【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于通过液体使基板曝光的。
技术介绍
半导体元件或液晶显示元件，是由将形成于掩膜上的图案转印于感光性基板上、即所谓的光刻方法来制造。此光刻步骤所使用的曝光装置，具有支撑掩膜的掩膜载台与支撑基板的基板载台，使掩膜载台与基板载台一边逐次移动一边通过投影光学系统将掩膜的图案转印于基板。近年来，为对应元件图案的更高集成化，而期待投影光学系统具有更高分辨率。投影光学系统的分辨率，是所使用的曝光波长越短、或投影光学系统的数值孔径越大则会越提高。因此，曝光装置所使用的曝光波长逐年变短，投影光学系统的数值孔径则逐渐增大。又，目前主流的曝光波长虽为KrF准分子雷射光的248nm，但波长更短的ArF准分子雷射光的193nm也逐渐实用化。又，进行曝光时，焦深(DOF)也与分辨率同样重要。分辨率R及焦深δ分别以下式表示。R＝k1·λ/NA...(1)δ＝±k2·λ/NA2...(2)此处，λ为曝光波长，NA为投影光学系统的数值孔径，k1、k2为处理系数。从(1)式、(2)式可知，为了提高分辨率R，而缩短曝光波长λ、增大数值孔径NA时，即会使焦深δ变窄。若焦深δ变得过窄，即难以使基板表面与投影光学系统的像面一致，有进行曝光动作时焦点裕度不足之虞。因此，作为实质上缩短曝光波长且扩大焦深的方法，例如已有提出一种国际公开第99/49504号公报所揭示的液浸法。此液浸法，是以水或有机溶媒等液体充满投影光学系统下面与基板表面间来形成液浸区域，利用液体中的曝光用光的实质波长为在空气中的1/n倍(n为液体折射率，通常为1.2～1.6左右)这点来提高分辨率，且能将焦深放大至n倍。此...
【技术保护点】
一种曝光装置，是通过液体将曝光用光照射于基板上来使基板曝光，其特征在于，具备：投影光学系统，具有复数个元件，其包含最接近像面的第１元件、以及次于第１元件接近像面的第２元件；第１元件，具有配置成与基板表面对向、使曝光用光通过的 第１面；以及配置成与第２元件对向、使曝光用光通过的第２面；第１元件及第２元件，相对投影光学系统的光轴被支撑成大致静止的状态，将液体充满于第１元件的第２面与第２元件之间，以在第１元件的第２面中，仅使包含曝光用光通过的区域的部分区域成为液浸区域，通过第１元件的第１面侧的第１液体、与第２面侧的第２液体将曝光用光照射于基板上，以使基板曝光。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2004-6-10 172568/20041.一种曝光装置，是通过液体将曝光用光照射于基板上来使基板曝光，其特征在于，具备投影光学系统，具有复数个元件，其包含最接近像面的第1元件、以及次于第1元件接近像面的第2元件；第1元件，具有配置成与基板表面对向、使曝光用光通过的第1面；以及配置成与第2元件对向、使曝光用光通过的第2面；第1元件及第2元件，相对投影光学系统的光轴被支撑成大致静止的状态，将液体充满于第1元件的第2面与第2元件之间，以在第1元件的第2面中，仅使包含曝光用光通过的区域的部分区域成为液浸区域，通过第1元件的第1面侧的第1液体、与第2面侧的第2液体将曝光用光照射于基板上，以使基板曝光。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，该第1元件与第2元件间的液体，是由表面张力保持。3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，该第2元件与该第1元件对向的面外径，小于该第1元件的第2面的外径。4.一种曝光装置，是通过液体将曝光用光照射于基板上来使该基板曝光，其特征在于，具备投影光学系统，具有复数个元件，其包含最接近像面的第1元件、以及次于该第1元件接近该像面的第2元件；该第1元件，具有配置成与基板表面对向、使该曝光用光通过的第1面；以及配置成与第2元件对向、使该曝光用光通过的第2面；与该第1元件对向的该第2元件的面外径，小于该第1元件的第2面的外径；该第1元件及该第2元件，相对该投影光学系统的光轴被支撑成大致静止的状态；通过该第1元件的该第1面侧的第1液体、与该第2面侧的第2液体将该曝光用光照射于该基板上，以使该基板曝光。5.如权利要求1或4所述的曝光装置，其特征在于该第1元件的该第1面与该第2面大致平行。6.如权利要求1或4所述的曝光装置，其特征在于于该投影光学系统的光轴上，该第1元件的该第1面与该第2面的距离大于15mm。7.如权利要求1或4所述的曝光装置，其特征在于以该第1元件的第2面中构成该液浸区域的部分区域为第1区域，以其周围的区域为第2区域；该第1区域表面与该第2液体的亲和性，高于该第2区域表面与该第2液体的亲和性。8.如权利要求7所述的曝光装置，其特征在于该第2区域表面对该第2液体具有拨液性。9.如权利要求1或4所述的曝光装置，其特征在于具备第1液浸机构，用以将该第1液体充满该第1元件的第1面与该基板之间；第2液浸机构，用以将第2液体充满该第1元件与该第2元件之间。10.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构及该第2液浸机构，分别具有液体的供应口与回收口。11.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于该第1液体与该第2液体为相同液体。12.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于该第2液浸机构具有液体回收口，该液体回收口配置成包围形成于该第1元件的第2面的液浸区域。13.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构，具有形成为与该基板表面对向的斜面；该第1液浸机构的液体回收口形成于该斜面。14.如权利要求13所述的曝光装置，其特征在于该斜面，是形成为与该曝光用光光轴的距离越长其与该基板表面的间隔越大。15.如权利要求13所述的曝光装置，其特征在于该斜面，是形成为包围该曝光用光所照射的投影区域；该第1液浸机构的液体回收口，配置成包围该曝光用光所照射的投影区域。16.