用在光学装置或电子装置中的固化涂层制造方法及图纸

技术编号:3149021 阅读:133 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及固化涂层,这种固化涂层包括:至少一种填料、聚烷氧基硅烷基体和固化涂层的总重的5.5至40.0%的至少一种固化氨基硅烷。这些固化涂层可用在光学装置或电子装置以及设备中,这些设备如灯。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用在如光学装置或电子装置中的固化涂层以及包括这 些固化涂层的设备。
技术介绍
有色涂层在本领域中是公知的。如WO 03/023816和WO 04/044487公开了设有光吸收涂层的灯容器。在将涂层涂覆到基底上时,这种基 底并不完全洁净。微粒甚至是化学惰性微粒的存在使这些微粒周围产 生某些非常局部化的应力并导致微裂紋,这些微裂紋可迅速扩散到整 个涂层。 一些含溶胶-凝胶的涂层可处理由微粒引起的应力,而并不发 生裂紋扩散。在工业中,多种因素可对基底造成污染。当这些污染物 在基底上出现时,涂层与基底之间的粘附性大大地降低。污染物还可 产生其它应力,这些应力并不能够由常规的溶胶-凝胶涂层进行处理。 这些效果可导致大裂紋和表皮脱落,尤其是在这种涂层经受温度变化 时。此外,许多污染物(如Zn、 Cl、 Sn、 Na、 Ca、 W、甘油或有才几树 脂如松香/松脂)相对于基底和/或涂层而言并不具有化学惰性。这些污 染物引致新的物理和/或化学过程和现象,这些新的物理和/或化学过程 和现象导致另外的应力和不良粘附。例如,这些污染物可局部修改涂 层的pH值、引致基体结构的修改或简单地与涂层本身的化合物发生反 应、修改正确的基体形成所要求的分子比例。在对涂层进行局部修改 时,涂层的结构并不均匀,而且会产生附加的应力。此外,某些基底在它们的表面上展示出相对较低的-OH和-O*密 度。在某些情形中,这是因为先前进行的表面处理的原因。这种低-OH 和-O密度通常不利于涂层粘附。
技术实现思路
本专利技术涉及固化涂层,例如,这种固化涂层用在光学装置或电子 装置中,其中,这种固化涂层包括 至少一种填料,聚烷氧基硅烷基体,以及5.5至40.0%的至少一种固化氨基硅烷。除非另有说明,百分比(% )是指基于固化涂层的总重的按重量 计算的量。在本专利技术的上下文中,填料是指包括本领域中任何公知的填料。 填料的实例包括无机填料、颜料和它们的混合物。无机填料的实例包 括二氧化硅SiOz、 二氧化钛TK)2、碳黑或氧化铝AhO;j。若这种填料包括颜料,则本专利技术中的固化涂层是光吸收涂层(有 色涂层)。在本专利技术的上下文中,颜料是指包括本领域中任何公知的颜料。 颜料的实例包括有机颜料、无机颜料和它们的混合物。在本专利技术的一 个方面,这种颜料选自由铁的氧化物、掺磷的铁的氧化物、锌铁氧化 物、铝酸钴、氧化钕、钒酸铋、硅酸锆镨或它们的混合物所组成的组。 氧化铁(Fe203)是橙色颜料,且掺磷Fe203是橙红色颜料。锌铁氧化 物如ZnFe204或ZnO,Fe204是黄色颜料。将(掺磷)Fez03与ZnFe204 混合产生深橙色层。铝酸钴(CoAl204)和氧化钕(Nd2Os)是蓝色颜 料。钒酸铋(BiV04)也称为钒铋矿,这种颜料呈黄绿色。硅酸锆镨是 黄色颜料。有机颜料的实例包括蒽醌颜料、偶氮颜料、异吲哚啉颜料 (isoindoline pigment) 、 二萘嵌苯颜料、吡喃酮颜料、吡唑啉酮颜料、硫靛颜料、三芳基甲烷颜料......。例如,Chromophtal黄(或双[4,5,6,7-四氯-3-氧代异巧l哚啉-1-亚基1-1,4-苯二胺(Bis4,5,6,7-tetrachloro-3-oxoisoindoline-l-ylidenel-l,4-phenylenediamine ), 化学 式C22H6Ci8N402且结构编号(constitution number) C.I.-56280 ); Ch腦ophtal红A2B (或(1-1,-二蒽-9,9,,10,10,-四酮,4,4,-二氨基 -(TSCA,DSL), C.I.=65300);或黄蒽醌(yellow anthraquinone)(或l,l,-二 -(6-苯基-1,3,5-三嗪-2,4 二基)二亚氨基J (l,l,-(6-phenyl-l,3,5-triazine-2,4diyl)diimino〗Bis-), 化 学 式 C37H21N504; C.I.-60645),……这种填料通常以微粒形状。这些微粒可具有各种尺寸。这种填料 可由各种量存在,填料的量可达最终的固化涂层的体积的75%。填料 的精确量可取决于精确的应用、技术目的和填料微粒的尺寸。熟练的 技术人员往往知道在所希望的颜色和/或所希望的机械性能基础上如何选择至少 一种填料并确定这种填料的量。