蚀刻液收集装置制造方法及图纸

技术编号:31780228 阅读:18 留言:0更新日期:2022-01-08 10:29
本实用新型专利技术公开了一种蚀刻液收集装置,包括:基片旋转机构、腔体、升降机构、分液口,腔体包括若干个废液收集腔,装置还包括废液回收环,废液回收环和腔体环绕于所述基片旋转机构布置,分液回收环在靠近基片旋转机构的一侧设有若干个分液口,各分液口沿垂直于基片旋转机构的方向依次布置、并分别在废液回收环内延伸并形成与废液收集腔数量相匹配的分液通道,废液收集腔容纳对应的所述分液通道,升降机构驱动废液回收环在废液收集腔内沿垂直于基片旋转机构的方向作升降运动。本设计将基片旋转机构,腔体与升降废液回收环分离,既解决了升降分层排放废液的问题又解决了由于升降造成的管线成本寿命问题。管线成本寿命问题。管线成本寿命问题。

【技术实现步骤摘要】
蚀刻液收集装置


[0001]本技术属于废液资源化处理领域,尤其涉及一种蚀刻液收集装置。

技术介绍

[0002]在单片清洗、腐蚀、电镀工艺过程中,旋转的基片由于离心力,表面的清洗介质会被甩出成为废液,这些废液会包含有若干种化学品和废水,必须要进行筛分后才能进行排放。
[0003]传统的分液设计通常是使得基片旋转机构在一边甩废液的同时一边升降运动,或者是使得工艺腔体作升降运动,使得形成在腔体上的多个分液口分别与基片旋转机构上的基片保持位置匹配,但是腔体和基片旋转机构这两个装置都有很多管线与外部供应部分连接,比如伺服驱动的电缆,进水,进酸,排水,排酸,排气管路,通过设置升降机构使其中的任何一个装置作升降运动,由于管路和线路都必须是绕性的,因此都存在结构布置复杂,结构设置成本高,使用耐久和寿命短等缺点。

