曝光设备制造技术

本实用新型专利技术公开一种曝光设备，包括承载板、掩模、光强测量组件和光强计算部件，承载板的上表面承载有基板，掩模间隔设置在承载板的上方，光强测量组件具有多组，光强测量组件包括正对设置的照射灯和照度传感器，照射灯和照度传感器两者中的一个设置在承载板上，照射灯和照度传感器两者中的另一个设置在掩模的上方，照度传感器用于检测当前照射灯的光照强度，所有的照度传感器与光强计算部件通信连接，光强计算部件内预先设定有标准光照强度。此曝光设备通过照射灯、照度传感器和光强计算部件的相互配合，有效地提高基板的曝光间距均一性，保证曝光质量。保证曝光质量。保证曝光质量。

【技术实现步骤摘要】
曝光设备


[0001]本技术涉及显示装置的制备
，尤其涉及一种曝光设备。

技术介绍

[0002]在基板制作的过程中，需要使用曝光设备对基板进行曝光处理。一般地，曝光设备包括承载板和掩模，承载板用于固定基板，掩模固定在承载板的上方，且掩模与承载板间隔。曝光间距(即基板与掩模之间的间距)对基板的曝光质量有着重要的影响。为了保证基板各处的曝光间距的一致性，通常在曝光设备中设置间距检测部件，如图1和图2所示，间距检测部件3＇设置在掩模2＇的下方，通过间距检测部件3＇测量出不同位置时基板100＇与掩模2＇之间的间距，当所测量到的基板100＇与掩模2＇之间的间距超出了设定范围时，调整承载板1＇的局部位置，以调节基板100＇与掩模2＇之间的间距。然而，现有技术中的间距检测部件3＇通常为光接收型间隙传感器或光发送型间隙传感器，此种类型间隙传感器经过长时间的使用后检测的精度会下降，保持曝光间距所需的再现性低，导致基板100＇的曝光质量差。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于：提供一种曝光设备，通过照射灯、照度传感器和光强计算部件的相互配合，有效地提高基板的曝光间距均一性，保证曝光质量。
[0004]为达上述目的，本技术采用以下技术方案：
[0005]提供一种曝光设备，包括承载板和掩模，所述承载板的上表面承载有基板，所述掩模间隔设置在所述承载板的上方，还包括光强测量组件和光强计算部件，所述光强测量组件具有多组，所述光强测量组件包括正对设置的照射灯和照度传感器，所述照射灯和所述照度传感器两者中的一个设置在所述承载板上，所述照射灯和所述照度传感器两者中的另一个设置在所述掩模的上方，所述照度传感器用于检测当前所述照射灯的光照强度，所有的所述照度传感器与所述光强计算部件通信连接，所述光强计算部件内预先设定有标准光照强度。
[0006]作为曝光设备的一种优选方案，所述掩模上具有透光区，所述照射灯间隔设置在所述透光区的上方，所述照度传感器设置在所述承载板的上表面。
[0007]作为曝光设备的一种优选方案，所述掩模贯穿设置有供所述照射灯的光线透过的透光孔，所述透光孔形成所述透光区。
[0008]作为曝光设备的一种优选方案，所述光强测量组件还包括滤光片，所述滤光片设置在所述透光孔中。
[0009]作为曝光设备的一种优选方案，所述承载板与所述掩模之间的间距为100～400μm。
[0010]作为曝光设备的一种优选方案，所述光强测量组件具有四组，分别沿着所述基板的四角位置分布。
[0011]作为曝光设备的一种优选方案，所述照射灯为LED灯。
[0012]作为曝光设备的一种优选方案，所述承载板可形变，所述承载板上具有至少四个调整区，每个所述调整区的上表面设置有一个所述照度传感器或所述照射灯，所述光强计算部件能够根据当前所述照射灯的光照强度以及所述标准光照强度获取所述调整区的形变量，所述调整区的下方设置有根据所述形变量调整所述承载板的调整机构。
[0013]作为曝光设备的一种优选方案，所述调整机构包括竖直移动的升降杆，所述升降杆与驱动件连接，所述驱动件通过控制器与所述光强计算部件通信连接，所述升降杆的上端设置有调整吸盘。
[0014]作为曝光设备的一种优选方案，还包括移动机构，所述移动机构能够带动所述调整机构在所述承载板的下方移动，以将所述调整机构选择性移动至对应所述调整区的正下方。
[0015]本技术的有益效果为：此种结构的曝光设备与现有技术中的曝光设备不同，现有技术中的曝光设备是通过间距检测部件测量基板到掩模之间的间距，本技术中的曝光设备是通过测量照射灯的光照强度，通过光强计算部件判断基板的曝光间距是否符合要求，有利于提高检测的准确性，有效地提高基板的曝光间距的均一性，保证基板的曝光质量。
附图说明
[0016]下面根据附图和实施例对本技术作进一步详细说明。
