一种基于CCD对位系统的曝光机技术方案

本发明专利技术涉及曝光机领域，具体涉及一种基于CCD对位系统的曝光机，包括调节装置与执行装置，所述调节装置位于执行装置内部，所述调节装置包括基板：还包括：位于基板上部的调整组件，所述调整组件包括第一框架，所述第一框架两侧上表面均设有两组电磁铁装置，所述第一框架底部两端均固定安装有两组电动伸缩杆，位于同一侧的两组所述电动伸缩杆输出端均固定安装有同一个弧形导块，本发明专利技术通过采用两组矩阵式激光放射设备对同一块PCB电路板上两面进行同步扫描、且采用CCD对位系统对PCB板进行统一定位调整，以解决曝光产品差、曝光效率低、需要重复曝光的问题。重复曝光的问题。重复曝光的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种基于CCD对位系统的曝光机


[0001]本专利技术涉及曝光机领域，具体涉及一种基于CCD对位系统的曝光机。

技术介绍

[0002]曝光机在电机科技产品上得到广泛的应用，例如：右半导晶元制作的应用、PCB电路板的应用、薄膜式的晶片电阻等等，曝光机主要用于将电子线路图形显现在产品零件上，从而得到体积小且多层线路的电子零件产品。
[0003]现有技术的曝光机通常采用通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上，该类型的曝光机有以下几点缺陷：1、需要在借助底片，且在底片上涂抹菲林，由于菲林的存在，在曝光过程中易出现脏点，从而导致整张底片报废；2、现有的曝光机大部分采用激光测距或者光电测距对位，上述的测距方式测距存在一定的偏差，产品的质量不能够保证；3、现有的曝光机通常只能进行单面扫描曝光，对于需要双面曝光的PCB板时，其曝光效率低下，且重复曝光影响其曝光精度；4、当采用LDI类型的曝光机时，平台移动的速度会大大影响其曝光速率，尤其是加速与减速的机制，当PCB电路板必须要移动到新的扫描区域时，其运动所需要的时间会直接影响生产的速度。
[0004]因此，专利技术一种基于CCD对位系统的曝光机很有必要。

