一种提高镀膜均匀性的镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，包括加工箱体，所述加工箱体内设置有蒸发组件，围绕所述蒸发组件中心圆周布置有多个高度调节杆，所述高度调节杆上设置有面向所述蒸发组件中心的镜片组安装板，本实用新型专利技术解决了现有镀膜装置中存在的不足，通过本实用新型专利技术的结构设置，具备以下的优点，根据加工需求，在调节镜片离蒸发组件镀膜源之间距离时，能进一步的保证多个镜片距离镀膜蒸发源的长度接近，提高整体的镀膜均匀性，提高整体镜片镀膜的一致性，提高生产质量，且结构简单，使用方便。便。便。

【技术实现步骤摘要】
一种提高镀膜均匀性的镀膜装置


[0001]本技术涉及镀膜装置，特别涉及一种提高镀膜均匀性的镀膜装置。

技术介绍

[0002]真空镀膜机，主要是在真空环境下，通过真空离子蒸发的手段来将靶材表面组分以原子团或是离子的形式蒸发出来，随后通过技术手段将其沉降在镜片表面，从而通过成膜过程来形成薄膜，由于现有的镜片安装支架为弧形状，镜片安装孔布置在弧形状的镜片安装支架内，因此，在调节镜片安装支架上下高度位置时弧形圆心和蒸发组件中心将会发生偏移，导致处于不同位置的镜片安装支架表面的镜片安装孔距离蒸发组件中心的距离不一，因此在调节镜片距离蒸发组件中心的过程中会导致后续镜片镀膜不均匀的情况出现。
[0003]故此，现有的镀膜装置需要进一步改善。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了提供一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，能在调节多个镜片安装孔水平高度时，最大化的保证多个镜片距离蒸发组件中心长度接近，提高整体镀膜均匀性。
[0005]为了达到上述目的，本技术采用以下方案：
[0006]一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，包括加工箱体，所述加工箱体内设置有蒸发组件，围绕所述蒸发组件中心圆周布置有多个高度调节杆，所述高度调节杆上设置有面向所述蒸发组件中心的镜片组安装板。
[0007]进一步地，所述加工箱体包括箱本体，所述箱本体一侧设置有抽真空组件。
[0008]进一步地，所述高度调节杆包括一端连接于所述蒸发组件中心处另一端向外延伸的杆体，所述杆体表面沿所述杆体路径方向设置有直槽口，所述直槽口内活动设置有调节滑块，所述调节滑块和所述杆体之间设置有定位结构。
[0009]进一步地，所述定位结构包括设置于所述调节滑块侧壁的定位杆，沿所述杆体表面设置有多个定位孔，所述定位杆一端设置有用于插设于其中一个所述定位孔内的定位螺钉。
[0010]进一步地，所述镜片组安装板包括设置于所述调节滑块上的安装板本体，所述安装板本体下表面横向布置有多个朝向所述蒸发组件中心的镜片安装座。
[0011]进一步地，所述抽真空组件内设置有泵体。
[0012]进一步地，所述调节滑块两侧壁分别贴紧于所述直槽口对应的一侧壁活动。
[0013]综上所述，本技术相对于现有技术其有益效果是：
[0014]本技术解决了现有镀膜装置中存在的不足，通过本技术的结构设置，具备以下的优点，根据加工需求，在调节镜片离蒸发组件镀膜源之间距离时，能进一步的保证多个镜片距离镀膜蒸发源的长度接近，提高整体的镀膜均匀性，提高整体镜片镀膜的一致性，提高生产质量，且结构简单，使用方便。
附图说明
[0015]图1为本技术的结构示意图；
[0016]图2为本技术的立体图之一；
[0017]图3为本技术的立体图之二。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0019]请参阅图1
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3，本技术提供
[0020]一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，包括加工箱体1，所述加工箱体1内设置有蒸发组件2，围绕所述蒸发组件2中心圆周布置有多个高度调节杆3，所述高度调节杆3上设置有面向所述蒸发组件2中心的镜片组安装板4；
[0021]调节原理：
[0022]由于传统弧形镜片支架在调节水平高度时，多个镜片会跟随位置的调节离镀膜蒸发源之间的差距越来越大，导致镀膜效果并不一致，因此通过上述结构解决此问题；
[0023]多个高度调节杆3以所述蒸发组件2的中心为圆心，围绕此圆心圆周均布，每个高度调节杆3为独立设置；
[0024]高度调节杆3能实现对应的镜片组安装板4离镀膜蒸发源之间的距离调节，调节灵活，通过单独设置的高度调节杆3，使多个镜片组安装板4距离镀膜蒸发源的距离接近一直，提高整体镀膜的均匀性。
[0025]本技术所述加工箱体1包括箱本体101，所述箱本体101一侧设置有抽真空组件102。
[0026]本技术所述高度调节杆3包括一端连接于所述蒸发组件2中心处另一端向外延伸的杆体301，所述杆体301表面沿所述杆体301路径方向设置有直槽口302，所述直槽口302内活动设置有调节滑块303，所述调节滑块303和所述杆体301之间设置有定位结构304；
[0027]根据镀膜需求，自由调节调节滑块303的高度，调节滑块303能沿所述直槽口302路径滑动，实现高度位置的调节，通过所述定位结构304将所述调节滑块303锁死定位，此时镜片组安装板4完成位置的调节。
[0028]本技术所述定位结构304包括设置于所述调节滑块303侧壁的定位杆3041，沿所述杆体301表面设置有多个定位孔3042，所述定位杆3041一端设置有用于插设于其中一个所述定位孔3042内的定位螺钉3043。
[0029]本技术所述镜片组安装板4包括设置于所述调节滑块303上的安装板本体401，所述安装板本体401下表面横向布置有多个朝向所述蒸发组件2中心的镜片安装座402；
[0030]镜片安装座402用于安装需要镀膜的镜片。
[0031]本技术所述抽真空组件102内设置有泵体100。
[0032]本技术所述调节滑块303两侧壁分别贴紧于所述直槽口302对应的一侧壁活
动。
[0033]以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征以及本技术的优点，本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，包括加工箱体(1)，所述加工箱体(1)内设置有蒸发组件(2)，其特征在于：围绕所述蒸发组件(2)中心圆周布置有多个高度调节杆(3)，所述高度调节杆(3)上设置有面向所述蒸发组件(2)中心的镜片组安装板(4)。2.根据权利要求1所述的一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述加工箱体(1)包括箱本体(101)，所述箱本体(101)一侧设置有抽真空组件(102)。3.根据权利要求1所述的一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述高度调节杆(3)包括一端连接于所述蒸发组件(2)中心处另一端向外延伸的杆体(301)，所述杆体(301)表面沿所述杆体(301)路径方向设置有直槽口(302)，所述直槽口(302)内活动设置有调节滑块(303)，所述调节滑块(303)和所述杆体(301)之间设置有定位结构(304)。4.根据权利要求3所述的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：龙何军，
申请(专利权)人：中山众旺光学有限公司，
类型：新型
国别省市：