带拒水拒油层的基材制造技术

本发明专利技术提供具有指纹去除性优异的拒水拒油层的带拒水拒油层的基材。本发明专利技术的带拒水拒油层的基材具有基材和配置于基材的主表面的拒水拒油层，所述拒水拒油层包含含氟化合物的缩合物，通过规定的方法算出的拒水拒油层的氟剩余量为2以上。剩余量为2以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带拒水拒油层的基材


[0001]本专利技术涉及带拒水拒油层的基材。

技术介绍

[0002]含氟化合物显示高的润滑性、拒水拒油性等，因此适合用于表面处理剂。若通过表面处理剂对基材的表面赋予拒水拒油性，则变得容易擦拭基材的表面的污迹，污迹的去除性提高。上述含氟化合物中，具有在氟亚烷基链中存在醚键(
‑
O
‑
)的聚(氧氟亚烷基)链的含氟醚化合物为柔软性优异的化合物，特别是油脂等污迹的去除性优异。
[0003]例如，专利文献1中公开了：使用具有聚(氧氟亚烷基)链的含氟醚化合物而形成拒水拒油层后，为了将基材上剩余附着的含氟化合物、以其为来源的成分去除，利用有机溶剂擦拭拒水拒油层。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2018
‑
193548号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]近年，对使用含氟化合物形成的拒水拒油层的要求性能逐渐变高，例如，将拒水拒油层应用于构成用手指触摸的面的构件的情况下，要求能够通过擦拭将附着于表面的指纹容易地去除的性能(指纹去除性)优异的拒水拒油层。
[0009]本专利技术人等对专利文献1中记载的拒水拒油层进行了评价，结果发现指纹去除性有改良的余地。
[0010]因此，本专利技术的课题在于，提供具有指纹去除性优异的拒水拒油层的带拒水拒油层的基材。
[0011]用于解决问题的方案
[0012]本专利技术人等对上述课题进行了深入研究，结果发现：带拒水拒油层的基材中使用通过规定的方法算出的氟剩余量为2以上的拒水拒油层时，拒水拒油层的指纹去除性优异，从而完成了本专利技术，所述带拒水拒油层的基材具有基材和配置于基材的主表面的拒水拒油层，所述拒水拒油层包含含氟化合物的缩合物。
[0013]即，专利技术人等发现通过以下的构成能够解决上述课题。
[0014][1]一种带拒水拒油层的基材，其特征在于，具有基材和配置于前述基材的主表面的拒水拒油层，所述拒水拒油层包含含氟化合物的缩合物，通过下述方法算出的前述拒水拒油层的氟剩余量为2以上。
[0015](氟剩余量的算出方法)
[0016]根据使用荧光X射线分析装置(理学公司制、ZSX100e)在下述条件下测得的前述带拒水拒油层的基材的前述拒水拒油层中的氟原子强度F1、以及利用Kimwipes(注册商标)对
前述带拒水拒油层的基材的前述拒水拒油层的表面擦拭100次后的前述带拒水拒油层的基材的前述拒水拒油层中的氟原子强度F2，通过下式(I)算出氟剩余量，所述Kimwipes(注册商标)利用ASAHIKLIN(注册商标)AE
‑
3000(AGC株式会社制)进行了湿润。
[0017]氟剩余量＝(F1
‑
F2)/F2
×
100(I)
[0018]所述条件为：测定直径：30mm、测定射线：F
‑
Kα、滤波器：OUT、狭缝：标准、分光晶体：RX35(理学公司制)、检测器：PC、PHA：100
‑
300、峰角度：38.794deg.(20sec)、B.G.角度：43.000deg.(10sec)。
[0019][2]根据[1]所述的带拒水拒油层的基材，其中，前述氟剩余量为5以上。
[0020][3]根据[1]或[2]所述的带拒水拒油层的基材，其中，前述氟剩余量为400以下。
[0021][4]根据[1]或[2]所述的带拒水拒油层的基材，其中，前述氟剩余量为200以下。
[0022][5]根据[1]～[4]中任一项所述的带拒水拒油层的基材，其中，前述含氟化合物具有聚(氧氟亚烷基)链和反应性甲硅烷基。
[0023][6]根据[5]所述的带拒水拒油层的基材，其中，前述含氟化合物具有2个以上反应性甲硅烷基。
[0024][7]根据[6]所述的带拒水拒油层的基材，其中，前述含氟化合物在前述聚(氧氟亚烷基)链的两末端侧具有前述反应性甲硅烷基。
[0025][8]根据[7]所述的带拒水拒油层的基材，其中，前述反应性甲硅烷基位于前述聚(氧氟亚烷基)链的两末端侧的前述化合物为式(3
