一种Low-E玻璃薄膜及其制备工艺制造技术

本发明专利技术涉及薄膜技术领域，特别是涉及一种Low

【技术实现步骤摘要】
一种Low
‑
E玻璃薄膜及其制备工艺


[0001]本专利技术涉及薄膜
，特别是涉及一种Low
‑
E玻璃薄膜及其制备工艺。

技术介绍

[0002]Low
‑
E玻璃(Low Emissivity Glass)又称低辐射镀膜玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品，普通玻璃的表面辐射率在0.84左右，而Low
‑
E玻璃的表面辐射率一般在0.25以下。这类低辐射膜层对远红外热辐射的反射率很高，能将80％以上的远红外辐射反射回去，所以Low
‑
E玻璃具有良好的阻隔热辐射透过的作用，在任何气候环境下使用均能够达到控制阳光、节约能源、热量控制调节及改善环境的作用，适用于节能建筑。
[0003]目前市场上使用的Low
‑
E玻璃薄膜成本过高，回收成本时间过长，在旧建筑改造中施工不便，且市面上部分Low
‑
E玻璃薄膜并非是反射薄膜，其工作原理是将热量吸收，不能达到真正节能的目的。
[0004]公开号为CN102490408A的专利公开了一种可钢化三银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺，包括“第一电介质组合层、第一阻挡保护层、第一电介质层、第一银层、第二阻挡保护层、第一间隔电介质组合层、第三阻挡保护层、第二电介质层、第二银层、第四阻挡保护层、第二间隔电介质组合层、第五阻挡保护层、第三电介质层、第三银层、第六阻挡保护层、第二电介质组合层”，该申请主要是通过多个银层降低辐射，采用的是真空磁控溅射镀膜，需要一直控制镀膜装置内的气压，制备过程繁琐。
[0005]公开号为CN102757185B的专利公开了一种可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品，公开了“玻璃基板和在所述玻璃基板表面向外设置的多个介质层及至少两个红外反射层，每个红外反射层位于两个介质层之间，多个介质层中至少有一层包括ZnSnMgO
x
膜层或ZnSnNiO
x
膜层”，该申请中是在介质层中引入ZnSnMgO
x
膜层或ZnSnNiO
x
膜层，构建的双银或三银低辐射薄膜，膜层的构建方式较为复杂。
[0006]公开号为CN205416573U的专利公开了一种可热弯的红外热阻挡节能镀膜玻璃，包括“20层薄膜，20层薄膜在玻璃基板上的依次叠加构成顺序为第1层为玻璃基板、第2
‑
3层为电介质干涉层，第4层为电介质抗氧化层，第5层为金属低辐射层，第6层为电介质抗氧化层，第7
‑
8层为电介质干涉层，第9层为电介质抗氧化层，第10层为金属低辐射层，第11层为合金光吸收层，第12层为电介质抗氧化层，第13
‑
14层为电介质干涉层，第15层为电介质抗氧化层，第16层为金属低辐射层，第17层为合金光吸收层，第18层为电介质抗氧化层，第19
‑
21层为复合介质保护层”，该申请中膜层数量较多，膜的厚度较大，制备工艺复杂的同时膜层容易脱离。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的在于提供一种Low
‑
E玻璃薄膜及其制备工艺，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0008]本专利技术是通过以下技术方案实现的：
[0009]本专利技术提供了一种Low
‑
E玻璃薄膜，包括有薄膜基材和薄膜本体，所述薄膜本体包括介质膜和金属膜，具体结构如下：
[0010]薄膜基材，薄膜基材设置在玻璃基板的表面，用于支撑薄膜本体；
[0011]内保护层，内保护层涂覆在所述薄膜基材的上表面，用于保护薄膜基材；
[0012]介质膜，包括SiO2和/或多孔硅，介质膜设置在所述内保护层的上表面，用于提高透光率、降低表面辐射率；
[0013]反射层，所述反射层设置为金属膜或金属掺杂膜，用于增加光学表面的反射率、降低光学表面的辐射率；
[0014]外保护层，外保护层涂覆在所述薄膜本体的上表面，用于耐磨、防老化、保护薄膜本体。
[0015]优选的，所述介质膜设置在所述反射膜的下表面或表面，表面为上表面和下表面。
[0016]优选的，所述金属膜选自铝膜、金膜、铜膜、银膜中的一种或多种的混合。
[0017]优选的，所述金属掺杂膜的主体材料选自TiO2、SnO2、WO3、In2O3中的一种或多种的混合，所述TiO2、SnO2、WO3、In2O3均设置为纳米级。
