本实用新型专利技术公开了一种双轴抛光装置，包括：整体框架、底座、电机、转盘、转动轴、若干夹持部、粗抛装置、精抛装置、若干吹风机以及废料收集箱；整体框架的底部设置有底座，电机设置于底座的中部上方，转盘设置于电机的上方，转动轴设置于转盘的中部上方，并且，转盘与电机驱动连接，转动轴的一端转动连接转盘，转动轴的另一端连接整体框架，若干夹持部沿转盘的圆周均匀设置，至少一粗抛装置设置于转盘的一侧，至少一精抛装置相对于粗抛装置设置于转盘的另一侧；若干吹风机相对于转盘设置于整体框架的顶部，底座的两侧各设置有一废料收集箱。本实用新型专利技术有利于使抛光加工工艺集中进行，提升抛光加工的效率，同时能增加自动抛光装置的应用范围。应用范围。应用范围。
【技术实现步骤摘要】
双轴抛光装置
[0001]本技术涉及抛光加工工艺的
，特别是涉及一种双轴抛光装置。
技术介绍
[0002]抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光或打蜡。常见的结构类零部件经过机械设备的加工后都需要通过抛光机来为下一步的加工做准备。目前常见的转盘式磁力研磨抛光装置一般包括：方型机架、盖板水槽、放水板、放水气缸、抛光桶连接盘、抛光桶连接杆、若干抛光桶和接水桶。上述的盖板水槽的一侧设置有限位缺口，放水板位于限位缺口上，放水气缸的固定端铰接在方型机架上，放水气缸的活动端连接在放水板的底部，抛光桶连接杆的一端连接在盖板水槽上，抛光桶连接杆的另外一端固定有活接件，抛光桶的外侧连
[0003]接有卡箍，活接件与卡箍铰接，抛光桶内放置有若干抛光针。如使用上述的转盘式磁力研磨抛光装置来完成抛光工艺，则需要将待抛光的结构件放入上述的抛光桶内并通过磁力来进行研磨，上述的转盘式磁力研磨抛光装置可以对结构件的拉伸边或者断面来进行打磨。
[0004]然而，上述的转盘式磁力研磨抛光装置所能加工的结构件需要被限制为压铸或机加工等形式获得的五金件，其所能应用的结构件类型较少。此外，上述的转盘式磁力研磨抛光装置必须通过在待加工件的加工区域内注入抛光液的方式来完成研磨抛光加工，由于并非所有的结构件都适宜与液体接触，所以上述的转盘式磁力研磨抛光装置的可应用范围被进一步缩窄。
技术实现思路
[0005]基于此，有必要针对如何增加自动抛光装置应用范围的问题，提供一种双轴抛光装置。
[0006]一种双轴抛光装置包括：整体框架、底座、电机、转盘、转动轴、若干夹持部、粗抛装置、精抛装置、若干吹风机以及废料收集箱；整体框架的底部设置有底座，电机设置于底座的中部上方，转盘设置于电机的上方，转动轴设置于转盘的中部上方，并且，转盘与电机驱动连接，转动轴的一端转动连接转盘，转动轴的另一端连接整体框架；若干夹持部沿转盘的圆周均匀设置，每一夹持部具有夹持基座、转向电机以及伸缩气缸；夹持基座与转盘固定连接，转向电机设置于夹持基座的一端，伸缩气缸相对于转向电机设置于夹持基座的另一端；至少一粗抛装置设置于转盘的一侧，至少一精抛装置相对于粗抛装置设置于转盘的另一侧；每一粗抛装置包括粗抛机架、粗抛伸缩气缸以及粗抛磨头,粗抛机架的底部与底座固定连接，粗抛伸缩气缸设置于粗抛机架的上方，粗抛磨头与粗抛伸缩气缸驱动连接，粗抛磨头设置于转盘的上方；每一精抛装置包括精抛机架、精抛伸缩气缸以及精抛磨头，精抛机架的底部与底座固定连接，精抛伸缩气缸设置于精抛机架的上方，精抛磨头与精抛伸缩气缸驱动连接，精抛磨头设置于转盘的上方；若干吹风机相对于转盘设置于整体框架的顶部，底座
的两侧各设置有一废料收集箱。
[0007]进一步的，底座的上方设置有至少一吹风口,每一吹风口设置于转盘与底座之间，并且，至少一吹风口位于废料收集箱的一侧。
[0008]更进一步的，粗抛磨头与粗抛伸缩气缸转动连接。
[0009]进一步的，精抛磨头与精抛伸缩气缸转动连接。
[0010]进一步的，粗抛装置的端部设置有侧抛磨头，该侧抛磨头与粗抛磨头相垂直。
[0011]更进一步的，粗抛装置的顶部设置有放水气缸，该放水气缸固定于粗抛机架上，并且，放水气缸的一端与外部的进水管道相连，放水气缸的另外一端与粗抛磨头相连。
