一种用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统，包括照明透镜组合及设置在照明透镜组合之前的匀光棒，照明透镜组合包括在光路依次同轴且顺序设置的多个透镜，第一透镜、第三透镜、第四透镜及第五透镜均为凹凸透镜，第二透镜为双凸透镜，匀光棒为设置有中空腔体的条状结构，匀光棒的纵向轴线与照明透镜组合的轴线同轴，光线经中空腔体的壁面的反射，并经过照明透镜组合物像放大后出射。本实用新型专利技术的照明透镜系统，在照明透镜组合之前设置匀光棒，对入射光进行先匀光处理，再通过照明透镜组合进行放大处理，使得经过该照明透镜系统处理后的光线，具有较高的均匀度，且在具有放大倍数的同时又兼具高分辨率的性能。在具有放大倍数的同时又兼具高分辨率的性能。在具有放大倍数的同时又兼具高分辨率的性能。

【技术实现步骤摘要】
一种用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统


[0001]本技术涉及光刻机的
，更具体涉及一种用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统。

技术介绍

[0002]以大规模集成电路为核心的微电子技术的快速发展，对微电子设备和微细加工技术提出了新的要求。自1978年美国推出第一台商业化的投影光刻机，光学投影曝光作为应用领域最广、技术更新快和生命力强的微细加工技术，是驱动微电子技术进步的核心。投影光刻机将掩模上的图形，经过投影物镜成像复制在硅片面上。投影光刻机一般包括照明透镜系统、反射棱镜组合、及投影物镜组合，而现有的照明透镜系统，其匀光性和分辨率较低，不能满足精细化日益升高的成像需求。
[0003]有鉴于此，有必要对现有技术中的投影光刻机的照明透镜系统进行改进，以解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于公开一种用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统，解决了现有的照明透镜系统匀光性且分辨率不高的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供了一种用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统，包括照明透镜组合及设置在所述照明透镜组合之前的匀光棒，所述照明透镜组合包括在光路上依次同轴设置的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜及第五透镜，所述第一透镜、第三透镜、第四透镜及第五透镜均为凹凸透镜，所述第二透镜为双凸透镜，所述匀光棒为设置有中空腔体的条状结构，所述匀光棒的纵向轴线与所述照明透镜组合的轴线同轴，光线经所述中空腔体的壁面的反射，并经过所述照明透镜组合物像放大后出射。
[0006]作为本技术的进一步改进，所述第一透镜的进光面为凹面，其弧度为
‑
0.59rad，所述第一透镜的出光面为凸面，其弧度为1.83rad；
[0007]所述第二透镜的进光面为凸面，其弧度为
‑
0.45rad，所述第二透镜的出光面为凸面，其弧度为0.44rad；
[0008]所述第三透镜的进光面为凸面，其弧度为0.40rad，所述第三透镜的出光面为凹面，其弧度为0.72rad；
[0009]所述第四透镜的进光面为凹面，其弧度为
‑
0.42rad，所述第四透镜的出光面为凸面，其弧度为1.24rad；
[0010]所述第五透镜的进光面为凸面，其弧度为1.17rad，所述第五透镜的出光面为凹面，其弧度为
‑
0.31rad。
[0011]作为本技术的进一步改进，所述第三透镜与所述第二透镜之间的间距为所述第二透镜与所述第一透镜之间的间距的4.5倍～5倍；所述第四透镜与所述第三透镜之间的间距为所述第二透镜与所述第一透镜之间的间距的0.8倍～0.9倍；所述第五透镜与所述第
四透镜之间的间距为所述第二透镜与所述第一透镜之间的间距的3倍～4倍。
[0012]作为本技术的进一步改进，所述照明透镜组合的放大倍倍率为
‑
4.255，物方数值孔径NA为0.22，物方视场为4.8
×
0.8.。
[0013]作为本技术的进一步改进，所述匀光棒包括本体以及设置在所述本体内部的中空腔体，所述本体包括至少三个棱柱单元，所述棱柱单元围设形成所述中空腔体，所述中空腔体的内壁镀有高反膜。
[0014]作为本技术的进一步改进，所述中空腔体的横截面形状为多边形。
[0015]作为本技术的进一步改进，所述棱柱单元由玻璃制成。
[0016]作为本技术的进一步改进，所述照明透镜系统还包括设置在所述匀光棒的光路之前的集束光纤。
