窄带滤光片的制备方法和镀膜机技术

本公开提供了一种窄带滤光片的制备方法和镀膜机。窄带滤光片的制备方法包括：包括：模拟该窄带滤光片的第一光学曲线；镀制所述窄带滤光片后，检测所述窄带滤光片的第二光学曲线；检测所述第一光学曲线和所述第二光学曲线是否一致，如果不一致，则调整所述第一光学曲线至所述第一光学曲线的特征点与所述第二光学曲线一致时，确定工艺影响因子；根据该工艺影响因子调整所述镀制参数以重新镀制所述窄带滤光片。上述的窄带滤光片的制备方法和镀膜机调整第一光学曲线直至第一光学曲线和第二光学曲线一致来确定镀膜机的工艺影响因子，从而可以根据该工艺影响因子修正窄带滤光片的镀制参数的作用。镀制参数的作用。镀制参数的作用。

【技术实现步骤摘要】
窄带滤光片的制备方法和镀膜机


[0001]本公开属于镀膜领域，尤其是一种窄带滤光片的制备方法和镀膜机。

技术介绍

[0002]本部分的陈述仅仅是提供了与本公开公开相关的
技术介绍
信息，不必然构成在先技术。
[0003]窄带滤光片可以在特定的波段允许光信号通过，而偏离这个波段以外的两侧光信号被阻止，窄带滤光片的通带相对来说比较窄，一般为中心波长值的5％以下，被广泛应用荧光分析仪，酶标仪，有线电视升级设备，无线传输设备，手机条码扫描，红外电子白板，红外摄像头等领域。
[0004]窄带滤光片在制备过程中需要镀制多个膜层。在镀膜工艺中，需要石英晶振膜厚监控方法监控窄带滤光片的各个膜层的厚度，由于监控方法的限制，对膜层厚度监控不准确，导致多层膜在沉积过程中膜厚控制不准确，导致窄带滤光片的光学指标难以达到要求。

