在一个实施方式中，公开了一种用于产生用于多成像单元DLT的预测模型的方法。定位DLT的平台，以使基板上的一组对准记号位于一组DLT的眼下方。针对此组对准记号中的每个对准记号，在第一时间使用耦接至该对准记号上方的眼的照相机获得第一图像，以及从第一图像中在照相机的FOV内获得对准记号的第一位置，以确定第一测量位置。在随后时间获得对准记号的一个或多个额外图像，并确定一个或多个对应的随后测量位置。分别计算测量位置的连续测量位置之间的差异，产生用于校正此组眼的眼中心偏移的预测模型，以及数字地应用校正。以及数字地应用校正。以及数字地应用校正。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基于学习的数字校正以补偿具有多成像单元的光刻系统的变化
[0001]本公开内容的实施方式总体上涉及无掩模光刻技术(maskless lithography)，并且更具体地涉及基于学习的数字校正以补偿多成像单元数字光刻工具(digital lithography tools,DLTs)中的成像单元位置的变化。
技术介绍
[0002]微光刻技术(microlithography techniques)通常用于在基板上产生电学特征。光敏光刻胶(light
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sensitive photoresist)通常施加至基板的至少一个表面上。在无掩模光刻(maskless photolithography)中，图案产生器将光敏光刻胶的选定区域曝光成图案的一部分。光导致选定区域中的光敏光刻胶发生化学变化，以制备这些选定区域来用于随后的材料去除和/或材料添加工艺以产生电学特征。电学特征在基板上的精确放置确定了电互连(electrical interconnections)的质量。
[0003]在多成像单元DLT中，成像单元(又称为“眼”(eyes))用于向基板赋予图案，其中每个眼在基板的一个区域上进行印刷。成像单元保持固定，而例如平台在其下方移动。成像单元可组装在单一横杆(又称为“桥接器”(bridge))上，或例如组装在多个桥接器上。每个眼印刷到特定印刷区域。通过一次从所有眼印刷，在基板的每个印刷区域中产生不同(或相同，如果需要的话)的图案。为了确保每个眼仅在其印刷区域内进行印刷，这些成像单元需要放置在一起以作为单一单元，其中桥接器上的这些眼之间具有恒定距离，并且对于多桥接器系统而言，这些桥接器沿着它们各自的长度在这些桥接器之间具有恒定距离。这些限制通常在机械和热方面都具有挑战性，因此，由于眼或桥接器相对于平台坐标系的位置偏移，成像单元可能从其标准位置偏移。由于例如热效应引起的位置测量系统(例如编码器)上的偏移，这种偏移也可能是有效的偏移。
[0004]用于这样的多成像单元系统的监控数据已示出在桥接器上的眼的位置随着时间而变化，这可能是由于热效应和/或机械地偏移部件引起的。因此，在本领域中需要补偿这种成像单元的偏移。
技术实现思路
[0005]本公开内容的实施方式大致涉及在包括多成像单元的扫描DLT之前进行的针对成像单元(眼)偏移的数字补偿或校正。
[0006]在一个实施方式中，公开了一种用于产生预测模型的方法。定位多成像单元数字光刻工具(DLT)的平台，以使设置在基板上的组对准记号位于DLT的一组眼的下方，基板耦接至平台。针对此组对准记号中的每个对准记号，在第一时间使用照相机获得第一图像，照相机耦接至该对准记号上方的眼，以及从第一图像获得照相机的FOV内的对准记号的第一位置，以确定第一测量位置。在多个随后时间时获得对准记号的一个或多个额外图像，并确定一个或多个对应的随后测量位置。分别计算后测量位置的连续测量位置之间的多个差
异。至少部分地基于针对此组对准记号所计算出的差异，产生预测模型以校正此组眼的眼中心偏移。
[0007]在另一实施方式中，在DLT的每次扫描开始之前，使用预测模型将数字校正应用于要在扫描中印刷的图案。
[0008]在另一实施方式中，公开了一种用于针对多成像单元DLT的一组多成像单元来产生模型的方法。定位基板，以使基板的一组对准记号位于多成像单元DLT的一组眼的下方。针对此组对准记号中的每个对准记号，使用照相机获得对准记号的图像，照相机耦接至该对准记号上方的眼，获得照相机的视场(FOV)内的对准记号的位置，并确定其测量位置，及计算其测量位置与其标准位置之间的差异。至少部分地基于这些差异，产生最佳化对准模型以将对准记号的标准位置转换成它们的测量位置。
[0009]在另一实施方式中，一种系统包括处理器和存储器。存储器包括配置成执行操作的应用程序，操作用于基于历史数据输出针对多成像单元DLT的眼的眼中心变化的预测。操作包括获得针对最近N个印刷板的眼的历史眼中心变化数据，将历史眼中心变化数据输入至用于DLT的预测模型中，接收作为模型的输出的用于眼的校正预测，以及将用于眼的校正预测应用于DLT中的当前正在印刷的板中的眼的印刷区域。
附图说明
[0010]为了可详细地理解本公开内容的上述特征，可通过参考实施方式来获得上文所简要概述的本公开内容的更详细的描述，其中一些实施方式在附图中示出。然而，应注意的是，附图仅示出示例性实施方式，因此不应被认为是对其范围的限制，并可允许其他等效实施方式。
