一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置，包括蚀刻废液槽、电解槽、传送管道、氯气吸收反应槽和废气净化机构,蚀刻废液槽通过传送管道和电解槽固定连接，电解槽的一侧通过传送管道和蚀刻液一次反应槽固定连接。本实用新型专利技术对蚀刻废液进行再生时，对废液添加药水分为两次添加，当废液需要第二次添加药水时，废液中已经含有一定量的药水，这时只需要添加少量的药水即可使得废液完成再生，不会发生大量的药水随着蚀刻废液流进存储废液的地方，造成浪费的情况，而且装置内部设置有射流器和氯气吸收反应槽，使得氯气被密封的同时可以得到有效的利用，在蚀刻废液再生时产生的废气，也进行了有效的收集和处理，使废气可以安全的排放。全的排放。全的排放。

【技术实现步骤摘要】
一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置


[0001]本技术属于印制线路板蚀刻
，具体涉及一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置。

技术介绍

[0002]印制电路板(PCB)加工的典型工艺采用"图形电镀法"。即先在板子外层需保留的铜箔部分上(是电路的图形部分)预镀一层铅锡抗蚀层，然后用化学方式将其余的铜箔腐蚀掉,称为蚀刻。蚀刻液再生实际上是印制电路板(PCB) 蚀刻线上排出的蚀刻母液采用封闭式循环系统，经蚀刻液再生循环设备将其中的铜离子萃取出来再返回生产线的过程，而蚀刻液再生分为：碱性蚀刻废液再生、酸性蚀刻废液再生和微蚀刻废液再生这三种，其中酸性蚀刻废液再生采用“离子膜电解铜”工艺。该工艺是用离子膜将电解槽的阳极区和阴极区分隔成两个独立的区域；阳极区为废蚀刻液再生区，它将降铜后的废蚀刻液中的一价铜离子通过电化学反应生成二价铜离子，使废蚀刻液获得再生；阴极区为铜回收区，通过离子隔膜有选择性的使溶液中的离子定向迁移，让溶液中的铜离子得到电子还原成金属铜。
[0003]现如今的印制线路板酸性蚀刻液循环装置存在以下问题:在对酸性蚀刻废液进行再生加工时药水消耗过多，并且大部分都被浪费，无法进行有效的利用，使得再生过程较为繁琐且成本较高，得不偿失，因此使得大量的蚀刻废液被丢弃，而且在对蚀刻废液进行加工时，产生的大量氯气不进行有效的利用和密封，产生的大量废气不进行净化或者不处理干净就排放进大气内，造成了大量的资源浪费，和环境污染。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置，以解决上述
技术介绍
中提出的蚀刻废液再生成本较高，得不偿失，使得大量废液被废弃，且蚀刻废液再生过程中产生的氯气不进行有效的处理或者利用，产生的大量废气不进行净化或者净化不彻底造成了大量的资源浪费，和环境污染的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置，包括蚀刻废液槽、电解槽、传送管道、氯气吸收反应槽和废气净化机构,蚀刻废液槽通过传送管道和电解槽固定连接，电解槽的一侧通过传送管道和蚀刻液一次反应槽固定连接，蚀刻液一次反应槽的一侧通过传送管道和蚀刻液二次反应槽固定连接，蚀刻液二次反应槽的另一侧通过传送管道和蚀刻废液槽固定连接。
[0006]优选的，所述电解槽包括阴极和阳极，阴极和阳极之间设置有隔膜。
[0007]优选的，所述蚀刻液一次反应槽内和蚀刻液二次反应槽内均放置有氨水和氯化铵。
[0008]优选的，所述阳极的顶部通过传送管道固定连接有氯气吸收反应槽，传送管道靠近氯气吸收反应槽的一端设置有射流器。
[0009]优选的，所述电解槽和氯气吸收反应槽的顶部均通过传送管道固定连接有废气净
化机构，传送管道靠近废气净化机构的一端设置有鼓风机。
[0010]优选的，所述废气净化机构包括废气处理槽、碱液输送管、排气管和碱液抽取管道，废气处理槽一侧固定连接有碱液输送管，废气处理槽顶部固定连接有排气管，废气处理槽底部固定连接有碱液抽取管道。
[0011]优选的，所述蚀刻液一次反应槽和蚀刻液二次反应槽之间的传送管道内设置有压力泵。
[0012]与现有技术相比，本技术提供了一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置，具备以下有益效果：
[0013]本技术对蚀刻废液进行再生时，对废液添加药水分为两次添加，当废液进行第二次添加药水时，废液中已经含有一定量的药水，这时只需要添加少量的药水即可使得废液完成再生，不会发生大量的药水随着蚀刻废液流进存储废液的地方，造成浪费的情况，而且装置内部设置有射流器和氯气吸收反应槽，使得氯气被密封的同时可以得到有效的利用，同时装置内部也设置了废气净化机构，使蚀刻废液再生时产生的废气，可以进行有效的收集，和处理，使废气可以安全的排放。
