一种遮罩结构制造技术

技术编号:31367086 阅读:13 留言:0更新日期:2021-12-13 09:36
本实用新型专利技术公布一种遮罩结构,包括掩膜框架和掩膜薄片,所述掩膜薄片的顶部边缘设置在所述掩膜框架的底部上,所述掩膜薄片上设置多个的镂空区域,遮罩结构还包括多个的第一掩膜条和多个的第二掩膜条;多个的第一掩膜条的走向为平行于第一方向,多个的第二掩膜条的走向为平行于第二方向,所述第一方向交叉于所述第二方向,所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的两侧端部均设置在掩膜框架的内侧壁上,所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的底部均贴合在所述掩膜薄片的顶部上。上述技术方案可以消除掩膜薄片由于重力影响而变形的缺陷,延长掩膜薄片的使用寿命,提高成膜的质量。提高成膜的质量。提高成膜的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种遮罩结构


[0001]本技术涉及蒸镀
,尤其涉及一种遮罩结构。

技术介绍

[0002]有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,缩写OLED)的显示器件具备自发光特性、低功耗、宽视角、响应速度快、超轻超薄、抗震性好等特点,采用薄膜封装技术可实现OLED显示器件的可折叠、可弯折等特点。
[0003]薄膜封装技术(Thin Film Encapsulastion,缩写TFE),薄膜封装技术是在具有发光器件的衬底上,将有机材料蒸镀后,在发光器件上沉积Barrier layer(隔绝层)和Buffer layer(平坦层),起到隔绝水氧的作用。其中Barrier layer(隔绝层)多采用PECVD(化学气相沉积)机台来沉积无机薄膜,无机薄膜如氮化硅,其作用是起到阻隔水氧的作用。
[0004]并且每一层无机薄膜层对于基板的垂直投影面积要比前一层无机薄膜层对于基板的垂直面积要大,即后沉积的无机薄膜层的在基板上的投影边缘覆盖在前一层无机薄膜层在基板上的投影边缘。在外部环境中,无机薄膜层有效阻挡了水氧从侧边横向穿透进入器件,使得显示器件具有较好的封装效果。
[0005]现有的遮罩结构包括掩膜薄片(Sheet Mask)和掩膜框架(Frame Mask)。掩膜薄片的作用是遮挡非成膜区域,为了减少阴影区域(Sheet effact),掩膜薄片的厚度尽量做到很薄。掩膜框架的作用是保护Sheet Mask不变形,所以掩膜框架固定压合在掩膜薄片的四周。
[0006]现有的TFE的遮罩结构的缺点在于:
[0007]第一,但是掩膜薄片的中心区域没能得到支撑,使得掩膜薄片容易变形。
[0008]第二,每制备一层无机薄膜层需要对应一张TFE的遮罩结构,TFE的遮罩结构由因瓦(Invar)合金制备,价格昂贵,维护较高。

技术实现思路

[0009]为此,需要提供一种遮罩结构,解决现有遮罩结构中掩膜薄片容易受力而变形的问题。
[0010]为实现上述目的,本实施例提供了一种遮罩结构,包括掩膜框架和掩膜薄片,所述掩膜薄片的顶部边缘设置在所述掩膜框架的底部上,所述掩膜薄片上设置多个的镂空区域,遮罩结构还包括多个的第一掩膜条和多个的第二掩膜条;
[0011]多个的第一掩膜条的走向为平行于第一方向,多个的第一掩膜条相互平行,多个的第二掩膜条的走向为平行于第二方向,多个的第二掩膜条相互平行,所述第一方向交叉于所述第二方向,所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的两侧端部均设置在掩膜框架的内侧壁上,所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的底部均贴合在所述掩膜薄片的顶部上,所述第一掩膜条和所述第二掩膜条均用于加固掩膜薄片。
[0012]进一步地,所述掩膜框架的内侧壁上设置多个的孔,所述第一掩膜条可拆卸地安
装于孔中。
[0013]进一步地,所述孔包括依次设置的第一孔、第二孔、第三孔和第四孔,所述第二孔和所述第三孔之间的宽度为L1,所述第一孔和所述第四孔之间的宽度为L2,L2