如权利要求13所述的曝光装置，其特征在于于该第1液浸机构的液体回收口配置有多孔构件。17.如权利要求13所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构具有平坦部，该平坦部是在该曝光用光所照射的投影区域与该斜面之间，以和该基板表面大致成平行的方式、且与该斜面连续地形成；该平坦部，形成为包围该投影区域。18.如权利要求17所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构的平坦部，配置于该第1元件的第1面与该基板之间。19.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构，具有形成为与该基板表面对向且与该基板表面大致平行的平坦部；该平坦部，是于该第1元件的第1面与该基板之间，配置成包围该曝光用光所照射的投影区域。20.如权利要求19所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构的液体回收口，配置成相对该投影区域位于该平坦部外侧且包围该平坦部。21.如权利要求19所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构的液体回收口，相对该曝光用光所照射的投影区域配置于该平坦部外侧。22.一种曝光装置，是通过第1液体将曝光用光照射于基板上，以使该基板曝光，其特征在于，具备投影光学系统，具有复数个元件，其包含最接近像面的第1元件、以及次于该第1元件接近该像面的第2元件；以及第1液浸机构，用以供应该第1液体；该第1元件，具有配置成与该基板表面对向、使该曝光用光通过的第1面；以及配置成与该第2元件对向、与该第1面大致平行的第2面；该第1元件的第2面外径，大于该第1元件的该第1面外径；通过该第1元件与该基板间的第1液体将该曝光用光照射于该基板上，以使该基板曝光。23.如权利要求22所述的曝光装置，其特征在于以第2液体来充满该第1元件与该第2元件之间；使该曝光用光通过该第1液体与该第2液体照射于基板上，以使该基板曝光。24.如权利要求22所述的曝光装置，其特征在于该第2元件的与该第1元件的第2面对向的面外径，小于该第1元件的第2面的外径。25.如权利要求22所述的曝光装置，其特征在于进一步具备第2液浸机构，用来以第2液体充满该第1元件与第2元件之间。26.如权利要求25所述的曝光装置，其特征在于该第2液体与该第1液体相同。27.如权利要求25所述的曝光装置，其特征在于该第2液浸机构，具有用以供应该第2液体的供应口、以及用以回收该第2液体的回收口。28.如权利要求25所述的曝光装置，其特征在于该第2液浸机构，将液浸区域仅形成于该第1元件的第2面中的部分区域。29.如权利要求22所述的曝光装置，其特征在于于该投影光学系统的光轴上，该第1元件的该第1面与该第2面的距离大于15mm。30.一种曝光装置，是通过第1液体将曝光用光照射于基板上，以使该基板曝光，其特征在于，具备第1液浸机构，是将第1液体供应至基板上；投影光学系统，具有复数个元件，其包含最接近像面的第1元件、以及次于该第1元件接近该像面的第2元件；该第1元件，配置成第1面与该基板表面对向且第2面与该第2元件对向；于该投影光学系统的光轴上，该第1元件的该第1面与该第2面的距离大于15mm；将该曝光用光通过该第1元件的该第1面侧的第1液体照射于基板上，以使该基板曝光。31.如权利要求30所述的曝光装置，其特征在于该第1面与该第2面为大致平行。32.如权利要求22或30所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构，具有形成为与该基板表面对向的斜面；该第1液浸机构的液体回收口，形成于该斜面。33.如权利要求32所述的曝光装置，其特征在于该斜面，形成为与该曝光用光光轴的距离越长其与该基板表面的间隔越大。34.如权利要求32或33所述的曝光装置，其特征在于于该第1液浸机构的液体回收口配置有多孔构件。35.如权利要求32所述的曝光装置，其特征在于该斜面，形成为包围该曝光用光所照射的投影区域。36.如权利要求35所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构具有平坦部，该平坦部是在该曝光用光所照射的投影区域与该斜面之间，以和该基板表面大致成平行的方式、且与该斜面连续地形成；该平坦部，形成为包围该投影区域。37.如权利要求22或30所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构，具有形成为与该基板表对向、且与该基板表面大致平行的平坦部；该平坦部，配置成包围该曝光用光所照射的投影区域。38.如权利要求36或37所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构的平坦部，是在该第1元件的第1面与该基板之间配置成与该基板表面对向。39.如权利要求37所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构的液体回收口，相对该曝光用光所照射的投影区域配置于该平坦部外侧。40.如权利要求22或30所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构的液体回收口，是配置成包围该曝光用光所照射的投影区域。41.如权利要求40所述的曝光装置，其特征在于形成为包围该投影区域的该第1液浸机构的液体回收口外径，小于该第1元件的第2面外径。42.如权利要求40所述的曝光装置，其特征在于该第1液浸机构的液体回收口，是在该第1元件与该基板之间以和该基板表面对向的方式，配置于该第1元件的第1面周围。43.如权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：长坂博之，恩田稔，
申请(专利权)人：尼康股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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