EB双面辐照系统技术方案

本发明专利技术公开了一种EB双面辐照系统，包括放卷单元、EB辐照单元、收卷单元，还包括对基材两面分别进行涂布或印刷处理的第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元；以及将涂布或印刷后的基材两面分别引导至EB辐照单元的辐照区，并使基材的正反两面呈左右分布在辐照区以实现双面辐照的传导单元。本发明专利技术提供一种EB双面辐照系统，通过对固化设备的系统化布局设置，使得放卷输出的基材能通过第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元与传导单元的配合，将基材两面分别涂布或印刷相应的油墨、涂料、胶黏剂中的任意一种，呈左右分布的方式设置在辐照区，通过EB辐照单元对基材两面分别进行辐照，进而实现一套设备可同时完成基材两面的涂布或印刷以及辐照。布或印刷以及辐照。布或印刷以及辐照。

【技术实现步骤摘要】
EB双面辐照系统


[0001]本专利技术涉及一种膜材制备领域所使用的辐照设备。更具体地说，本专利技术涉及一种用在膜材制备情况下使用的EB双面辐照系统。

技术介绍

[0002]电子束(EB)是能量辐照技术的一种能量形式，EB固化是辐射固化的一种形式，它是一个以电子束为辐射源，诱导经特殊配制的百分之百反应性液体快速转变成固体的过程。EB固化需要专用的固化设备，其工作原理为：电子从一组线形阴极发出后，经过垂直均匀电场加速，在加速器辐照箱下得到帘状电子束。
[0003]而现有的EB固化装置通常只能对基材的一面进行固化操作，而无法实现一套设备对基材的两面进行固化操作，且现有技术的固化设备结构复杂，投资大、占地面积大、不利于集成和综合利用，当然地也有提出采用对间隔预定距离的双层基材进行辐照，以期望一台设备完成对基材的双面辐照，但这种结构布局的上下层辐照方式需要两层氮气，氮气用量会相差一倍，同时这种上下两层的辐照方式是要对上层材料穿透以后，才能对第2层材料进行辐照，即要求电子束固化上层表面后，同时要穿透上层基材，再辐射固化下层基材表面，故为了保证效果，需要加大电子束的能量，造价高、运行费用高。

