釉下移印装饰的陶瓷色釉料、日用陶瓷器具及其制备方法技术

技术编号:31631341 阅读:43 留言:0更新日期:2021-12-29 19:10
本发明专利技术属于陶瓷材料技术领域,具体公开了一种日用陶瓷釉下移印装饰的陶瓷色釉料及其制备方法与应用。陶瓷色釉料包括移印胶、熔块和着色剂;移印胶中含有非离子表面活性剂;熔块的熔融温度范围为900

【技术实现步骤摘要】
釉下移印装饰的陶瓷色釉料、日用陶瓷器具及其制备方法


[0001]本专利技术属于陶瓷材料
,尤其涉及一种日用陶瓷色釉料,具体涉及一种釉下移印装饰的陶瓷色釉料、日用陶瓷器具及其制备方法。

技术介绍

[0002]现代日用陶瓷的质量和档次不断提高,人们对日用陶瓷的外观装饰要求越来越个性化,越来越多年轻人更钟爱于图案丰富的日用陶瓷。对于用于接触食物的日用陶瓷来说,人们不仅要求装饰美观,更要求健康安全环保。因此,釉下装饰成为了精美图案陶瓷的最常用工艺,因为通过釉下装饰可以有效控制铅镉溶出,保证了安全和美观。
[0003]目前,日用陶瓷硅胶移印印花常用工艺为:将着色剂和普通陶瓷用胶水混合并调配成胶状物后,采用硅胶移印的方式,将其移印至经过打磨后的坯体上,然后再烘干,最后施透明釉,但这种方式仅仅适用于一次烧成的日用陶瓷,不适用于需要二次烧成的镁质瓷、骨质瓷等釉下移印装饰。因为对于二次烧成的日用陶瓷,着色剂和普通陶瓷用胶水配成的胶状物移印到生坯上形成图案后需先进行素烧,然后再采用湿式磨光机打磨抛光处理,保证素坯的平整,这样得到的图案在经过湿式打磨抛光处理时,易由于移印图案的胶状物与素坯的附着性能差而出现图案脱落的现象。同时由于硅胶移印的硅胶头是油性的,而采用普通陶瓷用胶水配成的胶状物是水性的,这样的传统硅胶移印工艺容易造成印花过程中印花图案的缺花现象。
[0004]因此,亟需研发一种适用于二次烧成日用陶瓷釉下移印装饰的陶瓷色釉料,以解决现有技术中存在的图案脱落和缺花的现象。

技术实现思路

[0005]本专利技术提出一种釉下移印装饰的陶瓷色釉料、日用陶瓷器具及其制备方法,以解决现有技术中存在的一个或多个技术问题,至少提供一种有益的选择或创造条件。
[0006]为克服上述技术问题,本专利技术的第一方面提供了一种陶瓷色釉料。
[0007]具体地,一种陶瓷色釉料,所述陶瓷色釉料包括移印胶、熔块和着色剂;所述移印胶中含有非离子表面活性剂;所述熔块的熔融温度范围为900

1100℃。
[0008]本专利技术通过在陶瓷色釉料中添加移印胶和熔块,以解决现有日用陶瓷二次烧成釉下移印工艺中存在的缺花及图案脱落的现象,其中:移印胶中以非离子表面活性剂作为改性剂,利用其为在水中不离解成离子状态的两亲结构化合物,且具有良好的除油和去污功能,可除去转印印花过程中图案钢模上的油污和胶头携带油污,有利于色釉料按所需图案铺平,避免产生缺花现象。
[0009]同时,在陶瓷色釉料中添加熔块,熔块作为熔剂可有效保证着色剂在烧结过程中与坯体的附着性能,从而大大降低移印图案在素烧后的脱落现象。本专利技术通过控制熔块的熔融温度范围在900

1100℃的特定范围内,可实现移印图案不脱落的情况下,保证图案的清晰度与完整性。熔块的熔融温度过高,将降低着色剂的附着性能而使图案脱落;熔块的熔
融温度过低,将使色釉料移印的图案因流动而模糊或发生变化,因此,熔块的熔融温度是保证移印图案不脱落并保持清晰与完整的关键。
[0010]作为上述方案的进一步改进,所述陶瓷色釉料,按重量份计包括:移印胶35