[0018]优选的，所述金属掺杂膜中掺杂有Cs
+
、Fe
3+
、Al
3+
、Cu
2+
、Ag
+
、Co
2+
、Pt
2+
、Nb
5+
中的一种或多种的混合。
[0019]本专利技术还提供了一种上述Low
‑
E玻璃薄膜的制备工艺，包括如下步骤：
[0020]S1、依次用超纯水、乙醇清洁薄膜基材，通过溶胶
‑
凝胶法在烘干后的薄膜基材表面涂覆用于保护薄膜基材的内保护层，得到预处理后的薄膜基材；
[0021]S2、将步骤S1得到的薄膜基材送入镀膜装置内，维持镀膜装置内环境稳定，向镀膜装置内通入氧源和硅源，采用溅射镀膜法在内保护层的上表面镀上用于提高透光率、降低表面辐射率的介质膜，得到表面镀有SiO2和/或多孔硅的薄膜；
[0022]S3、维持镀膜装置内环境稳定，向镀膜装置内通入对应的金属源，在S2得到的薄膜表面再次利用溅射法进行镀膜处理，在介质膜的上表面镀上用于增加光学表面的反射率、降低辐射率的反射膜，所述反射膜为金属膜，得到表面镀有金属膜的薄膜；
[0023]S4、镀膜结束后，从镀膜装置内取出S3得到的薄膜，通过溶胶
‑
凝胶法在所得薄膜的上表面涂覆用于保护薄膜本体的外保护层，制得目标Low
‑
E玻璃薄膜。
[0024]优选的，对步骤S3得到的反射膜重复进行步骤S2，在所得反射膜的上表面通过溅射法镀上如步骤S2所述的介质膜。
[0025]优选的，所述金属膜包括铝膜、金膜、铜膜、银膜中的一种或多种的混合。
[0026]本专利技术还提供了一种上述Low
‑
E玻璃薄膜的制备工艺，包括如下步骤：
[0027]S1、依次用超纯水、乙醇清洁薄膜基材，通过溶胶
‑
凝胶法在烘干后的薄膜基材表面涂覆用于保护薄膜基材的内保护层，得到预处理后的薄膜；
[0028]S2、将步骤S1得到的薄膜基材送入镀膜装置内，维持镀膜装置内环境稳定，向镀膜装置内通入氧源和硅源，采用溅射镀膜法在内保护层的上表面镀上用于提高透光率、降低表面辐射率的介质膜，得到表面镀有SiO2和/或多孔硅的薄膜；
[0029]S3、维持镀膜装置内环境稳定，向镀膜装置内通入氧源和对应的金属粒子，在S2得到的薄膜基材表面再次利用溅射法进行镀膜处理，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种Low
‑
E玻璃薄膜，其特征在于，包括有薄膜基材和薄膜本体，所述薄膜本体包括介质膜和金属膜，具体结构如下：薄膜基材，薄膜基材设置在玻璃基板的表面，用于支撑薄膜本体；内保护层，内保护层涂覆在所述薄膜基材的上表面，用于保护薄膜基材；介质膜，包括SiO2和/或多孔硅，介质膜设置在所述内保护层的上表面，用于提高透光率、降低表面辐射率；反射层，所述反射层设置为金属膜或金属掺杂膜，用于增加光学表面的反射率、降低光学表面的辐射率；外保护层，外保护层涂覆在所述薄膜本体的上表面，用于耐磨、防老化、保护薄膜本体。2.根据权利要求1所述的Low
‑
E玻璃薄膜，其特征在于，所述介质膜设置在所述反射膜的下表面或表面。3.根据权利要求1所述的Low
‑
E玻璃薄膜，其特征在于，所述金属膜选自铝膜、金膜、铜膜、银膜中的一种或多种的混合。4.根据权利要求1所述的Low
‑
E玻璃薄膜，其特征在于，所述金属掺杂膜的主体材料选自TiO2、SnO2、WO3、In2O3中的一种或多种的混合。5.根据权利要求4所述的Low
‑
E玻璃薄膜，其特征在于，所述金属掺杂膜中掺杂有Cs
+
、Fe
3+
、Al
3+
、Cu
2+
、Ag
+
、Co
2+
、Pt
2+
、Nb
5+
中的一种或多种的混合。6.一种如权利要求1
‑
5中任意一项所述Low
‑
E玻璃薄膜的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：S1、依次用超纯水、乙醇清洁薄膜基材，通过溶胶
‑
凝胶法在烘干后的薄膜基材表面涂覆用于保护薄膜基材的内保护层，得到预处理后的薄膜基材；S2、将步骤S1得到的薄膜基材送入镀膜装置内，维持镀膜装置内环境稳定，向镀膜装置内通入氧源和硅源，采用溅射镀膜法在内保护层的上表面镀上用于提高透光率、降低表面辐射率的介质膜，得到表面镀有SiO2和/或多孔硅的薄膜；S3、维持镀膜装置内环境稳定，向镀膜装置内通入对应的金属源，在S2得到的薄膜表面再次利用溅射法进行镀膜处理，在介质膜的上表面镀上用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘延宁，陈珂珩，
申请(专利权)人：苏州瑞纳新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：