技术实现思路

[0005]为此，本专利技术提供一种基于CCD对位系统的曝光机，通过采用两组矩阵式激光放射设备对同一块PCB电路板上两面进行同步扫描、且采用CCD对位系统对PCB板进行统一定位调整，以解决曝光产品差、曝光效率低、需要重复曝光的问题。<br/>[0006]为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种基于CCD对位系统的曝光机，包括调节装置与执行装置，所述调节装置位于执行装置内部，所述调节装置包括基板：还包括：位于基板上部的调整组件；所述调整组件包括第一框架，所述第一框架两侧上表面均设有两组电磁铁装置，所述第一框架底部两端均固定安装有两组电动伸缩杆，位于同一侧的两组所述电动伸缩杆输出端均固定安装有同一个弧形导块，两组所述弧形导块两侧壁均与第一框架侧壁滑动连接，两组所述弧形导块上壁均开设有弧形滑轨，所述第一框架中部设有托盘，所述托盘底部四角处均固定安装有滑柱，位于同一侧的两组所述滑柱与同一侧的弧形滑轨滑动连接，所述托盘两侧壁均固定安装有两组磁块。
[0007]优选的，所述基板上部两侧开设有滑槽，两组所述滑槽均贯穿基板，所述基板底部四周均固定安装有侧板，位于两侧的所述侧板内表面均固定安装有齿条，所述基板上表面设有贯穿基板的加工槽，四组所述侧板底部固定连接有同一块底板，所述加工槽贯穿底板。
[0008]优选的，所述基板上部设有第二框架，所述第二框架底部两侧均固定安装有滑板，两组所述滑板与基板活动接触，两组所述滑板底部均固定安装有限位滑块，所述限位滑块与滑槽滑动配合。
[0009]优选的，所述第二框架四角处均设有传动杆，四组所述传动杆均转动贯穿第二框架，四组所述传动杆底部均固定安装有齿轮，同一侧的两组所述齿轮与该侧的齿条啮合连接，位于同一端的两组所述齿轮通过带传动机构传动连接，任意一组通过带传动机构传动连接的所述齿轮上端设有伺服电机，所述伺服电机输出轴与传动杆固定连接。
[0010]优选的，所述执行装置包括曝光机构，所述曝光机构设有两组，两组所述曝光机构分别位于调整组件上、下两端，所述曝光机构包括第三框架，两组所述第三框架分别与基板、底板固定连接。
[0011]优选的，所述第三框架一端内壁固定安装有两组气缸，两组所述气缸输出端固定安装有同一个第四框架，所述第四框架两侧壁与第三框架两侧内壁滑动连接，所述第四框架内部固定安装有限位安装架，所述限位安装架上固定安装有多组激光放射设备。
[0012]优选的，多组所述激光放射设备呈矩阵式排列，所述激光放射设备内部设有影映组件。
[0013]优选的，所述影映组件包括LD放映设备，所述LD放映设备前端设有凹透镜，所述凹透镜前端设有DMD芯片。
[0014]优选的，所述DMD芯片前端设有平面反射镜，所述平面反射镜底部设有聚焦透镜，所述DMD芯片底部设有消光镜。
[0015]优选的，所述执行装置还包括壳体，所述曝光机构位于壳体内部，所述调整组件滑动贯穿壳体，所述壳体外侧设有总控中心，所述壳体外侧固定安装有连接件，所述总控中心通过连接件与壳体活动连接。
[0016]本专利技术的有益效果是：1、通过驱动伺服电机使伺服电机带动调整组件进行滑动，当调整组件滑动到壳体外部时，使用人员通过在托盘上放置带有两个靶标的PCB板，后驱动伺服电机，使其回到工作区，此时通过专用CCD相机、对PCB板上的特征位置进行拍照取像后将数据传输到总控中心，经过总控中心计算，从而趋使电动伸缩杆进行伸缩、电磁铁装置推动托盘进行旋转，从而实现自动对位，大大提高了对位精度，使其产品的质量得到提高；2、通过采取矩阵式激光放射设备在待加工PCB板两面进行同步扫描曝光，实现了数字化直接成像，杜绝使用菲林，从而避免了因菲林而产生的批量报废；3、由于托盘中部设置镂空在基板和底板上均开设加工槽，且在托盘两端均设置矩阵式激光放射设备，因此能够对代加工的PCB板两端都能进行加工；4、由于在激光放射设备内部设置影映组件，当对PCB板进行扫描时，通过DMD芯片即可调整其扫描宽度，从而大大增加了横向扫描范围，相较于传统ldi曝光机能够减少底部工作台的横向移动，当需要扫描的PCB板过大时，由于设置矩阵式激光放射设备，能够对待扫描的PCB板进行分区，从而使单个激光放射设备对各自区域的PCB板进行扫描，同时驱动气缸使整个矩阵式激光放射设备进行同步移动，提高了扫描精度，从而提高了产品质量。
附图说明
[0017]图1为本专利技术提供的曝光机的结构示意图；图2为本专利技术提供的曝光机构的结构示意图；图3为本专利技术提供的调节装置的结构示意图；图4为本专利技术提供的图3的侧视图；图5为本专利技术提供的图4的部分剖视图；图6为本专利技术提供的调整组件的结构示意图；图7为本专利技术提供的弧形导块的安装位置结构图；图8为本专利技术提供的影映组件的结构示意图。
[0018]图中：调节装置100、调整组件110、第一框架111、电磁铁装置112、电动伸缩杆113、弧形导块114、弧形滑轨115、托盘116、滑柱117、磁块118、第二框架120、传动杆121、伺服电机122、齿轮123、带传动机构124、限位滑块125、滑板126、基板130、滑槽131、侧板132、齿条133、加工槽134、底板135、执行装置200、曝光机构210、第三框架211、气缸212、第四框架213、限位安装架214、影映组件220、LD放映设备221、凹透镜222、DMD芯片223、平面反射镜224、聚焦透镜225、消光镜226、激光放射设备230、壳体240、总控中心241、连接件242。
具体实施方式
[0019]以下结合附图对本专利技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0020]参照附图1
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于CCD对位系统的曝光机，包括调节装置（100）与执行装置（200），所述调节装置（100）位于执行装置（200）内部，其特征在于：所述调节装置（100）包括基板（130）：还包括：位于基板（130）上部的调整组件（110）；所述调整组件（110）包括第一框架（111），所述第一框架（111）两侧上表面均设有两组电磁铁装置（112），所述第一框架（111）底部两端均固定安装有两组电动伸缩杆（113），位于同一侧的两组所述电动伸缩杆（113）输出端均固定安装有同一个弧形导块（114），两组所述弧形导块（114）两侧壁均与第一框架（111）侧壁滑动连接，两组所述弧形导块（114）上壁均开设有弧形滑轨（115），所述第一框架（111）中部设有托盘（116），所述托盘（116）底部四角处均固定安装有滑柱（117），位于同一侧的两组所述滑柱（117）与同一侧的弧形滑轨（115）滑动连接，所述托盘（116）两侧壁均固定安装有两组磁块（118）。2.根据权利要求1所述的一种基于CCD对位系统的曝光机，其特征在于：所述基板（130）上部两侧开设有滑槽（131），两组所述滑槽（131）均贯穿基板（130），所述基板（130）底部四周均固定安装有侧板（132），位于两侧的所述侧板（132）内表面均固定安装有齿条（133），所述基板（130）上表面设有贯穿基板（130）的加工槽（134），四组所述侧板（132）底部固定连接有同一块底板（135），所述加工槽（134）贯穿底板（135）。3.根据权利要求2所述的一种基于CCD对位系统的曝光机，其特征在于：所述基板（130）上部设有第二框架（120），所述第二框架（120）底部两侧均固定安装有滑板（126），两组所述滑板（126）与基板（130）活动接触，两组所述滑板（126）底部均固定安装有限位滑块（125），所述限位滑块（125）与滑槽（131）滑动配合。4.根据权利要求3所述的一种基于CCD对位系统的曝光机，其特征在于：所述第二框架（120）四角处均设有传动杆（121），四组所述传动杆（121）均转动贯穿第二框架（120），四组所述传动杆（121）底部均固定安装有齿轮（123），同一侧的两组所述齿轮（123）与该侧的齿条（133）啮合连接，位...

【专利技术属性】
技术研发人员：欧丽华，
申请(专利权)人：深圳市凯瑞得智能股份有限公司，
类型：发明
国别省市：