一种微显示器件基板膜层脏污清理系统技术方案

一种微显示器件基板膜层脏污清理系统，属于微显示器件技术领域，该清理系统，包括清理室，清理室内设置有用于将基板吸附定位的载台，载台的上方设置有分离脏污颗粒的静电消除装置和清除脏污颗粒的吹风吸附装置，本发明专利技术的有益效果是，本发明专利技术通过去静电解除脏污吸附，采用高压气体吹扫和超声波震荡的方式吹扫脏污颗粒，再真空吸收脏污颗粒，实现了非湿法去除脏污颗粒的效果，避免了对膜层的损伤，提高了产品良率。了产品良率。了产品良率。

【技术实现步骤摘要】
一种微显示器件基板膜层脏污清理系统


[0001]本专利技术涉及微显示器件
，尤其涉及一种微显示器件基板膜层脏污清理系统。

技术介绍

[0002]在半导体、泛半导体及显示领域，因关键尺寸的缩小，脏污颗粒对工艺的影响占比越来越高，因此，在工艺过程中对脏污颗粒的去除显得尤为迫切。
[0003]在显示产品的制备过程中，需要在基板上制备膜层，在部分药液耐受性较差的薄膜工艺中，无法进行湿法清洗，因此在此部分工艺中，脏污颗粒会造成较大的良率损失。例如硅基OLED显示领域，在封装工艺后，因膜层的特性影响，如果采用湿法清洗，对膜层损伤较大，此工艺后无法采取有效的清洗方式去除脏污颗粒，对硅基OLED产品良率影响较大。

