吸光/防反射材料元件与显示装置制造方法及图纸

一种吸光／防反射材料元件包括一个形成在基底元件上并含有颜色细颗粒与高折射率细颗粒的吸光膜，与一个形成在此吸光膜上的有多层结构且它的至少一层由一层导电薄膜构成以便由于光干涉作用以减弱随着相关的入射光而出射的反射光的防反射多层膜。并且，构成一个其中在面板的外表面上形成此吸光／防反射材料元件作为防反射膜的显示装置。由此可通过低廉的制作处理提供可实现高对比度的吸光／防反射材料元件与导电防反射膜，以及显示装置。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种适于加强与锐化尤其是使用平板玻璃的阴极射线管的对比度的吸光/防反射材料元件，及一种使用此元件的显示装置。
技术介绍
在最近几年中，显示装置例如阴极射线管的面板的外表面形状已采用平面外形。在阴极射线管中，当它的面板的外表面形状为平面外形时，为了抵抗外部空气压力，面板玻璃的中心部分与角落部分之间厚度差别增大。此外，阴极射线管的对比度按常规根据玻璃面板的吸光与荧光表面反射率的减弱作用确定。然而，当由于面板的外表面变平引起面板玻璃的厚度差别而相应地出现透射率的差别时，依据其均匀性而导致亮度的降低。由此结果，使得在面板的每个中心部分与角落部分得到一个最佳的对比度变为困难。因此，配置成增大玻璃的透射率并使形成在面板玻璃表面上的防反射材料元件具有吸光特性。因而配置成使全体透射率相等从而得到一个良好水平的对比度。关于这种吸光/防反射材料元件或材料体，按常规已知下述情况。首先，一个吸光/防反射材料元件有一个两层结构并有防反射、吸光与导电的功能(参看日本专利申请公开No.Hei-9-156964)。其次，一个导电/光衰减型防反射膜元件有一个玻璃/SnO2(氧化锡)/TiN(氮化钛)/SnO2/TiN/SiO2(氧化硅)的结构(参看日本专利申请公开No.Hei-6-510382)，等等。在日本专利申请公开No.Hei-9-156964中公开的吸光/防反射材料元件中，采取了下述措施。即，面板玻璃的透射率从50％提高至80％，而膜的透射率从80％降低至50％。通过采取这些措施，确定可得到一个相等的对比度。然而，为了得到一个相等的对比度，吸光膜的厚度必须做得较厚。在面板玻璃与膜之间的折射率差别大的情况下，出现了下述现象。即，来自玻璃侧的入射光(在阴极射线管情况下荧光从荧光材料表面发出)在玻璃与吸光膜之间的界面上被反射。此反射光再撞击荧光材料从而引起它发光。由于此原因，迄今存在阴极射线管上图象重影的麻烦。另一方面，在日本专利申请公开No.Hei-6-510382中公开的导电/光衰减型防反射膜中，下述情况确有可能。即，配置成最佳化折射率与第一层透明膜从玻璃侧起的厚度。通过此最佳化，可减少从玻璃侧进入的光量。然而，此法有由于增加膜的结构而带来的缺点。此外，通过考虑光常数的波长分散而得到一个最佳的吸光薄膜材料是十分困难的。例如，此膜不适合于以考虑例如阴极射线管的R(红色)、G(绿色)与B(兰色)的每两个之间的发射光谱比率为基础而设计的材料。
技术实现思路
本专利技术的一种吸光/防反射材料元件包括一个形成在一个基底元件上且其中含有颜料细颗粒与高折射率细颗粒的吸光膜；与一个形成在此吸光膜上作为一个多层结构且它的至少一层有一个导电的薄膜以便通过光干涉作用从而减弱对应于入射光的反射光的防反射多层膜。根据本专利技术的上述吸光/防反射材料元件的结构，吸光膜含有颜料细颗粒以及高折射率细颗粒。由此结果，使调节吸光膜的透射率与折射率成为可能。此外，防反射多层膜可通过光干涉作用以减弱对应于入射光的反射光。同时，通过它的至少一层由一个导电的薄膜构成，可防止泄漏不需要的辐射。本专利技术的吸光/防反射材料元件包括一个两层结构的吸光膜，一层是其中只含有高折射率细颗粒与氧化硅并有5nm或以上厚度的第一层，而另一层是其中含有颜料细颗粒、高折射率细颗粒与氧化硅的第二层；及一个形成在此吸光膜上作为一个多层结构且它的至少一层由一个导电膜构成以通过光干涉作用从而减弱对应于入射光的反射光的防反射多层膜。在上述结构的吸光/防反射材料元件中，在吸光膜与衬底之间的界面上的反射损失变为几乎可忽略不计。这是因为这两个单元的折射率通过调节高折射率细颗粒的含量而变为基本相同的缘故。因此，当形成吸光/防反射材料元件时，对透射率、反射率等每个进行各自的、独立的控制成为可能。本专利技术的一种显示装置带有形成在它的面板外表面上的防反射膜，以防反射膜包括一个形成在基底元件上且其中含有颜粒细颗粒与高折射率细颗粒的吸光膜；与一个形成在此吸光膜上作为一个多层结构且它的至少一层由一个导电膜构成以通过光干涉作用从而减弱相应于入射光的反射光的防反射多层膜。根据本专利技术的上述显示装置的结构，在面板的外表面上提供一个具有与上述吸光/防反射材料元件相同结构的防反射膜。由此结果，可通过使用吸光膜构造一个选择吸光过滤器。附图说明图1是一个表示根据本专利技术的第一实施例的吸光/防反射材料元件的剖视图；图2是一个表示根据本专利技术的第一实施例的吸光膜结构的剖视图；图3是一个表示用于制作根据本专利技术的第一实施例的吸光/防反射材料元件的制作步骤的流程图；图4是一个表示根据本专利技术的另一实施例的吸光/防反射材料元件的剖视图；图5是一个表示根据本专利技术应用了吸光/防反射材料元件的一个阴极射线管的示意剖视图；图6是一个表示根据本专利技术的第二实施例的吸光/防反射材料元件的剖视图；图7是一个表示在形成一个吸光/防反射材料元件的吸光膜时的一个基底涂覆材料的混合物例子的说明表；图8是一个表示一个形成的吸光膜的特性的说明图，此示说明相对于反侧入射光的透射率的分布状态；与图9是一个表示一个形成的吸光膜的特性的说明图，此示说明相对于正侧入射光的反射率的分布状态。具体实施例方式图1中的所示的第一实施例的吸光/防反射膜10构造为有如下两个膜。一个是形成在玻璃基底元件11上且其中含有颜料细颗粒并有一个从10nm(含)至1000nm(含)或最好从100nm(含)至800nm(含)厚度的吸光膜12。另一个是形成在吸光膜12上的以通过光干涉作用从而减弱对应于入射光的反射光的防反射多层膜13。图1中的吸光/防反射膜10的吸光膜12的结构表示在图2中。此吸光膜12含有作为主要成分的氧化硅(SiO2)，且它由成为粘合剂1的此氧化硅的细颗粒形成。而且，此吸光膜12中还含有颜料细颗粒2与高折射率细颗粒3以便可得到一个要求的折射率分布。关于颜料细颗粒2，可使用下列材料碳细颗粒(碳黑)；由铁、钴、锰、锡、钌等每种化合物制备的无机颜料细颗粒；或由有机物质构成的有机的细颗粒。由于含有这些颜料细颗粒2，因而可调节吸光膜12的透射率。关于高折射率细颗粒3，可使用细颗粒的氧化锡(折射率接近2.0)、氧化钛(折射率接近2.6)等。由于含有这些高折射率细颗粒3，因而可调节吸光膜12的折射率。上述结构的吸光膜12通过执行下列步骤而形成。把成为粘合剂1的氧化硅、颜料细颗粒2与高折射率细颗粒3混合在有机溶剂例如乙醇内。通过使它们均匀地扩散在此溶剂内从而制备一个硅醇盐溶剂。然后把此硅醇盐溶剂涂覆在玻璃基底元件11的表面上。最后在规定温度下烘焙经涂覆的基底元件11。附带指出，在有机溶剂内的颜料细颗粒2的颗粒直径为至少10nm。因此，为了形成均匀的吸光膜12，厚度D1需要为10nm或以上。此外，在使用有机颜料作为颜料的情况下，也可以有第二直径变为50nm或以上的情况。因此，为了形成较稳定的吸光膜12，厚度D1必须为100nm或以上。另一方面，吸光膜12的厚度D1制成1000nm或以上可能导致在此膜形成或干燥之后产生破碎，因而这是不可取的。如果吸光膜12的厚度D1为800nm或以下，已证实可得到与在其上面的防反射多层膜的结构、形成方法或保存方法无关的长期稳定性。此外，为了形成一个对玻璃基底元件11有足够粘接力的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种吸光／防反射材料元件包括：一个形成在基底元件上且其中含有颜料细颗粒与高折射率细颗粒的吸光膜；与一个形成在此吸光膜上作为一个多层结构的防反射多层膜，且它的至少一层有一个导电薄膜以通过光干涉作用从而减弱对应入射光的反射光。