附图说明
[0014]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制，在附图中：
[0015]图1为本技术提出的一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置结构示意图；
[0016]图2为废气净化机构结构示意图；
[0017]图中：
[0018]1、蚀刻废液槽；
[0019]2、电解槽；201、阴极；202、阳极；
[0020]3、蚀刻液一次反应槽；4、蚀刻液二次反应槽；5射流器；6、氯气吸收反应槽；7、压力泵；8、传送管道；9、废气处理槽；10、碱液输送管；11、排气管；12、废气净化机构；13、鼓风机；14、碱液抽取管道。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]本技术提供一种技术方案一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置，包括蚀刻废液槽1、电解槽2、传送管道8、氯气吸收反应槽6和废气净化机构 12。
[0023]请参考图1，蚀刻废液槽1通过传送管道8和电解槽2固定连接，电解槽 2包括阴极201和阳极202，阴极201和阳极202之间设置有隔膜，首先当蚀刻废液从蚀刻废液槽1传入电解槽2时，由阴极201对蚀刻废液进行电解，使蚀刻废液中的铜离子，电子还原成金属铜，然后经过阴极201分解的蚀刻废液穿过隔膜，由阳极202进行二次电解，将蚀刻废液中的氯气分解出。
[0024]请参考图1，电解槽2的一蚀刻废液槽1和电解槽2、蚀刻液一次反应槽 3和蚀刻液二次反应槽4、氯气吸收反应槽6和蚀刻液二次反应槽4之间和碱液抽取管道14靠近废气处理槽9处均设置有压力泵7。
[0025]请参考图1，侧通过传送管道和8蚀刻液一次反应槽3固定连接，蚀刻液一次反应槽3的一侧通过传送管道8和蚀刻液二次反应槽4固定连接，蚀刻液一次反应槽3内和蚀刻液二次反应槽4内均放置有氨水和氯化铵，当蚀刻液一次反应槽3内的氨水和氯化铵与蚀刻废液混合在一起达到一定质量后，蚀刻液一次反应槽3和蚀刻液二次反应槽4之间的压力泵7便会启动，将蚀刻液一次反应槽3内的蚀刻液抽取到蚀刻液二次反应槽4内，再次添加氨水和氯化铵，当蚀刻液二次反应槽4内的蚀刻液没过传送管道8时，多余的蚀刻废液便会流入蚀刻废液槽1内，蚀刻液二次反应槽4的另一侧通过传送管道8和蚀刻废液槽1固定连接，因为流入蚀刻液二次反应槽4内是已经添加过氨水和氯化铵的，因此蚀刻液二次反应槽4内子液的含量，会比只添加有一次氨水和氯化铵的蚀刻液的子液含量高，且相对于一次性添加完成，所需氨水和氯化铵的含量更少，因为每蚀刻1克分子铜需要消耗2克分子氨和2 克分子氯化铵，因此，在蚀刻过程中，随着铜的溶解，要不断补加氨水和氯化铵，因而蚀刻液二次反应槽4内母液会不断增加，由于所生成的 [Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子，不本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置，包括蚀刻废液槽(1)、电解槽(2)、传送管道(8)、氯气吸收反应槽(6)和废气净化机构(12),其特征在于：所述蚀刻废液槽(1)通过传送管道(8)和电解槽(2)固定连接，所述电解槽(2)的一侧通过传送管道(8)和蚀刻液一次反应槽(3)固定连接，所述蚀刻液一次反应槽(3)的一侧通过传送管道(8)和蚀刻液二次反应槽(4)固定连接，所述蚀刻液二次反应槽(4)的另一侧通过传送管道(8)和蚀刻废液槽(1)固定连接。2.根据权利要求1所述的一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置，其特征在于：所述电解槽(2)包括阴极(201)和阳极(202)，所述阴极(201)和阳极(202)之间设置有隔膜。3.根据权利要求1所述的一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置，其特征在于：所述蚀刻液一次反应槽(3)内和蚀刻液二次反应槽(4)内均放置有氨水和氯化铵。4.根据权利要求2所述的一种印制线路板酸性蚀刻液循环装置，其特征在于：所述阳极(202)的顶部...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱明，艾利兵，
申请(专利权)人：盐城市贝加尔电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：