技术实现思路

[0004]为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种微显示器件基板膜层脏污清理系统，通过去静电解除脏污吸附，采用高压气体吹扫和超声波震荡的方式吹扫脏污颗粒，再真空吸收脏污颗粒，实现了非湿法去除脏污颗粒的效果，避免了对膜层的损伤，提高了产品良率。
[0005]为实现上述目的，本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：所述微显示器件基板膜层脏污清理系统，包括清理室，所述清理室内设置有用于将基板吸附定位的载台，所述载台的上方设置有分离脏污颗粒的静电消除装置和清除脏污颗粒的吹风吸附装置。
[0006]所述载台包括真空吸附台，所述真空吸附台内设置有承载基板的多个顶升装置。
[0007]所述顶升装置包括伸缩驱动部件Ⅰ及与之相连的顶针，所述真空吸附台上设置有与所述顶针相配合的穿接孔。
[0008]所述真空吸附台上还设置有调整基板位置的对位装置，所述对位装置包括分别设置在真空吸附台两侧的升降夹持头，两个升降夹持头的底部与驱动机构Ⅰ相连使两个升降夹持头相向或相对移动。
[0009]所述升降夹持头包括夹持头本体及与之相连的伸缩驱动部件Ⅱ，两个伸缩驱动部件Ⅱ的底部与所述驱动机构Ⅰ相连。
[0010]所述驱动机构Ⅰ包括驱动电机Ⅰ，所述驱动电机Ⅰ的输出轴与双向螺旋杆相连，所述双向螺杆包括正牙丝杆段和反牙丝杆段，所述正牙丝杆段与其中一个升降夹持头的底部螺纹连接，所述反牙丝杆段与另一个升降夹持头的底部螺纹连接。
[0011]所述静电消除装置包括覆盖安装设置在所述载台正上方的多个静电离子棒。
[0012]所述吹风吸附装置沿着所述载台的长度方向往复滑动，所述吹风吸附装置包括清洁头，所述清洁头内设置有向基板表面震荡吹扫的吹扫腔室，所述吹扫腔室的两侧设置有将基板上吹起的脏污颗粒吸附的吸附腔室。
[0013]所述吹扫腔室的顶部设置有通入高压气体的进气口，所述吹扫腔室内与所述进气
口相对的位置处安装有超声波发生器，所述吹扫腔室的底部设置有锥形吹风口；所述吸附腔室的外侧设置有抽风口，所述吸附腔室的底部设置有倒锥形吸附口。
[0014]所述载台的两侧沿其长度方向分别设置有滑轨，两个滑轨上分别滑动连接有支撑架，两个支撑架与所述清洁头的两端固定相连；两个滑轨通过驱动机构Ⅱ与两个支撑架相连以驱动两个支撑架在滑轨内往复移动。
[0015]本专利技术的有益效果是：
[0016]1、本专利技术通过将基板定位吸附在载台上，通过静电消除装置解除脏污颗粒的静电吸附作用，来分离基板上的脏污颗粒，再通过吹风吸附装置将膜层上的脏污颗粒吹起后吸附去除，实现了非湿法去除脏污颗粒的效果，避免了对膜层的损伤，提高了产品良率。
[0017]2、本专利技术通过真空吸附台内的顶升装置可便于基板的放置和取出，避免了对基板边缘的损伤，将基板放置在真空吸附台上后通过升降夹持头的升降和向内夹持可将基板的位置进行调整对位，在清洁头往复运动的过程中，使脏污颗粒的去除更加全面。
[0018]3、本专利技术通过在清洁头内设置吹扫腔室，通过向吹扫腔室内通入高压气体，高压气体在超声波发生器的作用下发生震荡，吹扫及震荡基板膜层表面的脏污颗粒，使基板表面的脏污颗粒可快速处于悬浮状态，通过吹扫腔室两侧的吸附腔室将悬浮的脏污颗粒进行全面吸附，提高了脏污颗粒的去除效果。
[0019]综上，本专利技术通过去静电解除脏污吸附，采用高压气体吹扫和超声波震荡的方式吹扫脏污颗粒，再真空吸收脏污颗粒，实现了非湿法去除脏污颗粒的效果，避免了对膜层的损伤，提高了产品良率。
附图说明
[0020]下面对本专利技术说明书各幅附图表达的内容及图中的标记作简要说明：
[0021]图1为本专利技术中清理室内的结构示意图；
[0022]图2为图1的侧视图；
[0023]图3为图1中清洁头的结构示意图；
[0024]图4为图2和图3中对位装置的结构示意图；
[0025]图5为驱动机构Ⅱ与滑轨相连的结构示意图；
[0026]上述图中的标记均为：1.清理室，2.静电消除装置，3.吹风吸附装置，31.清洁头，311.吹扫腔室，312.吸附腔室，313.进气口，314.锥形吹风口，315.抽风口，316.倒锥形吸附口，32.超声波发生器，4.真空吸附台，5.顶升装置，51.伸缩驱动部件Ⅰ，52.顶针，6.对位装置，61.升降夹持头，611.夹持头本体，612.伸缩驱动部件Ⅱ，62.驱动机构Ⅰ，621.驱动电机Ⅰ，622.双向螺旋杆，7.滑轨，8.支撑架，9.驱动机构Ⅱ，91.滚珠丝杆机构Ⅰ，92.滚珠丝杆机构Ⅱ，93.驱动电机Ⅱ，94.带传动机构。
具体实施方式
[0027]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。
[0028]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖
直”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0029]在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0030]本专利技术具体的实施方案为：如图1和图2所示，一种微显示器件基板膜层脏污清理系统，包括清理室1，清理室1内设置有用于将基板吸附定位的载台，载台的上方设置有分离脏污颗粒的静电消除装置2和清除脏污颗粒的吹风吸附装置3。本专利技术通过将基板定位吸附在载台上，通过静电消除装置2解除脏污颗粒的静电吸附作用，来分离基板上的脏污颗粒，再通过吹风吸附装置3将膜层上的脏污颗粒吹起后吸附去除，实现了非湿法去除脏污颗粒的效果，避免了对膜层的损伤，提高了产品良率。
[0031]具体地，其中的载台包本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微显示器件基板膜层脏污清理系统，其特征在于：包括清理室，所述清理室内设置有用于将基板吸附定位的载台，所述载台的上方设置有分离脏污颗粒的静电消除装置和清除脏污颗粒的吹风吸附装置。2.根据权利要求1所述的微显示器件基板膜层脏污清理系统，其特征在于：所述载台包括真空吸附台，所述真空吸附台内设置有承载基板的多个顶升装置。3.根据权利要求2所述的微显示器件基板膜层脏污清理系统，其特征在于：所述顶升装置包括伸缩驱动部件Ⅰ及与之相连的顶针，所述真空吸附台上设置有与所述顶针相配合的穿接孔。4.根据权利要求2所述的微显示器件基板膜层脏污清理系统，其特征在于：所述真空吸附台上还设置有调整基板位置的对位装置，所述对位装置包括分别设置在真空吸附台两侧的升降夹持头，两个升降夹持头的底部与驱动机构Ⅰ相连使两个升降夹持头相向或相对移动。5.根据权利要求4所述的微显示器件基板膜层脏污清理系统，其特征在于：所述升降夹持头包括夹持头本体及与之相连的伸缩驱动部件Ⅱ，两个伸缩驱动部件Ⅱ的底部与所述驱动机构Ⅰ相连。6.根据权利要求4所述的微显示器件基板膜层脏污清理系统，其特征在于：所述驱动机构Ⅰ包括驱动电机Ⅰ，所述驱动电机Ⅰ的输出轴与双向螺旋杆相连，所述双向螺杆包括正牙...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹贺，潘倩倩，刘晓佳，赵铮涛，吕磊，刘胜芳，
申请(专利权)人：安徽熙泰智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：