发光键盘制造技术

一种发光键盘，在盖体的底盖上具备有第一导光区域，该盖体上处于该第一导光区域外部表面有第一光源阻挡面，利用至少一发光单元对该第一导光区域提供一光源，使该光源的传导在该第一导光区域中扩散并受到该第一光源阻挡面的限制，最后投射至键盘部使键帽发光。由于该底盖取代过去设置导光层的需求，减少键盘的内部空间且能简易组装，具有使本实用新型专利技术符合轻薄化与大量工业生产的优势。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种发光键盘，尤其涉及一种具有导光区域底 盖的发光键盘。
技术介绍
现今社会中，计算机的使用领域与时机相当广泛，无论是桌上 型计算机，膝上型计算机，笔记本型计算机或网络电视，在任何环 境下皆有可能使用，但在低亮度或黑暗环境下，因为缺乏光线而无 法准确敲击键盘输出讯号。为解决此问题，目前已有多种发光键盘专利问世，例如美国专利第6284988、 6322229、 6199996、 6554442、 6179432号、中国台湾专利^^告号第509955、 465777、 535385、 438035、 570235、 468833、 516671号，均有提及一种利用内置式发 光片向外射出光源，从而让使用者可明确判断键盘敲击位置的发光 键盘。如中国台湾专利7>告第509955号所示，揭露一发光键盘，包 含一键盘部与 一装设于该键盘部下方的背光装置，该背光装置由键 盘部下方提供光源至键盘部，在一实施例中，该背光装置包含一具 有反射部的导光板、 一反光板与一光源，该光源设置于导光板側边， 由光源射出的光通过该导光板传送至各按键下方，再利用反射部将 光折射后使按键发光。如另一具有背光结构的键盘，于中国台湾专利第1269333号所 示，其背光结构是利用在底板与桥板间定义出一光源传导空间，并 在桥^反上对应键盘部与光传导空间之间至少^殳置一导光部，光源所 输出的光通过光源传导空间与导光部射入各按4定。但是，在上述两专利技术文献中发现，光源是利用一导光层、 导光对象或其它导光辅助对象以达成光源传导至键盘的目的，然而 增i殳此一导光层或导光对象势必造成4建盘厚度的增加，同时也增加 其重量，此外，该种设计还增添组装的复杂性，在计算机设备轻薄 化的趋势下，该设计显然不符合需求。
技术实现思路
本技术的主要目的在于，设法整合背光结构使计算机键盘 达到轻薄化，更有利于携带。为达到上述目的，本技术提供一 种发光键盘，其外层为一盖体，是由一上盖与一底盖相互组装而成， 并且在该上盖与底盖之间形成有一容置空间，该底盖具备有第一导 光区域，且该盖体的外侧表面位于该第一导光区域处有第一光源阻 挡面；在该容置空间内装设有一4建盘部，该键盘部包含有多个可受 力按压并依照按压方向位移的键帽、 一提供该键帽沿按压方向位移的连动机构、以及一受该键帽按压触动以输出电气讯号的电路板；此外，至少有一发光单元，为该盖体的第一导光区域提供光源，该 光源在该第一导光区域扩散并受该第一光源阻挡面限制，最后投射至该键盘部发出光亮。在该键盘部与该底盖间还可i殳有 一 遮蔽组 件，其上对应于各键帽的位置处具有透光区域，不对应各键帽的位 置为不透光区域，光源透过该透光区域使该键帽发光。通过本技术的发光键盘，可以减少过去导光层或导光对象 所占的内部空间，也可不需额外增添导光层或导光对象，有效使键盘达到轻薄化的目的。除此之外，利用底盖作为导光的设计，简化 开模与组装的过程，在工业制造中大幅减少成本并提高产品质量。附图i兑明附图说明图1是本技术发光键盘优选实施例的分解示意图；图2是本技术发光键盘优选实施例的剖面示意图；图3是本技术中该底盖仅局部具有导光区域的实施例的剖 面示意图；图4是本技术中该上盖与该底盖皆具有导光区域的实施例 的剖面示意图；图5-1是本技术中具有聚光柱底盖的实施例的剖面示意图；图5-2是本技术中具有另 一种聚光柱底盖的实施例的剖面 示意图；图6是本技术中具有桥板的实施例的分解示意图；以及 图7是本技术中非均匀发光的实施例的分解示意图。具体实施方式有关本技术的详细i兌明及4支术内容，现结合附图i兌明如下图1及图2是本技术发光键盘的优选实施例的分解示意图 与剖面示意图，如图所示，本技术为一种在黑暗中或低光源环境下4吏用的发光4定盘，其外部是一盖体10，该盖体10由一上盖11 与一底盖12相互组装而成，并且在该上盖11与底盖12间形成有 一容置空间13，至少该底盖12上具备有第一导光区域14，且该底 盖12的外侧表面位于该第一导光区域14处有第一光源阻挡面15， 该第一导光区域14可全面分布于该底盖12 (如图2所示)，或者4又 设置于底盖12的局部位置(如图3所示)；在该容置空间13内装 i殳有一键盘部20，该4建盘部20包含有一底寺反26，该底4反26上i殳 有多个可受力按压并依照按压方向位移的4定帽21，对应各键帽21 与该底板26间设有使该键帽21沿按压方向位移的多个连动才几构22 (在本实施例中是以架桥连动式才几构为例，也可为垂直升降型枳j 构，在本技术中连动才几构22的选择不加限制)，当该4建帽21 受力按压时，与该键帽相对应的连动机构22压制一弹性体23，以 触动一电路才反24车lT出电气ifl号；另外i殳置至少一发光单元30，可 依照需求选择为发光二极管、光纤板材或其它可发光的装置等，该 发光单元30可i殳置于该上盖11、该底盖12、或容置空间13内任: 一位置，该发光单元30用于为该底盖12的第一导光区域14提供 一光源，该光源可直4妻输入至该底盖12的第一导光区域14，或者 通过上盖11反射进入该第一导光区域14,使光源在该第一导光区 域14扩散并受该第一光源阻挡面15限制而向上才殳射至该一建盘部 20,发出光亮，其中该键盘部20的底板26、连动机构22、弹性体 23以及电路板24由透光材质制成，从而使通过该第一导光区域14 反射的光线可以顺利进入各键帽21。在本技术的再一实施例中，如图4所示，该盖体10的上 盖11部分的对应于第一导光区域14的光投射位置处还可具备第二 导光区域14，，在该上盖11的外侧表面位于该第二导光区域14，处 i殳有第二光源阻挡面is，，发光单元30提供一光源给该第二导光区 域14，，或者射入该第一导光区域14的光源再反射或传导至该第二 导光区i或14， ， 4吏上盖11与底盖12均可发出光亮，4吏光线充斥该 容置空间13内。为使输入各键帽21的光源达到聚光的效果，如图5-1所示，在 该底盖12的第一导光区域14的光投射位置对应键盘部20位置处 凸设至少一聚光柱16,以便光源集中输入该键盘部20，该聚光柱 16可为等宽柱体(图5-1 )或者为上窄下宽的柱体结构(图5-2 )。众所周知，键盘结构中还可利用桥板的设置以固定连动机构， 如图6所示为本技术另一实施例^旦非加以限定的实施形式，其 中利用一种桥板27承载该连动机构22，该桥板27设于该键帽21 与该电路玲反24之间，该桥玲反27也为透光材质，不会阻碍来自该底 盖12的第一导光区域14的光线投射至该4建盘部20。如图7所示，本技术的发光键盘还可达到如中国专利第 753434号非均匀发光的键盘的效果，即，在如该4建帽与该底板 间设有遮蔽组件，利用该遮蔽组件上所设的透光区域与不透光区 域，使键盘达到非均匀发光，且配置该遮蔽组件除该案的实施形式 外，可进一步在该4建盘部20与该底盖12间增i殳一遮蔽纽/f牛25,其 上对应于各键帽21的位置具有一透光区域251，不对应各4定帽21 的位置为不透光区域252,来自发光单元30的光源投射入该底盖 12的导光区域14后，再经本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光键盘，其特征在于：　　　　一盖体（１０），由一上盖（１１）与一底盖（１２）相互组装而成，并且在所述上盖（１１）与所述底盖（１２）间形成有一容置空间（１３），至少所述底盖（１２）上具备有第一导光区域（１４），且所述底盖（１２）的外侧表面的位于所述第一导光区域（１４）处有第一光源阻挡面（１５）；　　　　一装设于所述容置空间（１３）的键盘部（２０），所述键盘部（２０）包含有多个可受力按压并沿按压方向位移的键帽（２１）、一使所述键帽（２１）沿按压方向位移的连动机构（２２）、以及一受所述键帽（２１）按压触动以输出电气讯号的电路板（２４）；　　　　至少一发光单元（３０），为所述盖体（１０）的第一导光区域（１４）提供一光源，使得所述光源在所述第一导光区域（１４）扩散并受所述第一光源阻挡面（１５）限制而向上投射至所述键盘部（２０）以发出光亮。

【技术特征摘要】
1.一种发光键盘，其特征在于一盖体(10)，由一上盖(11)与一底盖(12)相互组装而成，并且在所述上盖(11)与所述底盖(12)间形成有一容置空间(13)，至少所述底盖(12)上具备有第一导光区域(14)，且所述底盖(12)的外侧表面的位于所述第一导光区域(14)处有第一光源阻挡面(15)；一装设于所述容置空间(13)的键盘部(20)，所述键盘部(20)包含有多个可受力按压并沿按压方向位移的键帽(21)、一使所述键帽(21)沿按压方向位移的连动机构(22)、以及一受所述键帽(21)按压触动以输出电气讯号的电路板(24)；至少一发光单元(30)，为所述盖体(10)的第一导光区域(14)提供一光源，使得所述光源在所述第一导光区域(14)扩散并受所述第一光源阻挡面(15)限制而向上投射至所述键盘部(20)以发出光亮。2. 根据权利要求1所述的发光键盘，其特征在于，所述盖体(10 ) 的上盖(11 )在对应所述底盖(12)的第一导光区域(14)的 光投射位置处具有第二导光区域(14，)，并...

【专利技术属性】
技术研发人员：周进文，
申请(专利权)人：新巨企业股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]