用于制造平板显示器的设备制造技术

一种上盖开／闭装置，用于开／闭提供在ＦＰＤ制造设备的真空室上的上盖，所述ＦＰＤ制造设备对加载到所述真空室中的基板执行所需的处理，所述上盖开／闭装置包括：　　　　独立于所述上盖的联接，所述联接被耦合到所述上盖以枢转地沿着抛物线轨道旋转所述上盖，以将其远离所述真空室打开或者关闭到所述真空室。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于制造平板显示器的设备(FPD)，其能够在其中建立真空气氛之后对FPD基板执行所需的处理，并且更具体地涉及FPD制造设备，其中真空室被分成室体以及上盖，从而所述上盖能够容易地打开和关闭。
技术介绍
平板显示器(FPD)制造设备被设计为馈送FPD基板到其中并且通过使用等离子体等对所述FPD基板执行所需的处理，如蚀刻处理。FPD的实例包括LCD、PDP、OLED等。在这样的FPD制造设备中，通常的真空处理设备包括三个真空室，包括负载锁定室(load lock chamber)、传送室以及处理室。所述负载锁定室被用来从用于加载基板的外部站来接收将在所述FPD制造设备中处理的基板，或者用来使在用于卸载所述基板的FPD制造设备中被处理的基板完全放电。所述传送室被提供有机器人，用于在各室之间馈送基板，以便其将待处理的所述基板从所述负载锁定室运送到所述处理室，或者将被完全处理的所述基板从所述处理室运送到所述负载锁定室。所述处理室被用于通过在真空气氛下使用等离子体或者热能来对基板执行膜沉积处理或者蚀刻处理。由于该事实即多种气体或者等离子体在所述处理室中使用，如果重复大量的处理，则提供在处理室中的装备可能被损坏或者被污染，并且因此有必要周期性地更换或者修理所述装备。因此，如图1中所示，由参考号1指示的所述处理室通常包括室体10和上盖20，如此所述处理室1的所述上盖20能够被打开和关闭，以便所述室内部的维护和修理。传统地，为了打开和关闭所述上盖20，升降机(crane)已经被安装到其中提供处理室1的洁净室的顶部，使得通过使用所述升降机所述上盖20被打开和关闭。可替换地，所述处理室被装备有开/闭装置以打开和关闭所述上盖。参见图2，用于所述上盖20的传统的开/闭装置的实例被示出。如图2中所示，所述上盖开/闭装置50被提供在所述处理室1的外侧以打开和关闭所述上盖20。所述开/闭装置50包括垂直驱动单元，以垂直地提升所述上盖20；水平移动单元，以水平地移动所述上盖20；以及旋转单元，以旋转所述上盖20。另外，所述开/闭装置50被提供有水平移动导引60以提供所述水平驱动单元的移动路径。下文中，将解释由具有上面配置的所述开/闭装置50所执行的上盖20的开/闭过程。首先，通过使用包括在所述开/闭装置50中的所述垂直驱动单元，所述上盖20被垂直地提升预定的高度。接下来，所述上盖20在被提升的状态沿着所述水平移动导引被水平地移动。在完成了这样的水平移动之后，通过使用所述旋转单元所述上盖20被旋转180°。结果，所述处理室1的所述室体10和所述上盖20两者都被打开，以使所述处理室1中所提供的各个装备能够更换或修理。但是，要由所述FDP制造设备处理的基板的尺寸最近已经被增加，并且因此，包括在所述FDP制造设备中的真空室的尺寸正迅速地增加。例如，在当前可用的真空室的情况下，其上盖不仅具有3乘4米的大尺寸，而且具有大于3到4吨的重量。因此，为了垂直地提升所述真空室的所述大尺寸的重的上盖，有必要提供具有极高容量的气缸的垂直驱动单元。另外，当被垂直提升时所述庞大的上盖表现出缺乏稳定性方面的增加，不利地影响所述真空室内部的维护和修理。
技术实现思路
因此，本专利技术是考虑到上述问题而完成的，并且本专利技术的目的是提供能够容易地开/闭上盖的FPD制造设备。根据本专利技术的第一方面，以上和其他目的可以通过提供FPD制造设备来实现，所述FPD制造设备包括真空室，包括室体和位于所述室体的上侧以面对所述室体的上盖，所述室体被与所述室体以预定的距离间隔开；密封装置，可分离地地耦合到所述上盖以密封所述室体和所述上盖的边沿；旋转单元对，耦合到所述上盖的相对侧表面(lateralsurface)的对应位置，并且适于旋转所述上盖；水平驱动单元对，分别耦合到所述旋转单元，并且适于支持耦合到所述旋转单元的上盖并且水平地移动所述上盖；轨道单元，分别耦合到所述水平驱动单元以提供所述水平驱动单元的移动路径；以及一个或者多个处理器单元，提供在所述真空室中以对加载于所述真空室中的对象执行所需的处理。