40份、熔块12

17份,着色剂43

53份。具体地,通过控制移印胶、熔块和着色剂的合适配比,可更好地适应釉下移印工艺,保证陶瓷色釉料不脱落不缺花的同时,实现印花图案的清晰与完整性,适应日用陶瓷釉下移印色釉料的二次烧成。
[0011]作为上述方案的进一步改进,所述非离子表面活性剂包括烷基聚氧乙烯醚,所述移印胶中还含有椰子油脂肪酸二乙醇酰胺。具体地,烷基聚氧乙烯醚具有较好的除油和去污功能,椰子油脂肪酸二乙醇酰胺的加入,可进一步增强烷基聚氧乙烯醚的除油和去污活性,以实现陶瓷色釉料在釉下移印中不缺花。
[0012]作为上述方案的进一步改进,所述移印胶中还含有糖浆、甘油、树胶、海藻酸钠中的至少一种。
[0013]优选地,所述移印胶按重量份计包括:糖浆55

65份、甘油25

35份、树胶3

7份、海藻酸钠1

3份、烷基聚氧乙烯醚1

3份和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺1

3份。
[0014]优选地,所述熔块的化学组成,按重量百分比计包括:SiO
2 30

50%,Al2O35

10%,B2O
3 5

10%,K2O 15

20%,CaO 5

8%,ZnO 3

5%,MgO 2

3%,Na2O 1

2%,ZrO
2 1

2%。具体地,该熔块的化学组成可实现900

1100℃的熔融温度范围,但并不限于此化学组成。
[0015]优选地,所述熔块的细度为200

300目。
[0016]优选地,所述着色剂选自钴黑、铬绿、镨黄、钒锆蓝中的至少一种,但不限于上述着色剂的种类。
[0017]本专利技术的第二方面提供了一种陶瓷色釉料的应用。
[0018]具体地,一种日用陶瓷器具,所述日用陶瓷器具包括坯体层、釉下装饰层和表面釉层,所述釉下装饰层由上述陶瓷色釉料烧制而成。
[0019]优选地,所述坯体层的原料选用普通日用陶瓷的坯体原料则可。
[0020]优选地,所述表面釉层的原料先用普通日用陶瓷透明釉料则可。
[0021]本专利技术的第三方面提供了一种日用陶瓷器具的制备方法。
[0022]具体地,一种日用陶瓷器具的制备方法,包括以下步骤:
[0023](1)将陶瓷色釉料的各原料混合后进行湿法研磨,制得色釉浆;
[0024](2)采用硅胶移印的方式将所述色釉浆移印至坯体层后,进行素烧,得素烧坯;
[0025](3)对所述素烧坯进行打磨抛光处理后,施表面釉层,然后进行釉烧,得所述日用陶瓷器具。
[0026]优选地,步骤(2)中,所述素烧的温度为1230

1300℃。
[0027]优选地,步骤(3)中,所述釉烧的温度为1100

1180℃。
[0028]优选地,步骤(3)中,所述打磨抛光处理,包括以下步骤:
[0029]先用120目油石条磨平坯体表面的合模线和突出点;再用500目水磨砂纸进行坯体表面磨平;最后把磨好的坯体放进装有2000目金钢砂磨料的湿式抛光机进行15分钟抛光,得到打磨抛光素烧坯。
[0030]本申请实施例提供的技术方案,至少具有如下技术效果或优点:
[0031]本专利技术通过在陶瓷色釉料中添加移印胶,且移印胶以非离子表面活性剂作为改性
剂,利用其具有良好的除油和去污功能,可去除转印印花过程中图案钢模上的油污和胶头携带油污,利于色釉料按所需图本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷色釉料,其特征在于,所述陶瓷色釉料包括移印胶、熔块和着色剂;所述移印胶中含有非离子表面活性剂;所述熔块的熔融温度范围为900

1100℃。2.根据权利要求1所述的陶瓷色釉料,其特征在于,所述陶瓷色釉料,按重量份计包括:移印胶35

40份、熔块12

17份,着色剂43

53份。3.根据权利要求1所述的陶瓷色釉料,其特征在于,所述非离子表面活性剂包括烷基聚氧乙烯醚,所述移印胶中还含有椰子油脂肪酸二乙醇酰胺。4.根据权利要求3所述的陶瓷色釉料,其特征在于,所述移印胶中还含有糖浆、甘油、树胶、海藻酸钠中的至少一种;优选地,所述移印胶按重量份计包括:糖浆55

65份、甘油25

35份、树胶3

7份、海藻酸钠1

3份、烷基聚氧乙烯醚1

3份和椰子油脂肪酸二乙醇酰胺1

3份。5.根据权利要求1所述的陶瓷色釉料,其特征在于,所述熔块的化学组成,按重量百分比计包括:SiO
2 30

50%,Al2O
3 5

10%,B2...

【专利技术属性】
技术研发人员:周楚煌倪成林黄继伟刘敏銮郑敏玲
申请(专利权)人:广东松发陶瓷股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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