一种压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜制造技术

技术编号:31464275 阅读:47 留言:0更新日期:2021-12-18 11:40
本实用新型专利技术公开了一种压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜,包括有釜体,釜体的外侧设有夹层罩壳,夹层罩壳的内部设有电加热器,夹层罩壳的外侧设有保温隔热层;所述釜体的上方设有物料进口和测温器,底部的轴心处设有排料管,排料管上方设有搅拌轴,搅拌轴的周围设有搅拌叶;所述搅拌轴下端设有与排料管配合的堵头,上端活动贯穿釜体的顶壁后连接有搅拌电机,搅拌电机外侧设有固定在釜体顶部的支撑架,支撑架的顶部固定有升降气缸,升降气缸的伸缩轴竖直向下活动贯穿支撑架后固定连接在搅拌电机上。本实用新型专利技术具有不易堵塞,物料混合充分的特点;此外,还具有结构简单,设计合理的特点。理的特点。理的特点。

【技术实现步骤摘要】
一种压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜


[0001]本技术涉及一种水热反应釜,特别是一种压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜。

技术介绍

[0002]压敏陶瓷主要有SiC、TiO2、SrTiO3和ZnO四大类,但应用广、性能好的当属氧化锌压敏陶瓷,由于ZnO压敏陶瓷呈现较好的压敏特性,在电力系统、电子线路、家用电器等各种装置中都有广泛的应用,尤其在高性能浪涌吸收、过压保护、超导性能和无间隙避雷器方面的应用最为突出。
[0003]目前,ZnO压敏防雷芯片的生产是将10种左右的氧化物掺杂到主料ZnO中,采用球磨、造粒、成型、烧结的工艺制得ZnO压敏防雷芯片。但是有些元素的掺杂量较少,不易混合均匀均匀,严重影响了产品的一致性。为了提高ZnO压敏防雷芯片的均匀性电性能,研究人员对掺杂料采用了水热法合成技术,也就是通过水热反应将各原料成分进行预反应,使各元素之间充分的混合。
[0004]而水热法反应最直接的设备就是水热反应釜,利用高温高压的环境使反应釜内的原料进行水热反应,形成混合均匀的超细粉料。实验室研究用的水热反应釜通常为简单的桶状结构,没有其他的排料管等辅助结构,反应完成后将物料倾倒出来即可,但是工业上规模生产时反应釜体积大,不能倾倒,同时一次性加入的物料较多,因此,需要在反应釜的底部设置排料口,通过排料口将物料排出。其存在的技术问题是:排料口通常相对反应釜的底部具有一定的深度,物料加入后部分物料会沉入排料口内,这部分的物料通常不会随溶液体系一起循环流动,长时间反应后容易结块造成排料口堵塞,同时,由于压敏陶瓷制备时某些掺杂元素的掺入量本身就极少,如果该部分的元素沉入排料口内不与体系内的其他元素充分混合,则容易造成物料混合不均匀,达不到水热反应制备压敏陶瓷前驱粉体的目的。因此,有必要设计一种不易堵塞且物料能够充分混合的水热反应釜。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于,提供一种压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜。本技术具有不易堵塞,物料混合充分的特点;此外,还具有结构简单,设计合理的特点。
[0006]本技术的技术方案:一种压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜,包括有釜体,釜体的外侧设有夹层罩壳,夹层罩壳的内部设有电加热器,夹层罩壳的外侧设有保温隔热层;
[0007]所述釜体的上方设有物料进口和测温器,底部的轴心处设有排料管,排料管上方设有搅拌轴,搅拌轴的周围设有搅拌叶;
[0008]所述搅拌轴下端设有与排料管配合的堵头,上端活动贯穿釜体的顶壁后连接有搅拌电机,搅拌电机外侧设有固定在釜体顶部的支撑架,支撑架的顶部固定有升降气缸,升降气缸的伸缩轴竖直向下活动贯穿支撑架后固定连接在搅拌电机上。
[0009]前述的压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜,所述堵头呈倒圆台形,所述排料管的上端为与堵头配合的漏斗形。
[0010]前述的压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜,所述堵头与搅拌轴经轴承连接。
[0011]前述的压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜,所述堵头的周向上设有环形槽,环形槽内设有密封橡胶圈。
[0012]前述的压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜,所述密封橡胶圈的外侧面高于堵头的外侧面。
[0013]前述的压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜,所述环形槽和密封橡胶圈共设有多组,呈上下排列分布,其中最上面的一组环形槽和密封橡胶圈位于堵头的圆台侧面的顶端。
[0014]前述的压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜,所述支撑架上设有纵向的限位槽,所述搅拌电机的侧面固定连接有限位板,限位板的一端滑动连接于限位槽内。
[0015]本技术的有益效果:
[0016]1、本技术通过在搅拌轴的下端设置堵头,并用升降气缸调节搅拌轴的升降,在不影响排料管正常排料的同时,还可避免反应过程中物料进入排料管内,具有排料管不易堵塞和物料混合更加充分的优点。
[0017]2、本技术通过对堵头和排料管的形状进行特殊设计,并安装密封橡胶圈,封堵过程更顺利,密封性能更好,具有结构简单、设计合理的优点。
[0018]3、本技术通过在支撑架上设置限位槽,并利用限位板对搅拌电机进行限位,避免了搅拌过程中搅拌电机转动,同样具有设计合理的优点。
[0019]综上所述,本技术具有不易堵塞,物料混合充分,结构简单,设计合理的优点。
附图说明
[0020]附图1为本技术反应时的结构示意图;
[0021]附图2为本技术排料后的结构示意图;
[0022]附图3为堵头的结构示意图;
[0023]附图4为堵头的剖视图。
[0024]附图标记说明:1