[0012]本技术双轴抛光装置通过设置可以自由转动的转盘，从而，使待抛光的工件由若干夹持部夹持依次经过每一粗抛装置以及每一精抛装置处，进而，逐步地对工件进行粗抛光加工以及精抛光加工，上述的设计有利于使抛光加工工艺集中进行，减少拆装的工序，节省拆装工件所耗费的时间，提升抛光加工的效率。进一步的，本双轴抛光装置还通过设置可以夹持工件自转的转向电机，从而，可以持续改变工件的抛光方向。一方面可以满足每一粗抛装置以及精抛装置与待抛光工件的相对位置要求，以便工件能获得符合需求的抛光纹理，另一方面当每一夹持部移动至任一抛光加工区域时，工件在转向电机的带动下自转，降低了抛光位置与工件位置的控制难道，简易化了抛光夹具的调试难度。此外，本双轴抛光装置还通过分别设置粗抛装置以及精抛装置，使单次抛光加工中可以一次性完成粗抛加工以及精抛加工，减少了反复拆装工件的时间，并且，免拆装地同步进行粗抛加工以及精抛加工，还有利于获得平整、过渡光滑的高质量的抛光基面。进一步的，本双轴抛光装置还设置有与粗抛伸缩气缸转动连接的粗抛磨头，使工件可以在具有纵向抛光纹理的基础上继续产生横向抛光的纹理，使工件能形成网格状的抛光纹理，拓展了本双轴抛光装置的功能。特别的，在整体框架的顶部设置有若干吹风机，使抛光加工过程中产生的碎屑废料可以快速脱离工件的表面，避免工件的表面因堆积加工废料而影响抛光效果。进一步的，在底座上还设置有吹风口，使从转盘上滑落的碎屑废料容易落入废料收集箱内，提升了本双轴抛光装置的抛光加工效率。另外，本双轴抛光装置还可以通过设置放水气缸以引入抛光液的使用，使部分依赖抛光液加工的工件也能应用本双轴抛光装置来进行抛光加工，有效增加了本双轴抛光装置的应用范围。
附图说明
[0013]图1为本技术双轴抛光装置的结构示意图；
[0014]图2为本技术双轴抛光装置另一方向的结构示意图；
[0015]图3为本技术双轴抛光装置另一方向的结构示意图；
[0016]图4为本技术双轴抛光装置另一方向的结构示意图；
[0017]图5为本技术双轴抛光装置的部分结构示意图。
具体实施方式
[0018]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域
技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0019]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0020]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
[0021]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种双轴抛光装置，其特征在于，本双轴抛光装置（1）包括：整体框架（101）、底座（102）、电机（103）、转盘（104）、转动轴（105）、若干夹持部（106）、粗抛装置（107）、精抛装置（108）、若干吹风机（109）以及废料收集箱（110）；整体框架（101）的底部设置有底座（102），电机（103）设置于底座（102）的中部上方，转盘（104）设置于电机（103）的上方，转动轴（105）设置于转盘（104）的中部上方，并且，转盘（104）与电机（103）驱动连接，转动轴（105）的一端转动连接转盘（104），转动轴（105）的另一端连接整体框架（101）；若干夹持部（106）沿转盘（104）的圆周均匀设置，每一夹持部（106）具有夹持基座（106a）、转向电机（106b）以及伸缩气缸（106c）；夹持基座（106a）与转盘（104）固定连接，转向电机（106b）设置于夹持基座（106a）的一端，伸缩气缸（106c）相对于转向电机（106b）设置于夹持基座（106a）的另一端；至少一粗抛装置（107）设置于转盘（104）的一侧，至少一精抛装置（108）相对于粗抛装置（107）设置于转盘（104）的另一侧；每一粗抛装置（107）包括粗抛机架（107a）、粗抛伸缩气缸（107b）以及粗抛磨头（107c）,粗抛机架（107a）的底部与底座（102）固定连接，粗抛伸缩气缸（107b）设置于粗抛机架（107a）的上方，粗抛磨头（107c）与粗抛伸缩气缸（107b）驱动连接，粗抛磨头（107c）设置于转盘（1...
【专利技术属性】
技术研发人员：廖庆超，
申请(专利权)人：惠州至精精密技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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