掩膜版组、蒸镀装置和发光器件功能层厚度的监控方法制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种掩膜版组、蒸镀装置和发光器件功能层厚度的监控方法，发光器件：包括第1至第N功能层，掩膜版组包括：第1至第N掩膜版；第i掩膜版包括第i透光部和第i遮光部，第i透光部包括：第i功能层开口和第i功能层监控开口，第i功能层开口用于蒸镀形成第i功能层，第i功能层监控开口用于蒸镀形成第i功能层监控区域，第i功能层监控区域用于监控第i功能层的蒸镀厚度，1≤i≤N；掩膜版组中任意两个掩膜版的功能层开口在待掩膜平面上的垂直投影至少部分交叠，且任意两个掩膜版的功能层监控开口在待掩膜平面上的垂直投影至多部分交叠。采用上述掩膜版组，可实现对不同工位的膜厚校准和排查，耗时时间短且工作效率高。耗时时间短且工作效率高。耗时时间短且工作效率高。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版组、蒸镀装置和发光器件功能层厚度的监控方法


[0001]本专利技术实施例涉及蒸镀
，尤其涉及一种掩膜版组、蒸镀装置和发光器件功能层厚度的监控方法。

技术介绍

[0002]有机发光二极管(Organic Light
‑
Emitting Diode，简称OLED)采用有机发光材料，在通电下，器件自发光，具备低功耗、色域广、亮度高、高响应等一系列优点，因此逐渐成为主流的照明和平板显示技术，国内外各大厂商也均在OLED行业进行大力布局，进一步推动了OLED行业的发展。
[0003]在OLED器件制备的技术环节中，通常是通过掩膜版贴合玻璃基板，然后通过蒸镀的方式获得器件的图案化。在蒸镀过程中，蒸镀膜厚和主客体掺杂浓度的变化对于OLED器件性能存在较大影响，因此在OLED面板大厂中，正常情况下会在跑片前对于不同工位的膜厚做校准，一般每个班一次，耗时较久。此外，不仅仅是日常监控蒸镀膜层厚度耗时，在遇到相关器件异常的情况下(例如光色偏移、光色不均匀、显示异常、性能异常等)，对于蒸镀段膜厚校准排查也是十分耗时，通常需要对全部工位做膜厚校准，再进行其他动作排查。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供一种掩膜版组、蒸镀装置和发光器件功能层厚度的监控方法，以解决现有的蒸镀膜层厚度的校准和排查过程都比较耗时的问题。
[0005]第一方面，本专利技术实施例提供了一种发光器件的掩膜版组，所述发光器件包括：第1至第N功能层，所述掩膜版组包括：第1至第N掩膜版；
[0006]第i掩膜版包括第i透光部和第i遮光部，所述第i透光部包括：多个第i功能层开口和至少一个第i功能层监控开口，所述第i功能层开口用于蒸镀形成所述发光器件的第i功能层，所述第i功能层监控开口用于蒸镀形成第i功能层监控区域，所述第i功能层监控区域用于监控第i功能层的蒸镀厚度，其中，1≤i≤N；
[0007]所述掩膜版组中任意两个掩膜版的功能层开口在待掩膜平面上的垂直投影至少部分交叠，且所述掩膜版组中任意两个掩膜版的功能层监控开口在待掩膜平面上的垂直投影至多部分交叠。
[0008]可选地，所述发光器件的功能层包括：金属层和多个有机功能层；
[0009]所述掩膜版组中第j掩膜版用于蒸镀形成所述金属层，所述掩膜版组中第k掩膜版用于蒸镀形成所述有机功能层，其中，1≤j≤N，1≤k≤N，i≠j；
[0010]所述第j掩膜版包括第j透光部和第j遮光部，所述第j透光部包括：多个第j功能层开口和至少一个第j功能层监控开口；所述第k掩膜版包括第k透光部和第k遮光部，所述第k透光部包括：多个第k功能层开口和至少一个第k功能层监控开口；所述第j功能层开口与所述第k功能层开口在待掩膜平面上的垂直投影至少部分交叠；
[0011]用于蒸镀形成有机功能层的掩膜版中，任意两个掩膜版的功能层开口在待掩膜平
面上的垂直投影至少部分交叠。
[0012]可选地，所述掩膜版组中任意一个掩膜版的功能层开口在待掩膜平面上的垂直投影与任意一个掩膜版的功能层监控开口在待掩膜平面上的垂直投影不交叠。
[0013]第二方面，本专利技术实施例提供了一种蒸镀装置，包括：第1至第M腔室以及第一方面所述的掩膜版组，所述第i掩膜版位于第i腔室，所述第i腔室用于蒸镀形成所述第i功能层，其中，M≥N，1≤i≤N。
[0014]第三方面，本专利技术实施例提供了一种发光器件功能层厚度的监控方法，该监控方法采用第二方面所述的蒸镀装置，该监控方法包括：
[0015]提供第一基板；
[0016]通过所述蒸镀装置在所述第一基板的一侧依次制备所述发光器件的第1至第N功能层，以及与所述第1至第N功能层对应的第1至第N功能层监控区域；其中，在所述第一基板上的垂直投影交叠的第1至第N功能层形成所述发光器件，所述第1至第N功能层监控区域在所述第一基板的垂直投影至多部分交叠；
[0017]在所述发光器件远离所述第一基板的一侧形成封装层；
[0018]通过切割工艺将所述发光器件与所述第1至第N功能层监控区域分离；
[0019]分别测量所述第1至第N功能层监控区域的厚度。
[0020]可选地，所述分别测量所述第1至第N功能层监控区域的厚度，包括：
