玻璃制造技术

本发明专利技术的玻璃的特征在于，作为玻璃组成，以质量％计含有SiO255～70％、Al2O315～25％、B2O31～5％、Li2O+Na2O+K2O 0～0.5％、MgO 0～4％、CaO 3～11％、SrO 0～4％、BaO 0～11％，应变点高于715℃。变点高于715℃。

【技术实现步骤摘要】
玻璃
[0001]本申请是申请号：201780063611.2，PCT申请号：PCT/JP2017/044919，申请日：2017.12.14，专利技术名称：“玻璃”的申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及一种玻璃，尤其涉及一种适于有机EL显示器的基板的玻璃。

技术介绍

[0003]有机EL显示器等电子设备由于为薄型且动画显示优异、消耗电力也少，因此被用于移动电话的显示器等的用途。
[0004]作为有机EL显示器的基板，广泛使用玻璃板。对于该用途的玻璃板，主要要求以下特性。
[0005](1)为了防止在热处理工序中成膜的半导体物质中碱离子发生扩散的情况，碱金属氧化物的含量少。
[0006](2)为了使玻璃板低廉化，生产性优异，尤其是耐失透性、熔融性优异。
[0007](3)在p
‑
Si
·
TFT的制造工序中，为了减少热收缩，应变点高。
[0008](4)为了减轻搬送工序中的自重挠曲，比杨氏模量高。
[0009]现有技术文献
[0010]专利文献
[0011]专利文献1：日本特表2009
‑
525942号公报