[0017]图1为现有技术中的曝光设备的结构示意图。
[0018]图2为图1的剖视图。
[0019]图3为本技术一实施例中的曝光设备的结构示意图。
[0020]图4为本技术另一实施例中的曝光设备的剖视图。
[0021]图5为本技术再一实施例中的曝光设备的剖视图。
[0022]图6为本技术又一实施例中的曝光设备的剖视图。
[0023]图7为图6中的滑轨的分布图。
[0024]图8为本技术的实施例中照度传感器所检测到当前照射灯的光照强度的高斯分布图。
[0025]图1和图2中：
[0026]1＇、承载板；2＇、掩模；3＇、间距检测部件；100＇、基板。
[0027]图3至图7中：
[0028]1、承载板；2、掩模；3、照射灯；4、滤光片；5、照度传感器；6、调整机构；601、调整吸盘；602、升降杆；603、驱动件；7、移动机构；701、滑块；702、滑轨；8、透光孔；9、定位板；100、基板。
具体实施方式
[0029]参考下面结合附图详细描述的实施例，本技术的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本技术不限于以下公开的实施例，而是可以以各种不同的形式来实现，提供本实施例仅仅是为了完成本技术的公开并且使本领域技术人员充分地了解本技术的范围，并且本技术仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在
整个说明书中表示相同的构成要素。
[0030]以下，参照附图的图3至图8来详细描述本技术。
[0031]图3为本技术一实施例的曝光设备的结构示意图。此曝光设备包括承载板1、掩模2、光强测量组件和光强计算部件(图中未示出)。承载板1的上表面承载有基板100，掩模2间隔设置在承载板1的上方，基板100为玻璃板。光强测量组件具有多组，光强测量组件包括正对设置的照射灯3和照度传感器5，照射灯3和照度传感器5两者中的一个设置在承载板1上，照射灯3和照度传感器5两者中的另一个设置在掩模2的上方。照射灯3用于向照度传感器5照射光线，照度传感器5用于检测当前照射灯3的光照强度，所有的照度传感器5与光强计算部件通信连接，光强计算部件内预先设定有标准光照强度。
[0032]可以理解的是，由于掩模2间隔设置在承载板1的上方，在自身重量的影响下掩模2的局部区域会发生下垂，或者由于基板100具有一定的面内厚度偏差，且具有一定的柔性，随承载板1表面形貌而发生弯曲，故基板100与掩模2之间的距离不等，影响基板100的曝光质量。本技术中的曝光设备，设置多组光强测量组件，照射灯3向照度传感器5照射光线，照度传感器5将检测到的当前照射灯3的光照强度传输给光强计算部件，由于基板100承载在承载板1的上表面，光强计算部件将当前照射灯3的光照强度与预先设定的标准光照强度进行比较，如果当前照射灯3的光照强度与标准光照强度的差值大于设定的误差值，则表示基板100与掩模2之间的间距(即曝光间距)不符合要求，如果当前照射灯3的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光设备，包括承载板和掩模，所述承载板的上表面承载有基板，所述掩模间隔设置在所述承载板的上方，其特征在于，还包括光强测量组件和光强计算部件，所述光强测量组件具有多组，所述光强测量组件包括正对设置的照射灯和照度传感器，所述照射灯和所述照度传感器两者中的一个设置在所述承载板上，所述照射灯和所述照度传感器两者中的另一个设置在所述掩模的上方，所述照度传感器用于检测当前所述照射灯的光照强度，所有的所述照度传感器与所述光强计算部件通信连接，所述光强计算部件内预先设定有标准光照强度。2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述掩模上具有透光区，所述照射灯间隔设置在所述透光区的上方，所述照度传感器设置在所述承载板的上表面。3.根据权利要求2所述的曝光设备，其特征在于，所述掩模贯穿设置有供所述照射灯的光线透过的透光孔，所述透光孔形成所述透光区。4.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述光强测量组件还包括滤光片，所述滤光片设置在所述透光孔中。5.根据权利要求4所述的曝光设备，其特征在于，所述承载板与所述掩模...

【专利技术属性】
技术研发人员：许在烈，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：新型
国别省市：