光阴极及其制造方法技术

技术编号:3160762 阅读:328 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种形成于基底(15)上的光阴极(13),基底(15)包括表面具有大量狭窄空隙或微孔的一个或多个部件,所述光阴极主要由一种半金属、镁或银以及一种或多种碱金属所组成,其特征在于:光阴极(13)形成于已形成在基底上的碱金属氧化物(14)之上,而半金属、镁或银以及一种或多种碱金属的成分比是化学计量或近于化学计量的。本发明专利技术的光阴极具有高灵敏度,且能在长时期内稳定地维持此灵敏度。(*该技术在2008年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光阴极,它形成于由一个或多个部件组成的基底(15)上,所述部件的表面具有大量狭窄空隙或微孔;所述光阴极主要由半金属、镁或银以及一种或多种碱金属构成,其特征在于:所述光阴极(13)形成于碱金属氧化物层(14)之上,而所述碱金属氧化物层(14)形成于所述基底(15)之上;所述半金属、镁或银以及所述一种或多种碱金属的成分比是化学计量或近于化学计量的。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:荒枚成光
申请(专利权)人:株式会社东芝
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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