‑
2)所示的化合物。
[0026][L3‑
n
(R)
n
Si
‑
]k2
Y
12
‑
(OX)
m
‑
Y
11
[
‑
Si(R)
n
L3‑
n
]g2
(3
‑
2)
[0027]其中，式(3
‑
2)中，
[0028]X为具有1个以上氟原子的氟亚烷基，
[0029]m为2以上的整数，
[0030]Y
11
为(g2+1)价的连接基团，
[0031]Y
12
为(k2+1)价的连接基团，
[0032]R为1价的烃基，
[0033]L为水解性基团或羟基，
[0034]n为0～2的整数，
[0035]g2为1以上的整数，
[0036]k2为1以上的整数。
[0037][9]根据[6]所述的带拒水拒油层的基材，其中，前述含氟化合物在前述聚(氧氟亚烷基)链的单末端侧具有2个以上前述反应性甲硅烷基。
[0038][10]根据[1]～[9]中任一项所述的带拒水拒油层的基材，其中，前述含氟化合物的数均分子量(Mn)为1,000～20,000。
[0039][11]根据[5]所述的带拒水拒油层的基材，其中，前述含氟化合物的缩合物为混合物的缩合物，所述混合物包含在聚(氧氟亚烷基)链的两末端侧具有反应性甲硅烷基的化合物和仅在聚(氧氟亚烷基)链的单末端侧具有反应性甲硅烷基的含氟化合物。
[0040][12]根据[11]所述的带拒水拒油层的基材，其中，仅在前述聚(氧氟亚烷基)链的单末端侧具有反应性甲硅烷基的含氟化合物为具有2个以上反应性甲硅烷基的含氟化合物。
[0041]专利技术的效果
[0042]根据本专利技术，可以提供具有指纹去除性优异的拒水拒油层的带拒水拒油层的基材。
具体实施方式
[0043]本说明书中，将式(1)所示的重复单元记为单元(1)。其它式所示的重复单元也同样地记载。将式(2)所示的基团记为基团(2)。其它式所示的基团也同样地记载。将式(3)所示的化合物记为化合物(3)。其它式所示的化合物也同样地记载。
[0044]本说明书中，在“亚烷基任选具有A基”这一情况，亚烷基可以在亚烷基中的碳
‑
碳原子间具有A基，也可以如亚烷基
‑
A基
‑
那样在末端具有A基。
[0045]本专利技术中的术语的含义如下。
[0046]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种带拒水拒油层的基材，其特征在于，具有基材和配置于所述基材的主表面的拒水拒油层，所述拒水拒油层包含含氟化合物的缩合物，通过下述方法算出的所述拒水拒油层的氟剩余量为2以上，氟剩余量的算出方法：根据使用理学公司制的荧光X射线分析装置ZSX100e在下述条件下测得的所述带拒水拒油层的基材的所述拒水拒油层中的氟原子强度F1、以及利用注册商标Kimwipes对所述带拒水拒油层的基材的所述拒水拒油层的表面擦拭100次后的所述带拒水拒油层的基材的所述拒水拒油层中的氟原子强度F2，通过下式(I)算出氟剩余量，所述Kimwipes利用AGC公司制的注册商标ASAHIKLIN AE
‑
3000进行了湿润，氟剩余量＝(F1
‑
F2)/F2
×
100
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(I)所述条件为：测定直径：30mm、测定射线：F
‑
Kα、滤波器：OUT、狭缝：标准、分光晶体：理学公司制的RX35、检测器：PC、PHA：100
‑
300、峰角度：20sec下为38.794deg.、B.G.角度：10sec下为43.000deg.。2.根据权利要求1所述的带拒水拒油层的基材，其中，所述氟剩余量为5以上。3.根据权利要求1或2所述的带拒水拒油层的基材，其中，所述氟剩余量为400以下。4.根据权利要求1或2所述的带拒水拒油层的基材，其中，所述氟剩余量为200以下。5.根据权利要求1～4中任一项所述的带拒水拒油层的基材，其中，所述含氟化合物具有聚(氧氟亚烷基)链和反应性甲硅烷基。6.根据权利要求5所述的带拒水拒油层的基材，其中，所述含氟化合物具有2个以上反应性甲硅烷基。7.根据权利要求6所述的带拒水拒油层的基材，其中，所述含氟化合物在所述聚(氧氟亚烷基)链的两末端侧具有所述反应性甲硅烷基。8.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：富依勇佑，远田丰和，石关健二，
申请(专利权)人：AGC株式会社，
类型：发明
国别省市：