L1的值在1500微米以上,L2

L1的值在6000微米以下。
[0014]进一步地,所述第一掩膜条的底部上具有多个的凸块,相邻两个凸块之间为第一凹槽,所述第一掩膜条通过凸块贴合在所述掩膜薄片的顶部上;
[0015]所述第二掩膜条穿过所述第一凹槽,两个第一掩膜条和两个第二掩膜条围绕成镂空区域的形状。
[0016]进一步地,所述第一掩膜条的顶部和所述掩膜框架的顶部相平,所述第二掩膜条的顶部和所述掩膜框架的顶部相平。
[0017]进一步地,所述第一方向垂直于所述第二方向。
[0018]区别于现有技术,上述技术方案利用第一掩膜条和第二掩膜条来支撑掩膜薄片,第一掩膜条和第二掩膜条可以设置在眼膜薄片的非镂空区域,对掩膜薄片起到很好的承重作用。上述技术方案可以消除掩膜薄片由于重力影响而变形的缺陷,延长掩膜薄片的使用寿命,提高成膜的质量。
附图说明
[0019]图1为
技术介绍
所述遮罩结构的剖面结构示意图;
[0020]图2为本实施例所述遮罩结构的俯视图;
[0021]图3为本实施例所述遮罩结构的侧视图;
[0022]图4为本实施例所述第一无机薄膜的第一掩膜条;
[0023]图5为本实施例所述第一无机薄膜的第二掩膜条;
[0024]图6为本实施例所述第二无机薄膜的第一掩膜条;
[0025]图7为本实施例所述第二无机薄膜的第二掩膜条。
[0026]附图标记说明:
[0027]1、掩膜框架;
[0028]2、掩膜薄片;
[0029]21、镂空区域;22、非镂空区域;
[0030]3、第一掩膜条;
[0031]31、第一凸块;第一凹槽;
[0032]4、第二掩膜条;
[0033]5、孔;
[0034]51、第一孔;52、第二孔;53、第三孔;54、第四孔。
具体实施方式
[0035]为详细说明技术方案的
技术实现思路
、构造特征、所实现目的及效果,以下结合具体实施例并配合附图详予说明。
[0036]请参阅图1至图7,本实施例提供一种遮罩结构,包括掩膜框架1和掩膜薄片2,结构如图1所示。所述掩膜薄片2的顶部边缘设置在所述掩膜框架1的底部上,所述掩膜薄片2上
设置多个的镂空区域21。所述镂空区域21作为薄膜材料沉积的通道,当薄膜材料汽化后通过镂空区域21沉积在衬底上,以形成薄膜。掩膜薄片2的中心区域没能得到支撑,掩膜薄片2容易受到作用力而变形,产生翘曲的掩膜薄片2不能完全贴合基板,导致薄膜材料从翘曲处进入,影响薄膜的阴影区域。为了解决如上问题,遮罩结构还包括多个的第一掩膜条3和多个的第二掩膜条4,结构如图2和图3所示。多个的第一掩膜条3的走向为平行于第一方向,多个的第一掩膜条3相互平行。多个的第二掩膜条4的走向为平行于第二方向,多个的第二掩膜条4相互平行。所述第一方向交叉于所述第二方向,使得第一掩膜条3和第二掩膜条4可以相互支撑。所述第一掩膜条3和所述第二掩膜条4的两侧端部均设置在掩膜框架1的内侧壁上,所述第一掩膜条3和所述第二掩膜条4的底部均贴合在所述掩膜薄片2的顶部上。所述第一掩膜条3和所述第二掩膜条4均用于加固掩膜薄片2。
[0037]上述技术方案利用第一掩膜条和第二掩膜条来支撑掩膜薄片,第一掩膜条和第二掩膜条可以设置在眼膜薄片的非镂空区域,对掩膜薄片起到很好的承重作用。上述技术方案可以消除掩膜薄片由于重力影响而变形的缺陷,延长掩膜薄片的使用寿命,提高成膜的质量。
[0038]优选的,所述第一掩膜条3和所述第二掩膜条4均设置在非镂空区域22,避免镂空区域21被遮挡住。需要说明的是,镂空区域21的形状一般为矩形,但不局限于此。
[0039]在某些实施例中,第一掩膜条和第二掩膜条可以围绕成一个新的镂空区域,新的镂空区域的开口位于原先的镂空区域中,此时第一掩膜条本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种遮罩结构,包括掩膜框架和掩膜薄片,所述掩膜薄片的顶部边缘设置在所述掩膜框架的底部上,所述掩膜薄片上设置多个的镂空区域,其特征在于,遮罩结构还包括多个的第一掩膜条和多个的第二掩膜条;多个的第一掩膜条的走向为平行于第一方向,多个的第一掩膜条相互平行,多个的第二掩膜条的走向为平行于第二方向,多个的第二掩膜条相互平行,所述第一方向交叉于所述第二方向,所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的两侧端部均设置在掩膜框架的内侧壁上,所述第一掩膜条和所述第二掩膜条的底部均贴合在所述掩膜薄片的顶部上,所述第一掩膜条和所述第二掩膜条均用于加固掩膜薄片。2.根据权利要求1所述的一种遮罩结构,其特征在于,所述掩膜框架的内侧壁上设置多个的孔,所述第一掩膜条可拆卸地安装于孔中。3.根据权利要求2所述的一种遮罩结构,其特征在于,所述孔包括依次设置的...

【专利技术属性】
技术研发人员:温质康乔小平苏智昱
申请(专利权)人:福建华佳彩有限公司
类型:新型
国别省市:

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