[0017]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0018]本技术的一种用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统，在照明透镜组合之前设置匀光棒，对入射光进行先匀光处理，再通过照明透镜组合进行放大处理，使得经过该照明透镜系统处理后的光线，具有较高的均匀度，且在具有放大倍数的同时又兼具高分辨率的性能。
附图说明
[0019]图1为本技术实施例提供的一种照明透镜系统的结构示意图；
[0020]图2为图1中的匀光棒的沿A
‑
A线的剖面示意图。
具体实施方式
[0021]下面结合附图所示的各实施方式对本技术进行详细说明，但应当说明的是，这些实施方式并非对本技术的限制，本领域普通技术人员根据这些实施方式所作的功能、方法、或者结构上的等效变换或替代，均属于本技术的保护范围之内。
[0022]需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”、“正方向”、“负方向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术方案和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术方案的限制。
[0023]请参阅图1和图2所示，一种用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统，包括照明透镜组合3及设置在照明透镜组合之前的匀光棒2，照明透镜组合3包括在光路上依次同轴设置的第一透镜31、第二透镜32、第三透镜33、第四透镜34及第五透镜35，第一透镜31、第三透镜32、第四透镜34及第五透镜35均为凹凸透镜，第二透镜32为双凸透镜，匀光棒2为设置有中空腔体的条状结构，匀光棒2的纵向轴线与照明透镜组合3的轴线同轴，光线经中空腔体的壁面的反射，并经过照明透镜组合3物像放大后出射。
[0024]作为一优选实施例，第一透镜31的进光面为凹面，其弧度为
‑
0.59rad，第一透镜31的出光面为凸面，其弧度为1.83rad；
[0025]第二透镜32的进光面为凸面，其弧度为
‑
0.45rad，第二透镜32的出光面为凸面，其
弧度为0.44rad；
[0026]第三透镜33的进光面为凸面，其弧度为0.40rad，第三透镜33的出光面为凹面，其弧度为0.72rad；
[0027]第四透镜34的进光面为凹面，其弧度为
‑
0.42rad，第四透镜的出光面为凸面，其弧度为1.24rad；
[0028]第五透镜的进光面为凸面，其弧度为1.17rad，第五透镜的出光面为凹面，其弧度为
‑
0.31rad。
[0029]第三透镜33与第二透镜32之间的间距为第二透镜32与第一透镜31之间的间距的4.5倍～5倍；第四透镜34与第三透镜33之间的间距为第二透镜32与第一透镜31之间的间距的0.8倍～0.9倍；第五透镜35与第四透镜34之间的间距为第二透镜32与第一透镜31之间的间距的3倍～4倍。
[0030]照明透镜组合3的放大倍倍率为
‑
4.255，物方数值孔径NA为0.22，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统，其特征在于，包括照明透镜组合及设置在所述照明透镜组合之前的匀光棒，所述照明透镜组合包括在光路上依次同轴设置的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜及第五透镜，所述第一透镜、第三透镜、第四透镜及第五透镜均为凹凸透镜，所述第二透镜为双凸透镜，所述匀光棒为设置有中空腔体的条状结构，所述匀光棒的纵向轴线与所述照明透镜组合的轴线同轴，光线经所述中空腔体的壁面的反射，并经过所述照明透镜组合物像放大后出射。2.根据权利要求1所述的用于投影光刻机的高均匀度的照明透镜系统，其特征在于，所述第一透镜的进光面为凹面，其弧度为
‑
0.59rad，所述第一透镜的出光面为凸面，其弧度为1.83rad；所述第二透镜的进光面为凸面，其弧度为
‑
0.45rad，所述第二透镜的出光面为凸面，其弧度为0.44rad；所述第三透镜的进光面为凸面，其弧度为0.40rad，所述第三透镜的出光面为凹面，其弧度为0.72rad；所述第四透镜的进光面为凹面，其弧度为
‑
0.42rad，所述第四透镜的出光面为凸面，其弧度为1.24rad；所述第五透镜的进光面为凸面，其弧度为1.17rad，所述第五透镜的出光面为凹面，其弧度为
‑
0.31rad。3...

【专利技术属性】
技术研发人员：周升志，王义华，
申请(专利权)人：无锡锡科光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：