:两端具敞口的清洗罩,与清洗罩沿竖直方向活动插接装配以遮蔽所述清洗罩两端敞口并对称设置的上端盖与下端盖,设置于所述上端盖内的上承载台,设置于所述下端盖内的下承载台,独立驱动所述上承载台与下承载台作同步转动的第一驱动装置与第二驱动装置,驱动上端盖作升降运动的升降机构,竖直向下并延伸过上承载台的上内喷管,以及竖直向上并延伸过下承载台的下内喷管;所述上承载台与下承载台沿竖直方向对向活动夹持石英玻璃直管两端的敞口,所述上内喷管与下内喷管末端和侧部分别设置若干第一喷嘴与第二喷嘴,以通过所述第一喷嘴与第二喷嘴对向喷射形成与石英玻璃直管内部腔体适配的圆柱状喷射束流。2.根据权利要求1所述的石英玻璃直管清洗装置,其特征在于,所述升降机构包括:升降支架及驱动升降支架沿竖直方向作升降运动的第三驱动装置,所述升降支架连接上端盖;所述石英玻璃直管清洗装置还包括:自上而下平行布置的顶板、上安装板与下安装板,所述第二驱动装置设置于下安装板上,所述下端盖嵌入设置于所述上安装板;所述升降支架包括呈一体式结构的横向安装板、第一竖直安装板及第二竖直安装板,所述第三驱动装置吊装于所述顶板的下方,所述第一驱动装置与第三驱动装置设置于所述升降支架的两侧。3.根据权利要求1所述的石英玻璃直管清洗装置,其特征在于,所述上端盖与下端盖均嵌设回旋密封装置,所述上内喷管沿竖直方向连续贯穿上承载台与回旋密封装置并竖直向下延伸设置,所述下内喷管沿竖直方向连续贯穿下承载台与回旋密封装置并竖直向上延伸设置。4.根据权利要求3所述的石英玻璃直管清洗装置,其特征在于,所述第一驱动装置驱动上承载台旋转,所述第二驱动装置驱动下承载台相对于所述上承载台保持同步且同向旋转,所述上内喷管在上承载台旋转过程中保持静止,所述下内喷管在下承载台旋转过程中保持静止。5...

【专利技术属性】
技术研发人员:华斌张洋时新宇
申请(专利权)人:智程半导体设备科技昆山有限公司
类型:发明
国别省市:

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