聚烷氧基硅烷基体是本领域中熟练的技术人员公知的。在本专利技术的上下文中,这种基体可衍生于醇盐Si(OR)n或氧代醇盐SiO(OR)n (R =饱和或不饱和有机基团、烷基或芳基)、p-二酮盐Si(beta-dik)n (beta-dik-RCOCHCOR')或羧酸盐Si(02CR)n。在一个方面,该R或R' 基团可以是d-do烷基,优选是d-C6烷基,例如d-C4烷基,或者是 苯基。在另一个方面,n可以是介于1到4之间的任何整数,如象在 TEOS情形中的4、 MTMS情形中的3或p-二酮(diketonate)情形中 的2或1。在本专利技术的一个方面,这种聚烷氧基硅烷基体衍生于选自由四乙 氧基硅烷(tetraethoxysilane , TEOS )、 甲基三甲氧基珪烷 (methyltrimethoxysilane , MTMS )、 甲基三乙氧基硅烷 (methyltriethoxysilane , MTES )、 苯基三甲氧基硅烷 (phenyltrimethoxysilane , PTMS ) 和苯基三乙氧基硅烷 (phenyltriethoxysilane, PTES)所组成的组中的至少一种。通常将这种填料分散在这种基体中。本专利技术的固化涂层包括5.5至40.0%的至少一种固化氨基硅烷。根 据本专利技术,这种固化涂层可包括5.5至35.0 % 、 5.5至30.0 % 、 5.5至25.0 %、 5.5至20.0%、 5.5至15,0%、 5.5至14.0%、 5.5至13.0%、 5.5至 12.0% 、 5.6至11.0% 、 5.6至10.0% 、 5.7至9.5% 、 5.7至9.0% 、 5.8 至8.5%、 5.8至8.0%、 5.9至7.5%、 5,9至7.0%和5.9至6.9%的至少 一种固化氨基硅烷。在本专利技术的上下文中,氨基硅烷是指包括任何胺 官肯fe4t的-克氧基桂坑(aminefunctionalized alkoxysilicane)。这种氨基硅烷可具有一个或多个氨基。根据本专利技术的一个方面, 这种氨基硅烷可选自由x-烷基-氨丙基三烷氧基硅烷 (x-alkyl-aminopropyltrialkoxysilanes )和它们的混合物所组成的纟且。 在一个方面,这种烷基是d-do或d-C6烷基。在另一个方面,这种 烷氧基是CVdo或CrC6烷氧基。在再一个方面,这种烷基可以是甲 基、乙基或笨基;且这种烷氧基可以是甲氧基或乙氧基;x选自由0、 1和2所组成的组。在本专利技术的上下文中,氨基硅烷的实例还包括 (N,N-二甲氨基丙基)三甲氧基硅烷((N,N-dimethylaminopropyl)trimethoxysilane ( 2 Me-APTMS )),(N,N-二甲氨基丙基)三乙氧基硅烷((N,N-dimethylamin本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种固化涂层,所述固化涂层包括:至少一种填料,聚烷氧基硅烷基体,以及5.5至40.0%的至少一种固化氨基硅烷,其中,%是指基于所述固化涂层的总重的按重量计算的量。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2005-8-22 05300685.41.一种固化涂层,所述固化涂层包括至少一种填料,聚烷氧基硅烷基体,以及5.5至40.0%的至少一种固化氨基硅烷,其中,%是指基于所述固化涂层的总重的按重量计算的量。2. 如权利要求l所述的固化涂层,其特征在于所述涂层包括5.9 至6.9 %的至少 一种固化氨基硅烷。3. 如前面的权利要求中的任何一项所述的固化涂层,其特征在于 所述氨基硅烷选自由x-烷基-氨丙基三烷氧基硅烷所组成的组,且所述 烷基是甲基、乙基或苯基,所述烷氧基是甲氧基或乙氧基,x选自由0、 1和2所组成的组。4. 如前面的权利要求中的任何一项所述的固化涂层,其特征在于 所述氨基硅烷选自由(N,N-二甲氨基丙基)-三甲氧基硅烷、(N,N-二 甲氨基丙基)-三乙氧基硅烷和它们的混合物所组成的组。5. 如前面的权利要求中的任何一项所述的固化涂层,其特征在于 所述填料选自由有才凡颜料和无机颜料、无机填料和它们的混合物所组 成的组。6. 如前面的权利要求中的任何一项所述的固化涂层,其特征在于 所述颜料选自由锌4失氧化物、氧化铁、铝酸钴和chrom叩htal黄所组成的组。7. 如前面的权利要求中的任何...

【专利技术属性】
技术研发人员:N切钱M德诺特V默西尔M博默
申请(专利权)人:皇家飞利浦电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]

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