一种硅片清扫装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及硅片加工，尤其涉及一种硅片清扫装置。一种硅片清扫装置，包括传送带、清洁机构、吸尘机构；所述传送带包括多个传送辊和传送皮带；所述清洁机构包括主动辊、从动辊、滚动刷和固定刷，所述主动辊与从动辊平行，所述滚动刷为环状带，所述主动辊和从动辊分别位于滚动刷的两端，所述滚动刷位于传送皮带的上方，所述滚动刷与传送皮带平行，所述固定刷与滚动刷的下游端接触。本实用新型专利技术的有益效果是：有效清理硅片表面的杂质。有效清理硅片表面的杂质。有效清理硅片表面的杂质。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片清扫装置


[0001]本技术涉及硅片加工，尤其涉及一种硅片清扫装置。

技术介绍

[0002]在半导体生产加工中，需要对硅片表面的细小杂质进行清扫。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足，提供一种硅片清扫装置。
[0004]本技术是通过以下技术方案予以实现：
[0005]一种硅片清扫装置，包括传送带、清洁机构、吸尘机构；
[0006]所述传送带包括多个传送辊和传送皮带；
[0007]所述清洁机构包括主动辊、从动辊、滚动刷和固定刷，所述主动辊与从动辊平行，所述滚动刷为环状带，所述主动辊和从动辊分别位于滚动刷的两端，所述滚动刷位于传送皮带的上方，所述滚动刷与传送皮带平行，所述固定刷与滚动刷的下游端接触；
[0008]所述吸尘机构包括风机、吸尘口、吸尘通道和集尘盒，所述吸尘口位于固定刷与滚动刷相接处，所述吸尘通道包括竖直通道和水平通道，所述竖直通道的上端连通吸尘口，所述竖直通道的下端连通集尘盒，所述水平通道的一端连通竖直通道，所述水平通道的另一端连通风机的进风口，所述竖直通道和水平通道相接处设有导板，导板向下方的集尘盒倾斜。
[0009]根据上述技术方案，优选地，所述传送带包括直线传送带和拐弯传送带，两段所述直线传送带之间通过拐弯传送带连接。
[0010]根据上述技术方案，优选地，所述传送带设有夹紧凸块。
[0011]本技术的有益效果是：有效清理硅片表面的杂质。硅片放置在传送皮带上，传动辊带动传送皮带移动，硅片随着传动皮带移动。硅片的上表面与滚动刷接触，主动辊带动滚动刷转动，滚动刷与传送皮带的滚动方向相反，滚动刷将硅片上的杂质擦除。滚动刷的下游与固定刷接触，将粘附在滚动刷上的杂质分离。风机启动，将吸尘通道内的空气抽出，使吸尘通道内部的气压降低，吸尘口将滚动刷擦除的杂质吸入，吸入的杂质被导板阻挡，落入集尘盒中。
附图说明
[0012]图1示出了本技术的实施例的主视结构示意图。
[0013]图2示出了本技术的实施例的传送带俯视结构示意图。
[0014]图3示出了本技术的实施例的夹紧凸块结构示意图。
[0015]图中：1.传送辊，2.传送皮带，3.主动辊，4.从动辊，5.滚动刷，6.固定刷，7.风机，8.吸尘口，9.集尘盒，10.竖直通道，11.水平通道，12.导板，13.直线传送带，14.拐弯传送
带，15.夹紧凸块。
具体实施方式
[0016]为了使本
的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图和最佳实施例对本技术作进一步的详细说明。
[0017]如图所示，本技术一种硅片清扫装置，包括传送带、清洁机构、吸尘机构；
[0018]传送带包括多个传送辊1和传送皮带2；
[0019]清洁机构包括主动辊3、从动辊4、滚动刷5和固定刷6，主动辊与从动辊平行，滚动刷为环状带，主动辊和从动辊分别位于滚动刷的两端，滚动刷位于传送皮带的上方，滚动刷与传送皮带平行，固定刷与滚动刷的下游端接触；
[0020]吸尘机构包括风机7、吸尘口8、吸尘通道和集尘盒9，吸尘口位于固定刷与滚动刷相接处，吸尘通道包括竖直通道10和水平通道11，竖直通道的上端连通吸尘口，竖直通道的下端连通集尘盒，水平通道的一端连通竖直通道，水平通道的另一端连通风机的进风口，竖直通道和水平通道相接处设有导板12，导板向下方的集尘盒倾斜。
[0021]根据上述实施例，优选地，传送带包括直线传送带13和拐弯传送带14，两段直线传送带之间通过拐弯传送带连接。
[0022]根据上述实施例，优选地，传送带设有夹紧凸块15。
[0023]本实施例的工作原理为：硅片放置在传送皮带上，传动辊带动传送皮带移动，硅片随着传动皮带移动。硅片的上表面与滚动刷接触，主动辊带动滚动刷转动，滚动刷与传送皮带的滚动方向相反，滚动刷将硅片上的杂质擦除。滚动刷的下游与固定刷接触，将粘附在滚动刷上的杂质分离。风机启动，将吸尘通道内的空气抽出，使吸尘通道内部的气压降低，吸尘口将滚动刷擦除的杂质吸入，吸入的杂质被导板阻挡，落入集尘盒中。
[0024]本技术的有益效果是：有效清理硅片表面的杂质。
[0025]以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片清扫装置，其特征在于：包括传送带、清洁机构、吸尘机构；所述传送带包括多个传送辊和传送皮带；所述清洁机构包括主动辊、从动辊、滚动刷和固定刷，所述主动辊与从动辊平行，所述滚动刷为环状带，所述主动辊和从动辊分别位于滚动刷的两端，所述滚动刷位于传送皮带的上方，所述滚动刷与传送皮带平行，所述固定刷与滚动刷的下游端接触；所述吸尘机构包括风机、吸尘口、吸尘通道和集尘盒，所述吸尘口位于固定刷与滚动刷相接处，所述吸尘通道包括竖直通道和...

【专利技术属性】
技术研发人员：高如山，
申请(专利权)人：天津西美科技有限公司，
类型：新型
国别省市：