【技术特征摘要】
JP 2000-8-14 245823/2000;JP 2000-8-17 247433/20001.一种吸光/防反射材料元件包括一个形成在基底元件上且其中含有颜料细颗粒与高折射率细颗粒的吸光膜；与一个形成在此吸光膜上作为一个多层结构的防反射多层膜，且它的至少一层有一个导电薄膜以通过光干涉作用从而减弱对应入射光的反射光。2.根据权利要求1的吸光/防反射材料元件，其中吸光膜的实际膜厚在10nm(含)至1000nm(含)范围。3.根据权利要求1的吸光/防反射材料元件，其中吸光膜是通过涂覆一层溶胶一凝胶膜形成的膜，在此膜中，依据固体含量百分比，有从1.5wt％(含)至4.5wt％(含)的氧化硅扩散在一种有机溶剂内。4.根据权利要求1的吸光/防反射材料元件，其中吸光膜中含有高折射率的相当于从20wt％(含)至40wt％(含)重量百分比的作为主要材料的氧化硅，此吸光膜具有从1.40(含)至1.65(含)的折射率。5.根据权利要求1的吸光/防反射材料元件，其中吸光膜中含有以氧化硅为基准比例为5wt％或以下的颜料细颗粒。6.一种吸光/防反射材料元件包括一个两层结构的吸光膜，一层为其中只含有高折射率细颗粒与氧化硅并有5nm或以上厚度的第一层，而另一层为包括颜料细颗粒、高折射率细颗粒与氧化硅的第二层；与一个形成在此吸光膜上作为一个多层结构的防反射多层膜，且它的至少一层由一个导电膜构成以通过光干涉作用从而减弱对应于入射光的反射光。7.一种吸光/防反射材料元件包括一个形成在基底元件上的吸光膜与一个形成在此吸光膜上有一个多层结构且...

【专利技术属性】
技术研发人员：隅田孝生，舟桥容子，荒木宗也，
申请(专利权)人：索尼株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]