一种用于真空荧光显示器的复合层结构制造技术

技术编号:3162068 阅读:183 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种用于真空荧光显示器的复合层结构,其特征在于导电层(1)上置有多个荧光体层,各个荧光体层位于不同的区域,天蓝色荧光体层位于第一荧光体层(2)、橙红色荧光体层位于第二荧光体层(3)、白色荧光体层位于第三荧光体层(4)、黄绿色荧光体层位于第四荧光体层(5),各荧光体层的厚度为0.28μm~0.32μm。本实用新型专利技术采用的多荧光体层复合层结构,使真空荧光显示器能够显示复杂的logo的图形,并且提高了产品的良品率。(*该技术在2014年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种复合层结构,具体的讲是涉及一种用于真空荧光显示器的复合层结构
技术介绍
真空荧光显示器VFD(Vacuum Fluorescent Display)是由真空管发展而来,它利用荧光体受电子的轰击而发光,是一种自发光显示器件。因易于做多色彩显示,又可以用低压驱动,与半导体的相容性佳,可靠性高,因而被广泛应用于各种电子产品。但是,由于VFD制作工艺的限制,要在发光面积很小的VFD上显示复杂图形仍然非常困难,例如一些公司的Logo,图形复杂、色彩繁多,在现有的VFD产品上很难显示这样的图形。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有VFD产品难以显示复杂图形的缺点,提供一种用于真空荧光显示器的复合层结构,通过该结构现有的VFD产品能够显示复杂的图形。为了实现上述目的,本技术采用的技术方案一种用于真空荧光显示器的复合层结构,在真空荧光显示器的导电层上置有多个荧光体层,各个荧光体层位于不同的区域,天蓝色荧光体层位于第一荧光体层、橙红色荧光体层位于第二荧光体层、白色荧光体层位于第三荧光体层、黄绿色荧光体层位于第四荧光体层,各荧光体层的厚度为0.28μm~0.32μm,各荧光体层边缘相接触的部分相互连接。本技术的有益效果是,本技术采用的多荧光体层的复合层结构显著提高了真空荧光显示器的显示能力,使真空荧光显示器显示复杂的logo图形成为可能,无论是复杂图形还是复杂色彩通过本技术的复合层结构均能得以生动表现。同时,本技术也提高了产品的良品率。附图说明图1是真空荧光显示器复合层结构第一层示意图; 图2是真空荧光显示器复合层结构第二层示意图;图3是真空荧光显示器复合层结构第三层示意图;图4是真空荧光显示器复合层结构第四层示意图;图5是真空荧光显示器复合层结构整体示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术进一步详细描述一种用于真空荧光显示器的复合层结构,其特征是在真空荧光显示器的导电层1上覆盖有多个位于不同区域的荧光体层,其中第一荧光体层2是天蓝色荧光体层,其形状如图1所示、第二荧光体层3是橙红色荧光体层,其形状如图2所示、第三荧光体层4是白色荧光体层,其形状如图3所示、第四荧光体层5是黄绿色荧光体层,其形状如图4所示,各荧光体层在丝网印刷成形时受物理压力和荧光浆料自身的黏性作用覆盖在导电层上,各荧光体层边缘相接触的部分相互连接。如图5所示,各荧光体层的厚度控制为0.3±0.02μm。荧光体层采用荧光浆料以丝网印刷的方式印制到真空荧光显示器的导电层上,各荧光体层的形状可以根据需要进行设定,印制顺序根据荧光体的发光效率决定,一般情况上先印刷天蓝色荧光体层、然后是橙红色荧光体层、接着是白色荧光体层、最后是黄绿色荧光体层。本技术使真空荧光显示器显示复杂logo图形成为可能,并且提高了产品的良品率。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于真空荧光显示器的复合层结构,其特征在于导电层(1)上置有多个荧光体层,各个荧光体层位于不同的区域,天蓝色荧光体层位于第一荧光体层(2)、橙红色荧光体层位于第二荧光体层(3)、白色荧光体层位于第三荧光体层(4)、黄绿色荧光体层位于第四荧光体层(5),各荧光体层的厚度为0.28μm~0.32μm。

【技术特征摘要】
1.一种用于真空荧光显示器的复合层结构,其特征在于导电层(1)上置有多个荧光体层,各个荧光体层位于不同的区域,天蓝色荧光体层位于第一荧光体层(2)、橙红...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈晟吴迪
申请(专利权)人:上海三星真空电子器件有限公司
类型:实用新型
国别省市:31[中国|上海]

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