碳化硅舟的清洗方法技术

一种碳化硅舟的清洗方法，其特征在于：该清洗方法包括以下步骤；　ａ、清洁碳化硅舟表面；　ｂ、王水浸泡；　ｃ、氢氟酸浸泡；　ｄ、火焰抛光处理；　ｅ、热处理；　ｆ、表面处理。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
碳化硅舟是大规模集成电路在超高温加工过程中的承载器,在半 导体晶片的生产过程中具有很重要的作用。碳化硅舟具有在高温下使 用不变形、耐用的特点，但使用一段时间后需要进行清洗，否则会造 成碳化硅舟无法使用。由于碳化硅舟多以碳化硅为材质，这种材质由 于既硬又脆，加工难度很高，因此售价很高。目前对碳化硅舟的清洗 仅仅是用氢氟酸进行简单的浸泡，清洗效果很不理想，无法满足使用 需求，仍然有大量的碳化硅舟因无法清洗或清洗效果不理想而无法继 续使用，对企业造成较大的经济损失，增加了企业的生产成本。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种清洗效果较理想且成 本较低的。为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案如下碳化硅舟的清洗 方法。该清洗方法包括以下步骤；a、 清洁碳化硅舟表面；b、 王水浸泡；c、 氢氟酸浸泡；d、 火焰抛光处理；e、 热处理；f、表面处理。上述的中，步骤b所述的王水浸泡是将待清洗的碳化硅舟放入王水中浸泡1 2天，以清除碳化硅舟上残留的金 属杂质。前述的中，步骤c所述的氢氟酸浸泡是用质 量百分比浓度为25% 55%的氢氟酸对碳化硅舟进行浸泡，浸泡时间 为5 24小时。前述的中，步骤e的热处理是将碳化硅舟放 入温度为1000 12001C的退火炉中保温40 60分钟。前述的中，步骤f的表面处理是对碳化硅舟 的表面进行磨边处理或用抛光机打磨，并清洗。前述的中，步骤d的火焰抛光处理是用氢氧 火焰对碳化硅舟进行火焰喷射抛光处理。本专利技术的有益效果在本专利技术中，通过王水浸泡，可以清除碳化 硅舟上残留的金属杂质，如铁、锰、铜、钠、钾等；通过将碳化硅舟 放在退火炉中进行退火处理，可以促进碳化硅舟中杂质的析出，消除 应力，提高碳化硅舟的热稳定性。采用本专利技术的方法能使清洗后的碳 化硅舟在清洁度和色泽上与新的碳化硅舟相差无几，而且其使用效果 也与新的碳化硅舟一样，完全符合使用要求；对生产企业而言，与新 购买一个碳化硅舟所需的成本相比,采用本专利技术的方法进行清洗的成 本仅仅为1/10 1/30,清洗成本较低，大大降低了企业的生产成本。具体实施例方式下面结合实施例对本专利技术作进一步说明。实施例1。在清洗碳化硅舟时，按照下述步骤进行(一次氢氟 酸浸泡、 一次退火)a、 用洗洁精对碳化硅舟表面进行清洗，以清除碳化硅舟表面的 油脂和颗粒。b、 将待清洗的碳化硅舟放入王水中浸泡1 2天，以清除碳化硅 舟上残留的有害金属杂质如铁、锰、铜、钠、钾等；c、 用质量百分比浓度为25%的氢氟酸浸泡12小时，以清除碳化 硅舟表面析出的含硅的颗粒杂质；d、 按照常规工艺，用氢氧火焰对碳化硅舟进行火焰喷射抛光处 理，以进一步清除碳化硅舟表面析出的含硅颗粒杂质或有害金属杂质 如铁、锰、铜、钠、钾等；e、 将碳化硅舟放入温度为1200C的退火炉中，保温40分钟， 以促进杂质的析出，消除应力，提高碳化硅舟的热稳定性；f、 对碳化硅舟表面的污渍进行磨边和清洗处理；上述中，步骤c 步骤e可根据待清洗的碳化硅舟的具体情况重 复几次，直至碳化硅舟的表面色泽和清洁度达到使用要求。实施例2。在清洗碳化硅舟时，按照下述步骤进行(四次氢氟 酸浸泡、三次退火)a、 用洗洁精对碳化硅舟表面进行清洗，以清除碳化硅舟表面的 油脂和颗粒。b、 将待清洗的碳化硅舟放入王水中浸泡1 2天，以清除碳化硅 舟上残留的有害金属杂质，如铁、锰、铜、钠、钾等；c、 用质量百分比浓度为25%的氢氟酸浸泡12小时，以清除碳化 硅舟表面析出的含硅的颗粒杂质；(一次浸泡)d、 用氢氧火焰对碳化硅舟进行火焰喷射抛光处理，以进一步清 除碳化硅舟表面析出的含硅颗粒杂质或有害金属杂质如铁、锰、铜、 钠、钾等；e、 将碳化硅舟放入温度为12001C的退火炉中，保温40分钟(一 次退火)；f、 对碳化硅舟表面的污渍进行磨边和清洗处理；g、 用质量百分比浓度为25%的氢氟酸对碳化硅舟进行第二次浸 泡，浸泡时间为9小时(二次浸泡)；h、 再将碳化硅舟放入温度为12001C的退火炉中进行第二次退火 处理，保温时间为40分钟(二次退火)；i、 对碳化硅舟表面的污渍用抛光机打磨，并清洗；j、再用质量百分比浓度为25%的氢氟酸对碳化硅舟进行第三次 浸泡，浸泡时间为24小时(三次浸泡)；k、将碳化硅舟放入温度为12001C的退火炉中进行第三次退火处 理，保温时间为60分钟(三次退火)；1、对碳化硅舟表面的污渍进行磨边和清洗处理；m、再用质量百分比浓度为25%的氢氟酸对碳化硅舟进行第四次 浸泡，浸泡时间为7小时(四次浸泡)；n、用氢氧火焰再次对碳化硅舟进行火焰喷射抛光处理，以清除 碳化硅舟表面的含硅颗粒杂质或有害金属杂质如铁、锰、铜、钠、钾本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种碳化硅舟的清洗方法，其特征在于：该清洗方法包括以下步骤；　ａ、清洁碳化硅舟表面；　ｂ、王水浸泡；　ｃ、氢氟酸浸泡；　ｄ、火焰抛光处理；　ｅ、热处理；　ｆ、表面处理。

【技术特征摘要】
1、一种碳化硅舟的清洗方法，其特征在于该清洗方法包括以下步骤；a、清洁碳化硅舟表面；b、王水浸泡；c、氢氟酸浸泡；d、火焰抛光处理；e、热处理；f、表面处理。2、 根据权利要求1所述的碳化硅舟的清洗方法，其特征在于 步骤b中所述的王水浸泡是将待清洗的碳化硅舟放入王水中浸泡l 2天，以清除碳化硅舟上残留的金属杂质。3、 根据权利要求1所述的碳化硅舟的清洗方法，其特征在于步骤c中所述的氢氟酸浸泡是用质量百分比浓度为25% 55%的氢氟 酸对碳化...

【专利技术属性】
技术研发人员：张彩根，
申请(专利权)人：张彩根，
类型：发明
国别省市：33