釜体,2

夹层罩壳,3

电加热器,4

保温隔热层,5

物料进口,6

测温器,7

排料管,8

搅拌轴,9

搅拌叶,10

堵头,11

搅拌电机,12

支撑架,13

升降气缸,14

伸缩轴,15

轴承,16

环形槽,17

密封橡胶圈,18

限位槽,19

限位板。
具体实施方式
[0025]下面结合附图和实施例对本技术作进一步的说明,但并不作为对本技术限制的依据。
[0026]本技术的实施例:
[0027]一种压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜,如附图1

4所示,包括有釜体1,釜体1的外侧设有夹层罩壳2,夹层罩壳2的内部设有电加热器3用于对釜体1内进行加热,夹层罩壳2的外侧设有保温隔热层4用于保温和隔热;
[0028]所述釜体1的上方设有物料进口5和测温器6,底部的轴心处设有排料管7,排料管7上方设有搅拌轴8,搅拌轴8的周围设有搅拌叶9;
[0029]所述搅拌轴8下端设有与排料管7配合的堵头10,上端活动贯穿釜体1的顶壁后连接有搅拌电机11,搅拌电机11外侧设有固定在釜体1顶部的支撑架12,支撑架12的顶部固定有升降气缸13,升降气缸13的伸缩轴14竖直向下活动贯穿支撑架12后固定连接在搅拌电机11上。
[0030]工作时,首先启动升降气缸13,将搅拌电机11连同搅拌轴8一起向下推,使堵头10插入排料管7内,将排料管7封堵;然后再将压敏陶瓷各原料组分按比例从物料进口5投入釜体1内,将物料进口5用盖板密封,启动电加热器3和搅拌电机11,使釜体1内的物料在搅拌的状态下加热反应即可。反应结束后,停止搅拌电机11和电加热器3,启动升降气缸13向上将搅拌电机11和搅拌轴8一起提升,使堵头10脱离排料管7,打开与排料管7连接的管道上的排料阀门即可将物料排出;由于在整个加料和反应的过本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜,其特征在于:包括有釜体(1),釜体(1)的外侧设有夹层罩壳(2),夹层罩壳(2)的内部设有电加热器(3),夹层罩壳(2)的外侧设有保温隔热层(4);所述釜体(1)的上方设有物料进口(5)和测温器(6),底部的轴心处设有排料管(7),排料管(7)上方设有搅拌轴(8),搅拌轴(8)的周围设有搅拌叶(9);所述搅拌轴(8)下端设有与排料管(7)配合的堵头(10),上端活动贯穿釜体(1)的顶壁后连接有搅拌电机(11),搅拌电机(11)外侧设有固定在釜体(1)顶部的支撑架(12),支撑架(12)的顶部固定有升降气缸(13),升降气缸(13)的伸缩轴(14)竖直向下活动贯穿支撑架(12)后固定连接在搅拌电机(11)上。2.根据权利要求1所述的压敏陶瓷掺杂料水热合成用的水热反应釜,其特征在于:所述堵头(10)呈倒圆台形,所述排料管(7)的上端为与堵头(10)配合的漏斗形。3.根据权利要求2所述的压敏...

【专利技术属性】
技术研发人员:费自豪施斌张雷倪渤费安堃倪静杨林曾小勇冉井红
申请(专利权)人:贵阳高新益舸电子有限公司
类型:新型
国别省市:

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