技术实现思路

[0012]专利技术所要解决的课题
[0013]若对上述(3)进行详述，则在p
‑
Si
·
TFT的制造工序中存在400～600℃的热处理工序，在上述热处理工序中玻璃板产生被称为热收缩的微小的尺寸变化。若热收缩大，则TFT的像素间距产生偏离，而成为显示不良的原因。在有机EL显示器的情况下，即使是数ppm程度的尺寸收缩，也有可能显示不良，要求低热收缩的玻璃板。需要说明的是，玻璃板所受到的热处理温度越高，热收缩越大。
[0014]作为减少玻璃板的热收缩的方法，有如下方法：在将玻璃板成形后，在缓冷点附近进行退火处理。但是，退火处理需要长时间，因此玻璃板的制造成本上涨。
[0015]作为其他方法，有提高玻璃板的应变点的方法。应变点越高，在p
‑
Si
·
TFT的制造工序中越难以产生热收缩。例如，在专利文献1中，公开了高应变点的玻璃板。但是，若应变点高，则生产性容易降低。
[0016]本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其技术课题为制造生产性(尤其是耐失透性)优异且比杨氏模量高、而且在p
‑
Si
·
TFT的制造工序中热收缩小的玻璃。
[0017]用于解决课题的手段
[0018]本专利技术人反复进行了多种实验，结果发现，通过对低碱玻璃、无碱玻璃的玻璃组成
和应变点进行严格地限制，可解决上述技术课题，从而作为本专利技术提出。即，本专利技术的玻璃的特征在于，作为玻璃组成，以质量％计含有SiO255～70％、Al2O315～25％、B2O31～5％、Li2O+Na2O+K2O0～0.5％、MgO 0～4％、CaO 3～11％、SrO 0～4％、BaO 0～11％，应变点高于715℃。此处，“Li2O+Na2O+K2O”是指Li2O、Na2O和K2O的合计量。“应变点”是指基于ASTM C336的方法测定的值。
[0019]第二，本专利技术的玻璃优选为作为玻璃组成，以质量％计含有SiO255～70％、Al2O315～25％、B2O31.5～4％、Li2O+Na2O+K2O0％以上且小于0.1％、MgO 0～3％、CaO 4～10％、SrO 1～4％、BaO 4～11％。
[0020]第三，本专利技术的玻璃优选质量％比SiO2/Al2O3为2.5～3.1。
[0021]第四，本专利技术的玻璃优选质量％比CaO/BaO为4.0以下。
[0022]第五，本专利技术的玻璃优选还包含0.001～1质量％的SnO2。
[0023]第六，本专利技术的玻璃优选比杨氏模量、即杨氏模量除以密度而得的值大于29.5GPa/g
·
cm
‑3。
[0024]第七，本专利技术的玻璃优选高温粘度10
2.5
dPa
·
s下的温度为1650℃以下。此处，“高温粘度10
2.5
泊下的温度”可以利用铂球提拉法测定。
[0025]第八，本专利技术的玻璃优选液相温度低于1310℃。此处，“液相温度”可以通过将穿过标准筛30目(500μm)而残留于50目(300μm)的玻璃粉末装入铂舟后，在温度梯度炉中保持24小时，并测定结晶析出的温度而算出。
[0026]第九，本专利技术的玻璃优选液相温度下的粘度为10
4.2
dPa
·
s以上。此处，“液相温度下的粘度”可以利用铂球提拉法测定。
[0027]第十，本专利技术的玻璃优选为平板形状，且在板厚方向的中央部具有溢流合流面。即优选利用溢流下拉法成形而成。
[0028]第十一，本专利技术的玻璃优选用于有机EL设备。
具体实施方式
[0029]本专利技术的玻璃的特征在于，作为玻璃组成，以质量％计含有SiO255～70％、Al2O315～25％、B2O31～5％、Li2O+Na2O+K2O0～0.5％、MgO 0～4％、CaO 3～11％、SrO 0～4％、BaO 0～11％。以下示出如上述这样限定各成分的含量的理由。需要说明的是，各成分的含量的说明中，只要无特别说明，则％的表达表示质量％。
[0030]SiO2是形成玻璃骨架且提高应变点的成分。SiO2的含量为55～70％，优选为58～64％、尤其是59～62％。若SiO2的含量少，则应变点、耐酸性容易降低，且密度容易变高。另一方面，若SiO2的含量多，则高温粘度变高，熔融性容易降低，除此之外，玻璃成分的平衡被破坏，方石英等的失透结晶容易析出，液相温度容易变高。进而，基于HF的蚀刻速率容易降低。
[0031]Al2O3为提高应变点的成分，还是提高杨氏模量的成分。Al2O3的含量为15～25％，优选为17～23％、尤其是18～22％。若Al2O3的含量少，则应变点、比杨氏模量容易降低。另一方面，若Al2O3的含量多，则莫来石、长石系的失透结晶容易析出，液相温度容易变高。
[0032]质量％比SiO2/Al2O3是用于兼顾高应变点和高耐失透性的重要的成分比率。两成分如上所述具有提高应变点的效果，但若SiO2的量相对变多，则方石英等的失透结晶容易
析出。另一方面，若Al2O3的量相对变多，则莫来石、钙长石等碱土铝硅酸盐系的失透结晶容易析出。因此，摩尔％比SiO2/Al2O3优选为2.5～4、2.6～3.5、2.7～3.3、尤其是2.7～3.1。
[0033]B2O3为提高熔融性和耐失透性的成分。B2O3的含量为1～5％，优选为1.5～4％、大于1.5％且3％以下、尤其是2％以上且小于3％。若B2O3的含量少，则熔融性容易降低，且液相温度容易变高。此外，耐缓冲氢氟酸性(耐BHF性)容易降低。另一方面，若B2O3的含量多，则应变点、耐酸性、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种玻璃，其特征在于，作为玻璃组成，以质量％计含有SiO
2 55％～70％、Al2O
3 15％～25％、B2O
3 1％～5％、Li2O+Na2O+K2O 0％～0.5％、MgO 0％～4％、CaO 3％～11％、SrO 0％～4％、BaO 0％～11％，应变点高于715℃。2.如权利要求1所述的玻璃，其特征在于，作为玻璃组成，以质量％计含有SiO
2 55％～70％、Al2O
3 15％～25％、B2O
3 1.5％～4％、Li2O+Na2O+K2O 0％以上且小于0.1％、MgO 0％～3％、CaO 4％～10％、SrO 1％～4％、BaO 4％～11％。3.如权利要求1或2所述的玻璃，其特征在于，质量％比SiO2/Al2O3为2.5～3.1。4.如权利要求1～3中任一项所述的玻璃，其特征在于，质量％比CaO/BaO为4.0以...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐藤敦己，
申请(专利权)人：日本电气硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：