技术实现思路

[0004]本技术要解决的技术问题是为了克服现有技术中使基片分液收集的结构设置方案,存在成本高且使用寿命短的缺陷,提供一种多层蚀刻液收集装置。
[0005]本技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题:
[0006]一种蚀刻液收集装置,包括:基片旋转机构、腔体、升降机构、分液口,所述腔体包括若干个废液收集腔,所述装置还包括废液回收环,所述分液回收环和所述腔体环绕于所述基片旋转机构布置,所述分液回收环靠近所述基片旋转机构的一侧设有若干个所述分液口,各所述分液口沿垂直于所述基片旋转机构的方向依次不知、并分别在所述废液回收环内延伸并形成与所述废液收集腔数量相匹配的分液通道,所述废液收集腔容纳对应的所述分液通道,所述升降机构驱动所述废液回收环在所述废液收集腔内沿垂直于所述基片旋转机构的方向作升降运动。
[0007]本技术方案中,相较于现有技术而言,基片旋转机构和腔体都不需要作升降运动,基片旋转机构和腔体是固定不动的,是在基片旋转机构和工艺腔体中间增加了一个多层的废液回收环,额外增加了废液回收环使得升降机构能够驱动其在所述腔体内作升降运动,避免了现有技术中管路排布、内部元件设置复杂,影响装置使用寿命并且成本高的问题;利用升降机构的驱动,使得若干个分液通道将废液引入腔体中与其对应废液收集腔中,能够实现精准的废液收集。
[0008]较佳地,所述分液通道和所述废液收集腔呈同心布置。
[0009]本技术方案中,分液通道和废液收集腔呈同心布置是为了防止分液通道与废液收集腔在装置运行的过程中壁面与壁面之间产生碰撞,损坏装置。
[0010]较佳地,所述分液通道包括第一分液通道、第二分液通道、第三分液通道;所述废液收集腔包括第一废液收集腔、第二废液收集腔、第三废液收集腔,所述第一分液通道与所
述第一废液收集腔连通,所述第二分液通道与所述第二废液收集腔连通,所述第三分液通道与所述第三废液收集腔连通。
[0011]本技术方案中,分液通道和废液收集腔的数量均为三种,可以收集三种不同类型的废液,可以预先定义第一废液收集腔、第二废液收集腔、第三废液收集腔收集的废液类型,比如,第一废液收集腔收集酸性化学品,第二废液收集腔收集碱性化学品、第三废液收集腔收集废水。通过升降机构的驱动带动废液回收环作升降运动,并将相应的废液类型的分液口对准基片旋转机构的平面,使得不同类型的废液可以对应不同高度的分液口,并通过该废液回收环引导甩出的废液进入到工艺腔体内的不同收集区域内,以实现分类收集的功能。
[0012]较佳地,所述分液通道和所述废液收集腔均呈阶梯式布置。
[0013]本技术方案中,分液通道和废液收集腔呈阶梯式布置也就是说每个分液通道和废液收集腔之间存在高度差,是为了使得不同的清洗介质能够通过升降机构对废液回收环的驱动能够精准的进入到与其对应的废液收集腔,避免混入其他腔体中。
[0014]较佳地,所述废液回收环的轴线与所述基片旋转结构和所述腔体的轴线相重合。
[0015]本技术方案中,废液回收环和基片旋转机构和腔体之间共轴,防止废液回收环与腔体和基片旋转机构在装置运行的过程中壁面与壁面之间产生碰撞,损坏装置。
[0016]较佳地,所述蚀刻液装置还包括排风装置,所述排风装置设置在所述腔体的一侧,所述排风装置的入风口与所述腔体连通。
[0017]本技术方案中,在基片清洗的时需要使用各种清洗介质,旋转的基片由于离心力,表面的清洗介质会被甩出成为废液,废液会包含有若干种化学品和废水,这些废液在废液收集腔内会具有浓重的气味,排风装置是为了使这些气味快速散发。
[0018]较佳地,所述排风装置设置在所述腔体一侧的底部。
[0019]本技术方案中,由于大量的废液在收集在废液收集腔的底部,整个装置的底部区域相较于上部区域比较脏,且废液长时间停留在废液收集腔中可能形成硫酸结晶等杂质,排风装置从底部抽风也是为了使得这些杂质从装置排出。
[0020]较佳地,所述升降机构设置在所述腔体的一侧,所述升降机构与所述分液通道驱动连接。
[0021]较佳地,所述分液口倾斜于所述基片旋转机构,所述分液口的一端能够贴合于所述基片旋转机构的平面。
[0022]本技术方案中,分液口相对于基片旋转机构是倾斜的,能够使得废液在甩出时能够顺延倾斜的分液口精准地流进相对应的分液通道防止废液溅出装置,分液口的顶端与基片旋转机构接触使得废液在分离使不会流进其他分液通道。
[0023]较佳地,所述蚀刻液收集装置还包括喷液装置,所述喷液装置设置在所述基片旋转机构的正上方。
[0024]本技术方案中,喷液装置设置在基片旋转机构的正上方有利于清洗介质均匀地喷洒在基片表面。
[0025]本技术的积极进步效果在于:相较于现有技术而言,基片旋转机构和腔体都不需要作升降运动,基片旋转机构和腔体是固定不动的,是在基片旋转机构和工艺腔体中间增加了一个多层的废液回收环,额外增加了废液回收环使得升降机构能够驱动其在腔体
内作升降运动,避免了现有技术中管路排布、内部元件设置复杂,影响装置使用寿命并且成本高的问题;利用升降机构的驱动,使得若干个分液通道将废液引入腔体中与其对应废液收集腔中,能够实现精准的废液收集。
附图说明
[0026]图1为本技术一实施例的蚀刻液收集装置结构示意图;
[0027]图2为本技术一实施例的蚀刻液收集装置第一分液通道工作示意图;
[0028]图3为本技术一实施例的蚀刻液收集装置第二分液通道工作示意图;
[0029]图4为本技术一实施例的蚀刻液收集装置第三分液通道工作示意图。
[0030]附图标记说明:
[0031]基片旋转机构1
[0032]腔体2
[0033]第一废液收集腔21
[0034]第二废液收集腔22
[0035]第三废液收集腔23
[0036]废液回收环3
[0037]第一分液通道31
[0038]第二分液通道32
[0039]第三分液通道33
[0040]排风装置本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻液收集装置,包括:基片旋转机构、腔体、升降机构、分液口,所述腔体包括若干个废液收集腔,其特征在于,所述装置还包括废液回收环,所述废液回收环和所述腔体环绕于所述基片旋转机构布置,所述分液回收环在靠近所述基片旋转机构的一侧设有若干个所述分液口,各所述分液口沿垂直于所述基片旋转机构的方向依次布置、并分别在所述废液回收环内延伸并形成与所述废液收集腔数量相匹配的分液通道,所述废液收集腔容纳对应的所述分液通道,所述升降机构驱动所述废液回收环在所述废液收集腔内沿垂直于所述基片旋转机构的方向作升降运动。2.如权利要求1所述的蚀刻液收集装置,其特征在于,所述分液通道和所述废液收集腔呈同心布置。3.如权利要求2所述的蚀刻液收集装置,其特征在于,所述分液通道包括第一分液通道、第二分液通道、第三分液通道;所述废液收集腔包括第一废液收集腔、第二废液收集腔、第三废液收集腔,所述第一分液通道与所述第一废液收集腔连通,所述第二分液通道与所述第二废液收集腔连通,所述第三分液通道与...

【专利技术属性】
技术研发人员:史蒂文
申请(专利权)人:硅密芯镀海宁半导体技术有限公司
类型:新型
国别省市:

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