技术实现思路

[0004]本专利技术的一个目的是解决至少上述问题和/或缺陷，并提供至少后面将说明的优点。
[0005]为了实现根据本专利技术的这些目的和其它优点，提供了一种EB双面辐照系统，包括放卷单元、EB辐照单元、收卷单元，还包括：
[0006]沿着基材走膜方向对基材两面分别进行涂布或印刷处理的第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元；
[0007]以及与第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元相配合，将涂布或印刷后的基材两面分别引导至EB辐照单元的辐照区，并使基材的正反两面呈左右分布在辐照区以实现双面辐照的传导单元。
[0008]优选的是，所述传导单元被配置为包括：
[0009]相对设置在辐照区下方的第一引导辊、第二引导辊；
[0010]与第一引导辊的输入侧相配合，以将从第一涂布或印刷单元输出的单面涂布或印刷基材输送至电子束辐照区的多个第一传导辊；
[0011]与第一引导辊的输出侧相配合，以将完成单面辐照的基材输出至第二涂布或印刷单元的多个第二传导辊；
[0012]与第二引导辊的输入侧相配合，以将从第二涂布或印刷单元输出的双面涂布或印刷基材输送至电子束辐照区的多个第三传导辊；
[0013]与第二引导辊的输出侧相配合，以将完成双面辐照的基材输出至收卷单元的多个
第四传导辊；
[0014]其中，各所述引导辊的直径被配置为大于各传导辊的直径，所述第一传导辊与第二传导辊、第三传导辊与第四传导辊在空间上错开设置。
[0015]优选的是，所述第一涂布单元、第二涂布单元均包括：
[0016]与各涂布单元相配合的第一涂布辊、第二涂布辊；
[0017]以及设置在第一涂布辊、第二涂布辊上方的第一限定辊、第二限定辊；
[0018]其中，所述放卷单元、第一涂布或印刷单元、所述第一传导单元、第二涂布或印刷单元、第二传导单元、收卷单元之间通过多个牵引辊实现连接，并将传递中的基材张紧。
[0019]优选的是，还包括与EB辐照单元相配合的氮气保护单元；
[0020]所述氮气保护单元被配置为包括相对设置在辐照区，且位于基材上方的两根氮气输出通道。
[0021]一种应用EB双面辐照系统的方法，包括：相对设置的第一引导辊、第二引导辊，在各涂布或印刷单元、传导辊的作用下，使基材的涂布或印刷面能呈左右分布在辐照区，构成左右独立辐照的模式，实现对基材的双面辐照。
[0022]本专利技术至少包括以下有益效果：其一，本专利技术通过对辐照系统的整体布局设置，使得放卷输出的基材能通过第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元与传导单元的配合，将基材两面分别涂布相应的油墨、涂料、胶黏剂中的任意一种，再通过EB辐照单元对基材两面分别进行辐照固化，进而实现一套设备可同时完成基材两面的涂布、印刷以及固化，同时通过对结构空间的布局，使得设备的集成度高，占地面积可控，综合利用率高，而在具体操作中，EB辐照单元可以根据不同需求，对材料消毒杀菌、固化、改性等。
[0023]其二，本专利技术通过传导单元的设计布置，使得基材涂布或印刷后的两面呈左右分布在辐照区，且基材涂布或印刷后的两面分别位于第一引导辊、第二引导辊上并朝向辐照区，以在输送过程中，完成对基材的双面辐照，保证辐照效果。
[0024]其三，本专利技术通过多个牵引辊的设置，使得基材在传输过程中能始终保持张紧状态，并根据第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元、第一传导单元、第二传导单元、EB辐照单元的空间布局位置进行牵引式传输，进而保证结构布局的合理性以及有效性。
[0025]其四，本专利技术的应用方法，使得基材涂布或印刷后的两面呈左右分布的方式设置在辐照区，构成左右独立辐照的模式，在涂层固化领域，同样是一台设备，解决了传统方式两台设备的功能，成本大幅度减少。
[0026]其五、本专利技术的左右独立辐照模式，其在对基材的正反面进行辐照以后，同样的电子束穿透深度是现有技术中单层辐照的2.4倍，也就是说同样的能量相对于同一基材，其穿透深度提升了2.4倍，在对基材进行辐照改性时，将有效降低EB设备成本，同时减少能耗。
[0027]其六，本专利技术的左右独立辐照模式，其相对于上下层的辐照模式，其在实现一台设备完成双面辐照的同时，其氮气保护只需要一层，氮气用量可控性高，成本低，且左右独立辐照模式，仅对材料表面进行辐造，同时可以根据需要控制左右两边不同的辐照剂量，相对于上下层的辐照模式来说，对设备的能量要求更低，辐照剂量控制更精准、对基材影响也更小。
[0028]本专利技术的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本专利技术的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。
附图说明
[0029]图1为本专利技术的一个实施例中EB双面辐照系统的结构布局示意图；
[0030]图2为本专利技术的另一个实施例中氮气通道与EB辐照单元配合的布局截面示意图。
具体实施方式
[0031]下面结合附图对本专利技术做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
[0032]应当理解，本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不配出一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。
[0033]需要说明的是，在本专利技术的描述中，术语指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，并不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0034]在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“套设/接”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种EB双面辐照系统，包括放卷单元、EB辐照单元、收卷单元，其特征在于，还包括：沿着基材走膜方向对基材两面分别进行涂布或印刷处理的第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元；以及与第一涂布或印刷单元、第二涂布或印刷单元相配合，将涂布或印刷后的基材两面分别引导至EB辐照单元的辐照区，并使基材的正反两面呈左右分布在辐照区以实现双面辐照的传导单元。2.如权利要求1所述的EB双面辐照系统，其特征在于，所述传导单元被配置为包括：相对设置在辐照区下方的第一引导辊、第二引导辊；与第一引导辊的输入侧相配合，以将从第一涂布或印刷单元输出的单面涂布或印刷基材输送至电子束辐照区的多个第一传导辊；与第一引导辊的输出侧相配合，以将完成单面辐照的基材输出至第二涂布或印刷单元的多个第二传导辊；与第二引导辊的输入侧相配合，以将从第二涂布或印刷单元输出的双面涂布或印刷基材输送至电子束辐照区的多个第三传导辊；与第二引导辊的输出侧相配合，以将完成双面辐照的基材输出至收卷单元的多个第四传导辊；其中，各所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾朝伟，李琦，曾利，罗德坤，刘帅，
申请(专利权)人：四川智研科技有限公司，
类型：发明
国别省市：