[0011]图1绘示根据本文公开的实施方式的具有多成像单元的示例性DLT。
[0012]图2绘示根据本文公开的实施方式的印刷运行的开始时的图1的示例性DLT。
[0013]图3绘示眼偏移和桥接器偏移对图1和图2的示例性DLT的影响。
[0014]图4绘示根据本文公开的实施方式的示例性多成像单元DLT，其中每个印刷区域使用四个对准记号。
[0015]图5绘示根据本文公开的实施方式的具有九(9)个眼的示例性DLT。
[0016]图6绘示根据本文公开的实施方式的一组示例性模型训练数据和示例性滑动预测窗口，其用于基于历史数据来预测多成像单元DLT的眼的眼中心变化。
[0017]图7绘示根据本文公开的实施方式的针对图5中所标记的两个示例性眼的实际和预测的眼中心变化的图。
[0018]图8绘示根据本文公开的实施方式的用于第一层印刷的示例性基于机器学习的校正的对准记号的放置。
[0019]图9绘示根据本文公开的实施方式的一实施方式，其涉及产生全局对准模型的方法。
[0020]图10A绘示根据本文公开的实施方式的实施方式，其涉及收集全局对准模型残差数据并训练模型以预测当前印刷板的眼印刷区域的校正的方法。
[0021]图10B绘示根据本文公开的实施方式的实施方式，其涉及下述方法：从由DLT印刷的最后K个板输入历史残余对准数据，获得用于DLT的眼的校正预测，并且在印刷当前板时
应用此校正预测。
[0022]图11绘示根据本文公开的实施方式的实施方式，其涉及机器学习和预测系统的高级方块图，用以产生和应用用于校正多成像单元DLT中的眼中心移动的模型。
[0023]为了便于理解，在可能的情况下使用了相同的附图标记来表示附图共有的相同元素。可以预期的是，一个实施方式的元素和特征可以有益地并入到其他实施方式中，而无需进一步赘述。
具体实施方式
[0024]在以下描述中，许多具体细节被阐述以提供对本公开内容的更透彻的理解。然而，对于本领域技术人员显而易见的是，在不脱离本材料的范围的情况下，可使用不同配置以实现各种改变。在其他情况下，没有叙述已知的特征，以避免模糊此材料的重点。因此，本公开内容不限于说明书中所示的特定示例性实施方式，以及随附权利要求书的范围旨在包括所有这样的替代实施方式。
[0025]图1绘示示例性多成像单元DLT 100中的数字对准。系统100具有多成像本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种方法，包括：定位多成像单元数字光刻工具(DLT)的平台，以使设置在基板上的一组对准记号位于所述DLT的一组眼的下方，所述基板耦接至所述平台；针对所述一组对准记号中的每个对准记号：在第一时间使用照相机获得第一图像，所述照相机耦接至所述准对记号上方的所述眼；从所述第一图像获得所述照相机的FOV内的所述对准记号的第一位置，以确定第一测量位置；在多个随后时间获得所述对准记号的一个或多个额外图像，并确定一个或多个对应的随后测量位置；及分别地计算所述测量位置中的接续测量位置之间的多个差异；以及，至少部分地基于针对所述一组对准记号所计算出的所述差异，产生预测模型以校正所述一组眼的眼中心偏移。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述一组眼中的每个眼界定所述基板的印刷区域，其中一个或多个对准记号设置在每个印刷区域中。3.根据权利要求2所述的方法，其中两个或四个对准记号设置在每个印刷区域。4.根据权利要求1所述的方法，其中使用图像处理来获得所述对准记号在所述照相机的FOV内的所述位置，并且其中所述照相机的视场内的所述测量位置和所述随后测量位置的各者以所述平台的坐标系来表示。5.根据权利要求1所述的方法，其中所述多成像单元DLT包括至少一个桥接器，每个桥接器包括两个或更多个眼。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述一组眼包括所述多成像单元DLT的所有眼，并且所述方法还包括：在执行所述基板的扫描之前，基于所述预测模型将对所述扫描中的待印刷的一组图案应用数字校正。7.根据权利要求1所述的方法，还包括：产生全局线性对准模型(global linear alignment model)以在所述基板的一次扫描与下一次扫描之间进行校正，并还包括：基于每个眼相对于所述全局线性对准模型的残差数据来产生所述预测模型。8.根据权利要求7所述的方法，其中所述预测模型是所述DLT的先前N次扫描的眼中心残差数据的移动平均值(moving average)，所述预测模型是所述先前N次扫描的所述眼中心残留数据的加权移动平均值(weighted moving average)，其中对来自较近的扫描的数据进行更重的加权，或上述的组合...
【专利技术属性】
技术研发人员：塔纳，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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