技术实现思路

[0005]鉴于以上内容，有必要提供一种窄带滤光片的制备方法和镀膜机，用于修正窄带滤光片的镀制参数。
[0006]本申请首先提供了一种窄带滤光片的制备方法，包括：
[0007]获取第一光学曲线步骤：配置窄带滤光片的光学参数，根据所述光学参数所述模拟该窄带滤光片的第一光学曲线；
[0008]获取第二光学曲线步骤：配置所述窄带滤光片的镀制参数并镀制所述窄带滤光片，检测镀制的所述窄带滤光片的第二光学曲线；
[0009]确定工艺影响因子步骤：检测所述第一光学曲线和所述第二光学曲线是否一致，如果不一致，则调整所述第一光学曲线，直至所述第一光学曲线的特征点与所述第二光学曲线一致时，确定工艺影响因子；
[0010]参数调整步骤：根据该工艺影响因子调整所述镀制参数以重新镀制所述窄带滤光片。
[0011]优选地，在确定工艺影响因子步骤之前，还包括检测所述第一光学曲线的特征点；
[0012]获取第二光学曲线步骤还包括标记所述第二光学曲线的特征点；
[0013]确定工艺影响因子步骤还包括：所述第一光学曲线与所述第二光学曲线一致包括所述第一光学曲线的特征点和所述第二光学曲线的特征点一致。
[0014]优选地，所述特征点包括所述滤光片的通过率、截止波长、截止率中的一种或者多种。
[0015]优选地，在参数调整步骤之前，还包括：
[0016]在镀膜机中输入设计厚度后，使用镀膜机镀制一层膜层并测量该膜层的实际厚度；
[0017]根据所述实际厚度和设计厚度计算该镀膜机对应的工具影响因子；
[0018]根据该工艺影响因子调整所述镀制参数后，重新镀制所述窄带滤光片包括：
[0019]根据所述工艺影响因子和所述工具影响因子调整所述镀制参数后，重新镀制所述窄带滤光片。
[0020]优选地，根据所述实际镀制厚度和设计厚度计算该镀膜机对应的工具影响因子包括：
[0021]根据下式计算所述工具影响因子TF1：
[0022]TF1＝Ha1/Hd；
[0023]其中，Ha1为该膜层的实际镀制厚度，Hd为该膜层的设计厚度。
[0024]优选地，在参数调整步骤之后，还包括：重复获取第二光学曲线步骤、确定工艺影响因子步骤和参数调整步骤，直至在所述确定工艺影响因子步骤中检测镀制的所述窄带滤光片的第二光学曲线与所述第一光学曲线的特征点一致。
[0025]优选地，所述参数调整步骤包括：
[0026]所述镀制参数包括膜层的输入厚度，根据下式确定所述输入厚度Hi：
[0027]Hi＝Ha2/(TF1*TF2)；
[0028]其中，Ha2为上一次实际镀制的窄带滤光片的膜层厚度，TF2为工艺影响因子；
[0029]向镀膜机输入所述输入厚度Hi，重新镀制所述窄带滤光片。
[0030]优选地，所述确定工艺影响因子步骤包括：
[0031]将所述窄带滤光片的膜层分为一个或者多个膜堆，其中，每个膜堆包括一种或者多种材料镀制的膜层；
[0032]根据第一光学曲线在调整前的和调整后的光学参数的变化，从镀膜机的膜层设计软件中获取与该膜堆对应的工艺影响因子。
[0033]优选地，所述膜堆包括采用二氧化硅和三氧化二钛材料镀制至少之一镀制的膜层。
[0034]此外，本申请还提供了一种镀膜机，采用如上述的制备方法镀制窄带滤光片。
[0035]相较于现有技术，上述的窄带滤光片的制备方法和镀膜机通过模拟窄带滤光片的第一光学曲线，以及检测实际镀制的窄带滤光片的第二光学曲线，然后调整第一光学曲线直至第一光学曲线和第二光学曲线一致来确定镀膜机的工艺影响因子，从而可以根据该工艺影响因子修正窄带滤光片的镀制参数的作用，提高镀制的膜层质量，改善窄带滤光片的光学性能。
附图说明
[0036]为了更清楚地说明具体实施方式，下面将对实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0037]图1是窄带滤光片的结构示意图。
[0038]图2是窄带滤光片的制备方法的流程图。
[0039]如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本公开。
具体实施方式
[0040]为了能够更清楚地理解本公开的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本公开进行详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本公开，所描述的实施方式仅仅是本公开一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本公开中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本公开保护的范围。
[0041]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本公开的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本公开。
[0042]在各实施例中，为了便于描述而非限制本公开，本公开专利申请说明书以及权利要求书中使用的术语"连接"并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。"上"、"下"、"下方"、"左"、"右"等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。
[0043]本实施方式首先提供了一种镀膜机，可以用于制备窄带光学滤光片。镀膜机可以通过等离子放电、电弧放电或者电阻蒸发等方式，将膜材的分子和原子附着在基片10上，形成镀制的膜层。
[0044]图1是窄带滤光片的结构示意图。如图1所示，作为示例性的，以980nm的窄带滤光片为例，其设计膜层为82层，膜层材料为五氧化三钛(Ti3O5)和二氧化硅(SiO2)。在制备过程中，采用上述的镀膜机在基片10上镀制上述的82层膜层。因此，镀制前，需要在镀膜机的膜层设计软件中设置镀制参数，将拟镀制的82层膜层包含四个膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种窄带滤光片的制备方法，其特征在于，包括：获取第一光学曲线步骤：配置窄带滤光片的光学参数，根据所述光学参数所述模拟该窄带滤光片的第一光学曲线；获取第二光学曲线步骤：配置所述窄带滤光片的镀制参数并镀制所述窄带滤光片，检测镀制的所述窄带滤光片的第二光学曲线；确定工艺影响因子步骤：检测所述第一光学曲线和所述第二光学曲线是否一致，如果不一致，则调整所述第一光学曲线，直至所述第一光学曲线的特征点与所述第二光学曲线一致时，确定工艺影响因子；参数调整步骤：根据该工艺影响因子调整所述镀制参数以重新镀制所述窄带滤光片。2.如权利要求1所述的窄带滤光片的制备方法，其特征在于，在确定工艺影响因子步骤之前，还包括检测所述第一光学曲线的特征点；获取第二光学曲线步骤还包括标记所述第二光学曲线的特征点；确定工艺影响因子步骤还包括：所述第一光学曲线与所述第二光学曲线一致包括所述第一光学曲线的特征点和所述第二光学曲线的特征点一致。3.如权利要求2所述的窄带滤光片的制备方法，其特征在于，所述特征点包括所述滤光片的通过率、截止波长、截止率中的一种或者多种。4.如权利要求2所述的窄带滤光片的制备方法，其特征在于，在参数调整步骤之前，还包括：在镀膜机中输入设计厚度后，使用镀膜机镀制一层膜层并测量该膜层的实际厚度；根据所述实际厚度和设计厚度计算该镀膜机对应的工具影响因子；根据该工艺影响因子调整所述镀制参数后，重新镀制所述窄带滤光片包括：根据所述工艺影响因子和所述工具影响因子调整所述镀制参数后，重新镀制所述窄带滤光片。5.如权利要求4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：易洪波，冀鸣，邵立伟，庄晓科，黄毅，黄德皇，
申请(专利权)人：中山市北京理工大学研究院，
类型：发明
国别省市：