根据本专利技术的第二方面，以上和其他的目的可以通过提供FPD制造设备而实现，所述FPD制造设备用于在所述室中产生等离子体之后在真空气氛下对加载入室中的基板执行所需的处理，其中所述室包括下室；以及上室，设置在所述下室上以远离所述下室打开或者关闭到所述下室，所述下和上室的耦合表面在所述上室的移动方向上被向下倾斜；并且所述FPD制造设备包括水平驱动单元对，用于以水平可移动的方式支持所述上室；以及旋转单元对，用于旋转地支持所述上室。根据本专利技术的第三方面，以上和其他的目的可以通过提供用于FPD制造设备中的上盖开/闭装置而实现，所述FPD制造设备对加载到真空室中的基板执行所需的处理，所述上盖开/闭装置包括盖加载单元，用于支持并旋转从所述真空室分开的上盖；以及轨道单元，用于提供用于将所述盖加载单元移动到接近所述真空室的位置的移动路径，其中可移动块被提供在盖加载单元的与所述轨道单元耦合的部分，以允许所述盖加载单元以被置于在所述轨道单元上的状态沿着所述轨道单元移动。根据本专利技术的第四方面，以上和其他的目的可以通过提供用于开/闭提供在FPD制造设备的真空室上的上盖的上盖开/闭装置而实现，所述FPD制造设备对加载到真空室中的基板执行所需的处理，所述上盖开/闭装置包括独立于所述上盖的联接，所述联接被耦合到所述上盖以枢转地沿着抛物线轨道旋转所述上盖，以远离所述真空室打开或者关闭到所述真空室。根据本专利技术的第五方面，以上和其他的目的可以通过提供用于在真空气氛下对加载到室中的基板执行所需的处理的FPD制造设备而实现，包括；传送室，其中提供有传送机器人，以将基板加载到负载锁定室或处理室或者将基板从负载锁定室或处理室卸载；可分离的上盖，提供在所述传送室的上端以移动所述传送机器人到外部站；以及水平驱动单元对，提供在所述传送室的相对侧，以采取水平可移动的方式支持所述上盖。附图说明本专利技术的以上和其他的目的、特征和其他优点从下面结合附图的详细描述中将会更清楚地得到理解，其中图1是说明提供在现有技术FPD制造设备中的处理室结构的横截面图；图2是说明可以与现有技术处理室一起使用的上盖开/闭装置的实例的透视图；图3是说明根据本专利技术的第一实施例的FPD制造设备的分解透视图；图4是说明根据本专利技术的第一实施例的FPD制造设备的内部结构的横截面图；图5A到5C是说明根据本专利技术的密封装置的可替换的实施例的部分横截面图；图6A到6D是解释根据本专利技术的第一实施例的FPD制造设备中所采用的上盖的开/闭过程的透视图；图7是说明根据本专利技术的第三实施例的FPD制造设备的配置的侧视图；图8A和8B是说明根据本专利技术的第三实施例的密封元件驱动单元的操作的部分横截面图；图9A和9B是说明根据本专利技术的第三实施例的另一密封元件驱动单元的操作的部分横截面图；图10A和10B是说明根据本专利技术的第三实施例的密封元件的操作的部分横截面图；图11A和11B是解释根据本专利技术的第三实施例的FPD制造设备所执行的上室开/闭过程的视图；图12是说明根据本专利技术的第四实施例的上盖开/闭装置的配置和布局的俯视图；图13是图12的侧视图；图14A和14B是说明根据本专利技术的第四实施例的包括在所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种上盖开／闭装置，用于开／闭提供在ＦＰＤ制造设备的真空室上的上盖，所述ＦＰＤ制造设备对加载到所述真空室中的基板执行所需的处理，所述上盖开／闭装置包括：独立于所述上盖的联接，所述联接被耦合到所述上盖以枢转地沿着抛物线轨道旋转所述上盖，以将其远离所述真空室打开或者关闭到所述真空室。

【技术特征摘要】
1.一种上盖开/闭装置，用于开/闭提供在FPD制造设备的真空室上的上盖，所述FPD制造设备对加载到所述真空室中的基板执行所需的处理，所述上盖开/闭装置包括独立于所述上盖的联接，所述联接被耦合到所述上盖以枢转地沿着抛物线轨道旋转所述上盖，以将其远离所述真空室打开或者关闭到所述真空室。2.如权利要求1所述的开/闭装置，其中所述联接包括板形基座；驱动轴，平行于所述基座的上表面而定位，同时在其两端由所述基座支持，以旋转预定的角度；驱动链接对，分别固定地耦合到所述驱动轴端，以与所述驱动轴一起旋转预定的角度；跟随器链接对，在相对于所述真空室的所述驱动链接侧平行于所述驱动链接而设置，以旋转与所述驱动链接相同的角度；连接链接对，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李荣钟，崔浚泳，曺生贤，安贤焕，孙石民，安成一，
申请(专利权)人：爱德牌工程有限公司，
类型：发明
国别省市：KR