[0021]同步测量所述第1至第N功能层监控区域的厚度。
[0022]可选地，在所述通过切割工艺将所述发光器件与所述第1至第N功能层监控区域分离之后，还包括：
[0023]测试所述发光器件的光电性能。
[0024]可选地，所述分别测量所述第1至第N功能层监控区域的厚度，包括：
[0025]采用椭偏仪和/或所述台阶仪分别测量所述第1至第N功能层监控区域的厚度。
[0026]可选地，在所述分别测量所述第1至第N功能层监控区域的厚度之后，还包括：
[0027]根据所述第1至第N功能层监控区域的测试厚度，定位异常测试厚度所在腔室并进行校准。
[0028]可选地，所述蒸镀装置还包括：多个膜厚仪，所述膜厚仪用于监控各腔室蒸镀形成的功能层的蒸镀厚度；
[0029]在所述分别测量所述第1至第N功能层监控区域的厚度之后，还包括：
[0030]根据所述第1至第N功能层监控区域的测试厚度，分别调试对应腔室的膜厚仪。
[0031]本专利技术实施例提供的掩膜版组，通过在每个掩膜版上设置至少一个功能层监控开口，且掩膜版组中任意两个掩膜版的功能层监控开口在待掩膜平面上的垂直投影至多部分交叠，使得采用上述掩膜版组蒸镀形成发光器件的同时，可在待掩膜平面上形成与发光器件的各功能层对应的单层功能层监控区域，利用单层功能层监控区域监控各功能层的蒸镀厚度，即直接形成首件器件的同时，可形成首件器件的各功能层的功能层监控区域，后续可一次性测量出各单层功能层监控区域的厚度，根据该测试厚度快速定位异常膜厚所在工位并进行校准，以实现不同工位的膜厚校准和排查，可以大幅度减少时间，极大地提升工作效率；还可以同步测试首件器件性能，根据性能测试结果判断首件器件有无异常，并进行调整，以保证发光器件性能正常。
附图说明
[0032]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图做一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图虽然是本专利技术的一些具体的实施例，对于本领域的技术人员来说，可以根据本专利技术的各种实施例所揭示和提示的器件结构，驱动方法和制造方法的基本概念，拓展和延伸到其它的结构和附图，毋庸置疑这些都应该是在本专利技术的权利要求范围之内。
[0033]图1是本专利技术实施例提供的一种发光器件的结构示意图；
[0034]图2是本专利技术实施例提供的一种发光器件的掩膜版组的结构示意图；
[0035]图3是本专利技术实施例提供的另一种发光器件的掩膜版组的结构示意图；
[0036]图4是本专利技术实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图；
[0037]图5是本专利技术实施例提供的一种发光器件功能层厚度的监本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种发光器件的掩膜版组，其特征在于，所述发光器件包括：第1至第N功能层，所述掩膜版组包括：第1至第N掩膜版；第i掩膜版包括第i透光部和第i遮光部，所述第i透光部包括：多个第i功能层开口和至少一个第i功能层监控开口，所述第i功能层开口用于蒸镀形成所述发光器件的第i功能层，所述第i功能层监控开口用于蒸镀形成第i功能层监控区域，所述第i功能层监控区域用于监控第i功能层的蒸镀厚度，其中，1≤i≤N；所述掩膜版组中任意两个掩膜版的功能层开口在待掩膜平面上的垂直投影至少部分交叠，且所述掩膜版组中任意两个掩膜版的功能层监控开口在待掩膜平面上的垂直投影至多部分交叠。2.根据权利要求1所述的发光器件的掩膜版组，其特征在于，所述发光器件的功能层包括：金属层和多个有机功能层；所述掩膜版组中第j掩膜版用于蒸镀形成所述金属层，所述掩膜版组中第k掩膜版用于蒸镀形成所述有机功能层，其中，1≤j≤N，1≤k≤N，i≠j；所述第j掩膜版包括第j透光部和第j遮光部，所述第j透光部包括：多个第j功能层开口和至少一个第j功能层监控开口；所述第k掩膜版包括第k透光部和第k遮光部，所述第k透光部包括：多个第k功能层开口和至少一个第k功能层监控开口；所述第j功能层开口与所述第k功能层开口在待掩膜平面上的垂直投影至少部分交叠；用于蒸镀形成有机功能层的掩膜版中，任意两个掩膜版的功能层开口在待掩膜平面上的垂直投影至少部分交叠。3.根据权利要求1所述的发光器件的掩膜版组，其特征在于，所述掩膜版组中任意一个掩膜版的功能层开口在待掩膜平面上的垂直投影与任意一个掩膜版的功能层监控开口在待掩膜平面上的垂直投影不交叠。4.一种蒸镀装置，其特征在于，包括：第1至第M腔室以及权利要求1
‑
3任一项所述的掩膜版组，所述第i掩膜版位于第i腔室，所述第i腔室用于蒸镀形成所述第i功能层，其中，M≥N，1≤i...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈汐，王江南，徐林帅，张川，李文重，
申请(专利权)人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司，
类型：发明
国别省市：